光纤光谱仪测量薄膜厚度原理

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  • 综合概述 SM200是一款利用利用薄膜反射光干涉原理研 制而成的自动薄膜厚度测绘仪。它利用波长范围最宽 为200-1700nm的光垂直入射到薄膜表面,只要薄膜有 一定程度的透射,SM200就能根据反射回来的干涉光 谱拟合计算出薄膜的厚度,以及其他光学常数如反射 率、折射率和消光系数等,其厚度最大测绘范围可以 达到1nm~250um。SM200自动光学薄膜厚度测绘仪由测绘主机、测 绘平台、Y型光纤及上位机软件搭建而成,核心器件 采用高分辨率、高灵敏度光谱仪结合奥谱天成独有的 算法技术,为用户提供的全新一代领先的自动光学薄 膜厚度测量仪。产品特征  非接触式、非破坏性的测试系统; 超长寿命光源,更高的发光效率;  高分辨率、高灵敏度光谱仪,测量结果更准确可靠; 软件界面直观,操作方便省时;  历史数据存储,帮助用户更好掌握结果;  桌面式分布设计,适用场景丰富;  维护成本低,保养方便;应用领域 基本上所有光滑的、半透明的或低吸收系数的薄膜都可以测绘,这几乎包含了所有的电介质和半导体材料,包括: 氧化硅、氮化层、类钻薄膜、多晶硅、光刻胶、高分子、聚亚酰胺、非晶硅等。  半导体镀膜:光刻胶、氧化物、淡化层、绝缘体上硅、晶片背面研磨  液晶显示:间隙厚度、聚酰亚胺、ITO 透明导电膜  光学镀膜:硬涂层、抗反射层;  微电子系统:光刻胶、硅系膜状物、印刷电路板;  生物医学:医疗设备、Parylene产品外观
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  • 产品简介:TF200薄膜厚度测量系统利用薄膜干涉光学原理,对薄膜进行厚度测量及分析。用从深紫外到近红外可选配的宽光谱光源照射薄膜表面,探头同位接收反射光线。TF200根据反射回来的干涉光,用反复校准的算法快速反演计算出薄膜的厚度。测量范围1nm-3mm,可同时完成多层膜厚的测试。对于100nm以上的薄膜,还可以测量n和k值。产品型号TF200-VISTF200-EXRTF200-DUVTF200-XNIR主要特点快速、准确、无损、灵活、易用、性价比高应用领域半导体(SiO2/SiNx、光刻胶、MEMS,SOI等)LCD/TFT/PDP(液晶盒厚、聚亚酰胺ITO等)LED (SiO2、光刻胶ITO等)触摸屏(ITO AR Coating反射/穿透率测试等)汽车(防雾层、Hard Coating DLC等)医学(聚对二甲苯涂层球囊/导尿管壁厚药膜等) 波长范围380-1050nm380-1700nm190-1100nm900-1700nm厚度范围50nm-40um50nm-300um1nm-30um10um-3mm准确度(取决于材料0.4%或2nm之间取较大者)2nm2nm1nm10nm精度0.2nm0.2nm0.2nm3nm入射角90°90°90°90°样品材料透明或半透明透明或半透明透明或半透明透明或半透明测量模式反射/透射反射/透射反射/透射反射/透射光斑尺寸(可选微光斑附件。)2mm2mm2mm2mm是否能在线是是是是扫描选择XY可选XY可选XY可选XY可选
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  • 厂家正式授权代理商:岱美有限公司联系电话:,(贾先生)联系地址:北京市房山区启航国际3期5号楼801公司网址:ThetaMetrisis是一家私有公司,成立于2008年12月,位于希腊雅典,是NCSR' Demokritos' 的微电子研究所的第一家衍生公司。ThetaMetrisis的核心技术是白光反射光谱(WLRS),它可以在几埃到几毫米的超宽范围内,准确而同时地测量堆叠的薄膜和厚膜的厚度和折射率。 FR-Mic: 微米级薄膜表征-厚度,反射率,折射率及消光系数测量仪一、产品简介: FR-Mic 是一款快速、准确测量薄膜表征应用的模块化解决方案,要求的光斑尺寸小到几个微米,如微图案表面,粗糙表面及许多其他表面。它可以配备一台专用计算机控制的 XY 工作台,使其快速、方便和准确地描绘样品的厚度和光学特性图。o 实时光谱测量o 薄膜厚度,光学特性,非均匀性测量,厚度映射o 使用集成的, USB 连接高品质彩色摄像机(CCD)进行成像 二、应用领域 o 大学 & 科研院所o 半导体(氧化物、氮化物、硅、电阻等)o MEMS 元器件 (光刻胶、硅薄膜等)o LEDo 数据存储元件o 弯曲基材(衬底)上的硬/软涂层o 聚合物涂层、粘合剂等o 生物医学( parylene—— 派瑞林,气泡壁厚,等等 )o 其他更多 … (如有需求,请与我们取得联系) 三、产品特点o 单点分析(无需预设值)o 动态快速测量o 包括光学参数(n和k,颜色)o 为演示保存视频o 600 多种的预存材料o 离线分析o 免费软件更新 四、技术参数 FR-Scanner 自动化超高速精准薄膜厚度测量仪 一、产品简介: FR-Scanner 是一种紧凑的台式工具,适用于自动测绘晶圆片上的涂层厚度。FR-Scanner 可以快速和准确测量薄膜特性:厚度,折射率,均匀性,颜色等。真空吸盘可应用于任何直径或其他形状的样片。 独特的光学模块可容纳所有光学部件:分光计、复合光源(寿命10000小时)、高精度反射探头。因此,在准确性、重现性和长期稳定性方面保证了优异的性能。FR-Scanner 通过高速旋转平台和光学探头直线移动扫描晶圆片(极坐标扫描)。通过这种方法,可以在很短的时间内记录具有高重复性的精确反射率数据,这使得FR-Scanner 成为测绘晶圆涂层或其他基片涂层的理想工具。测量 8” 样片 625 点数据60 秒 二、应用领域o 弯曲基材(衬底)上的硬/软涂层o 聚合物涂层、粘合剂等o 生物医学( parylene—— 派瑞林,气泡壁厚,等等 )o 半导体生产制造:(光刻胶, 电介质,光子多层结构, poly-Si,Si, DLC )o 光伏产业o 液晶显示o 光学薄膜o 聚合物o 微机电系统和微光机电系统o 基底: 透明 (玻璃, 石英, 等等) 和半透明 三、产品特点o 单点分析(无需预设值)o 动态快速测量o 包括光学参数(n和k,颜色)o 为演示保存视频o 600 多种的预存材料o 离线分析o 免费软件更新 四、技术参数FR-Scanner: 自动化超高速薄膜厚度测量仪 FR-pOrtable:一款USB驱动的薄膜表征工具 一、产品简介: FR-pOrtable 是 一 款独 特 的 便 携 式 测 量 仪器 , 可 对 透 明 和 半 透明 的 单 层 或 多 层 堆 叠薄 膜 进 行 精 确 的 无 损(非接触式)表征。使用 FR-pOrtable,用户可以在 380-1020nm 光谱范围内进行反射率和透射率测量及薄膜厚度测量。二、应用领域o 大学 & 科研院所o 半导体(氧化物、氮化物、硅、电阻等)o MEMS 元器件 (光刻胶、硅薄膜等)o LEDo 数据存储元件o 弯曲基材(衬底)上的硬/软涂层o 聚合物涂层、粘合剂等o 生物医学( parylene—— 派瑞林,气泡壁厚,等等 )o 其他更多 … (如有需求,请与我们取得联系) 三、应用领域 FR-pOrtable的紧凑尺寸以及定制设计的反射探头以及宽带长寿命光源确保了高精度和可重复的便携式测量。 FR-Portable既可以安装在提供的载物台上,也可以轻松转换为手持式厚度测量工具。放置在待表征的样品上方即可进行测量。 FR-Portable是用于工业环境(如R2R、带式输送机等)中涂层实时表征的可靠而精确的测厚仪。四、产品特点o 一键分析 (无需初始化操作)o 动态测量o 测量光学参数(n & k, 颜色),膜厚o 自动保存演示视频o 可测量 600 多种不同材料o 用于离线分析的多个设置o 免费软件更新服务 五、技术参数FR-pRo: 按需可灵活搭建的薄膜特性表征工具一、产品简介: FR-pRo 是一个模块化和可扩展平台的光学测量设备,用于表征厚度范围为1nm-1mm 的涂层.FR-pRo 是为客户量身定制的,并广泛应用于各种不同的应用 。 FR-pRo 可由用户按需选择装配模块,核心部件包括光源,光谱仪(适用于 200nm-2500nm 内的任何光谱系统)和控制单元,电子通讯模块此外,还有各种各种配件,比如:? 用于测量吸收率/透射率和化学浓度的薄膜/试管架,? 用于表征涂层特性的薄膜厚度工具,? 用于控制温度或液体环境下测量的加热装置或液体试剂盒,? 漫反射和全反射积分球通过不同模块组合,最终的配置可以满足任何终端用户的需求 二、应用领域o 弯曲基材(衬底)上的硬/软涂层o 聚合物涂层、粘合剂等o 生物医学( parylene—— 派瑞林,气泡壁厚,等等 )O 半导体生产制造:(光刻胶, 电介质,光子多层结构, poly-Si,Si, DLC )o 光伏产业o 液晶显示o 光学薄膜o 聚合物o 微机电系统和微光机电系统o 基底: 透明 (玻璃, 石英, 等等) 和半透明 三、产品特点o 单点分析(无需预设值)o 动态快速测量o 包括光学参数(n和k,颜色)o 为演示保存视频o 600 多种的预存材料o 离线分析o 免费软件更新 四、技术参数
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光纤光谱仪测量薄膜厚度原理相关的方案

光纤光谱仪测量薄膜厚度原理相关的论坛

  • XRF测量薄膜厚度的原理是什么?

    听说可以用XRF来测量薄膜厚度,并且可以测多层膜的厚度,但是不知道原理是什么。请版上的各位老师介绍一下技术原理与操作时注意要点。 万分感谢!

  • 【讨论】椭偏仪测量薄膜厚度

    在si片上镀一层纳米碳膜,碳膜表面光洁如镜面,采用椭偏仪测量薄膜的厚度,测量时选择基底材料为si,将k设为0(透明薄膜,不知是否准确或透明薄膜如何定义?),根据SEM测量得到的薄膜厚度拟合得到一个n值(2.0921),采用此n值对类似情况下制备的薄膜进行厚度测量,测量得到的结果还行,基本与肉眼看到的薄膜厚度差别相当。不知此方法是否正确?1.是否能采用透明膜的测量方法测量碳膜?2.采用同一n值测量厚度是否合适?希望高手指点,谢谢!

  • 【求助】测量薄膜厚度

    我现在需要测量ITO薄膜的厚度,透明的薄膜,大概200纳米左右。用椭偏仪行不行?是不是还需要薄膜的折射率?希望各位大侠指导一下[em61] [em09]

光纤光谱仪测量薄膜厚度原理相关的耗材

  • 薄膜厚度测量系统配件
    薄膜厚度测量系统配件是一种模块化设计的薄膜厚度测量仪,可灵活扩展成精密的薄膜测量仪器,可在此基础上衍生出多种基于白光反射光谱技术的薄膜厚度测试仪,比如标准吸收/透过率,反射率的测量,薄膜的测量,薄膜温度和厚度的测量。薄膜厚度测量系统配件:核心模块----光谱仪;外壳模块----各种精密精美的仪器外壳;工作面积模块----测量工作区域;光纤模块----根据不同测量任务配备各种光纤附件;测量室-/环境罩---给测量带去超净工作区域。薄膜厚度测量仪核心模块---光谱仪孚光精仪提供多种光谱仪类型,不同光谱范围和光源,满足各种测量应用
  • 高精度膜厚仪|薄膜测厚仪A3-SR光学薄膜厚度测量(卤素灯)
    目标应用: 半导体薄膜(光刻胶) 玻璃减反膜测量 蓝宝石薄膜(光刻胶) ITO薄膜 太阳能薄膜玻璃 各种衬底上的各种膜厚 卷对卷柔性涂布 颜色测量 车灯镀膜厚度 其他需要测量膜厚的场合 阳极氧化厚度产品型号A3-SR-100 产品尺寸 W270*D217*(H90+H140)测试支架(配手动150X150毫米测量平台和硅片托盘)测试方式可见光,反射 波长范围380-1050纳米光源钨卤素灯(寿命10000小时) 光路和传感器光纤式(FILBER )+进口光谱仪 入射角0 度 (垂直入射) (0 DEGREE) 参考光样品硅片光斑大小LIGHT SPOTAbout 1 mm(标配,可以根据用户要求配置)样品大小SAMPLE SIZE150mm,配150X150毫米行程的工作台和6英寸硅片托盘 膜厚测量性能指标(THICKNESS SPECIFICATION):产品型号A3-SR-100厚度测量 1Thickness15 nm - 100 um 折射率 1(厚度要求)N 100nm and up准确性 2 Accuracy 2 nm 或0. 5%精度 3precision0.1 nm1表内为典型数值, 实际上材料和待测结构也会影响性能2 使用硅片上的二氧化硅测量,实际上材料和待测结构也会影响性能3 使用硅片上的二氧化硅(500纳米)测量30次得出的1阶标准均方差,每次测量小于1秒.
  • 等厚度薄膜制样工具
    specac_迷你等厚度薄膜制样套装等厚度薄膜制样工具主要用于高分子材料的光谱测定。根据热压制膜原理,所得到样品是纯样品,谱图中只出现样品信息。Specac公司为满足客户的不同需求,提供了3种等厚度薄膜制样工具。不仅可以将较厚的聚合物变成更薄的薄膜,还可以将粒状、块状或板材等不规则形状的聚合物变成可以用光谱检测的薄膜。视频:http://v.youku.com/v_show/id_XNDg3ODI1OTc2.html 点击观看视频

光纤光谱仪测量薄膜厚度原理相关的资料

光纤光谱仪测量薄膜厚度原理相关的资讯

  • Filmetrics在台湾和慕尼黑成立薄膜厚度测量实验室
    加利福尼亚州圣地亚哥--(美国商业资讯)--Filmetrics 宣布在台湾台南和德国慕尼黑成立薄膜厚度测量实验室。该实验室不仅为亚洲和欧洲提供薄膜厚度支持中心,而且都并网到 Filmetrics 全球支持网来及时为我们的客户提供网络上和电话上的支持。新增设的两个实验室完成了我们的二十四小时全世界支持网来实现实时视频,远程诊断,以及在线“动手”服务。 这在实时支持薄膜厚度测量用户上标志着一个重要进展。  新的实验室将会支持所有的F20应用,包括半导体,太阳能,显示器,以及生物医学工业。Filmetrics 总裁查斯特博士说,“从现在起我们欧洲和亚洲的客户可以享有我们在美国的客户所享有的高水平的支持。并且,我们新的24小时支持网就好像Filmetrics应用工程师每天任何时候都坐在他们旁边。“  Filmetrics仪器用白色光照射薄膜,再根据测量光谱反射来确定薄膜厚度。波长范围可在220到1700纳米之间选择。Filmetrics软件分析收集到的光谱数据,从而确定厚度,光学常数,和其他用户选择的参数。  公司网站 http://cn.filmetrics.com  Filmetrics公司介绍  凭借多年薄膜厚度测量的经验和遍布全球的技术支持中心,Filmetrics提供了简单易用的仪器和无可比拟的支持。总部位于加利福尼亚州圣地亚哥,Filmetrics拥有全系列薄膜厚度测量系统,并不断开发更有效的薄膜测量新产品和技术。Filmetrics成立于1995年,并迅速奠定了台式薄膜测量行业的领导地位。  联系方式:  查斯特博士, Filmetrics, Inc., +1-858-573-9300  电邮:chalmers@filmetrics.com
  • 高光谱成像技术在薄膜厚度检测中的应用
    研究背景在薄膜和涂层行业中,厚度是非常重要的质量参数,厚度和均匀性指标严重影响着薄膜的性能。目前,薄膜厚度检测常用的是X射线技术和光谱学技术,在线应用时,通常是将单点式光谱仪安装在横向扫描平台上,得到的是一个“之”字形的检测轨迹(如下图左),因此只能检测薄膜部分区域的厚度。SPECIM FX系列行扫描(推扫式成像)高光谱相机可以克服上述缺点。在每条线扫描数据中,光谱数据能覆盖薄膜的整个宽度(如上图右),并且有很高的空间分辨率。 实验过程 为了验证高光谱成像技术在膜厚度测量上的应用,芬兰Specim 公司使用高光谱相机SPECIM FX17(935nm-1700nm))测量了4 种薄膜样品的厚度,薄膜样品的标称厚度为17 μm,20 μm,20 μm和23 μm. 使用镜面几何的方法,并仔细检查干涉图形,根据相长干涉之间的光谱位置及距离,可以推导出薄膜的厚度值。通过镜面反射的方式测量得到的光谱干涉图,可以转化为厚度图使用 Matlab 将光谱干涉图转换为厚度热图,通过SPECIM FX17相机采集的光谱数据,计算的平均厚度为18.4 μm、20.05 μm、21.7 μm 和 23.9 μm,标准偏差分别为0.12 μm、0.076 μm、0.34 μm和0.183 μm。当测量薄膜时,没有拉伸薄膜,因此测量值略高于标称值。此外,在过程中同时检测到了薄膜上的缺陷,如下图所示,两个缺陷可能是外部压力造成的压痕。结论SPECIM FX17高光谱相机每秒可采集多达数千条线图像,同时可以对薄膜进行100%全覆盖在线检测,显著提高了台式检测系统的检测速度,提高质量的一致性并减少浪费。与单点式光谱仪相比,高光谱成像将显著提高薄膜效率和涂层质量控制系统,同时也无X射线辐射风险。 理论上,SPECIM FX10可以测量1.5 μm到30 μm的厚度,而SPECIM FX17则适用于4 μm 到90 μm的厚度。如需了解更多详情,请参考:工业高光谱相机-SPECIM FX:https://www.instrument.com.cn/netshow/C265811.htm
  • ADVANCE RIKO发布聚合物薄膜厚度方向热电性能评价系统ZEM-d新品
    聚合物薄膜厚度方向热电性能评价系统ZEM-d日本ADVANCE RIKO公司塞贝克系数与电阻测量系统ZEM系列在全球销售量超过300台,广获全球科研及工业用户的赞誉,成为热电材料领域“标杆型”测试设备。2019年,在此前的成功基础上,ADVANCE RIKO公司推出了专门用于评价聚合物厚度方向上热电性能的全新设备ZEM-d。与之前ZEM系列产品(ZEM-3/ZEM-5)不同,新型号ZEM-d主要测量聚合物薄膜厚度方向上的塞贝克系数和电阻率,可以测量的样品最薄为10μm。此外,ZEM-d与采用激光闪光法测量薄膜的热扩散率/导热系数测量方向一致,其测量结果可广泛应用于薄膜热电材料的性能评价。ZEM-d测量原理现存测试方法ZEM-d(厚度方向测量)电阻率测量原理塞贝克系数测量原理ZEM-d技术参数测量参数 塞贝克系数,电阻率温度范围 最高200℃(样品表面)样品尺寸 截面:Φ20mm(Max),长度:0.01-20mm测量氛围 空气或惰性气体软件界面创新点:ZEM-d主要测量聚合物薄膜厚度方向上的塞贝克系数和电阻率,可以测量的样品最薄为10μ m。此外,ZEM-d与采用激光闪光法测量薄膜的热扩散率/导热系数测量方向一致,其测量结果可广泛应用于薄膜热电材料的性能评价。聚合物薄膜厚度方向热电性能评价系统ZEM-d

光纤光谱仪测量薄膜厚度原理相关的试剂

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