数显控制仪的原理

SWK-B型可控硅数显温度控制器 该控制器可与箱形高温电阻炉（马弗炉），双管定硫炉、灰熔点测定炉或其它电热设备配合，实现对炉内温度自动控制，以适应不同的试验对升温速度及控制温度的不同要求。 ◆SWK-B型控制器采用数字显示指示温度，炉温显示清晰准确。 ◆使用双向可控硅输出控制，切换无触电，具有寿命长、无噪声等优点。 ◆具有PID调节功能，能有效克服炉温过冲的现象，使得温度控制更准确。 ◆输出电压0～220V连续可调，可适应不同的升温速度要求。 ◆电源：AC 220V±10% ，50HZ ◆全导通输出电压可调 ◆最大允许负载5KW 使用说明书（节选）一、概述SWK-B型数显温度控制器用于配合箱形高温电阻炉、定硫炉及其它电加热设备，实现对炉内温度的自动控制，以适应不同的试验项目对升温速度和温度的不同要求。其主要特点有：1. 温度设定与测量采用数字显示，直观准确 2. 采用双向可控硅控制输出，切换无触点，具有使用寿命长，无噪音等优点。3. 具有PID调节功能，能有效克服炉温过冲现象，使温度控制更准确。4. 输出电压无级调节，可适应不同的升温速度要求。二、主要参数1. 输入电压：220V±10%,50HZ2. 输出电压：0～220V连续可调3. 最大允许负载：5KW4. 精度等级：0.5级5. 配用电偶：镍铬-镍硅，K值，0～1000℃6. 工作环境：0～40℃，相对湿度≯85％三、使用方法1. 使用前应首先检查控制器的内部接线是否脱落，如有松动应按原理图接好，可控硅管壳与散热器应接触良好，保证元件工作是散热正常。2. 控制器不应放置在具有剧烈震动的场合，控制器内部应保持清洁。3. 按电控器上所标输入（220V），输出位置，将电源与负载接好。4. 控制原理图见下图5. 打开电源开关键，工作指示灯亮，表示电源已接通。6. 顺时针转动电压调节选钮，使电压表指示到合适强度(220v),拨动”数显调节仪”右下方开关到设定（OFF）后, 顺时针转动开关上面的调节选钮，使温度显示到需要设定值；设定后，开关拨到测量（ON），绿灯亮开始工作，温度达到设定值后红灯亮，停止工作。四、常见故障及产生原因：......

半导体晶片温度控制是目前针对半导体行业所推出的控温设备，无锡冠亚半导体晶片温度控制采用全密闭循环系统进行制冷加热，制冷加热的温度不同，型号也是不同，同时，在选择的时候，也需要注意制冷原理。　　半导体晶片温度控制制冷系统运行中是使用某种工质的状态转变，从较低温度的热源汲取必需的热量Q0，通过一个消费功W的积蓄过程，向较热带度的热源发出热量Qk。在这一过程中，由能量守恒取 Qk=Q0 + W。为了实现半导体晶片温度控制能量迁移，之初强制有使制冷剂能达到比低温环境介质更低的温度的过程，并连续不断地从被冷却物体汲取热量，在制冷技巧的界线内，实现这一过程有下述几种根基步骤:相变制冷:使用液体在低温下的蒸发过程或固体在低温下的消溶或升华过程向被冷却物体汲取热量。平常空调器都是这种制冷步骤。气体膨胀制冷:高压气体经绝热膨胀后可达到较低的温度，令低压气体复热可以制冷。气体涡流制冷:高压气体通过涡流管膨胀后可以分别为热、冷两股气流，使用凉气流的复热过程可以制冷。热电制冷:令直流电通过半导体热电堆，可以在一端发生冷效应，在另一端发生热效应。　　半导体晶片温度控制在运行过程中，高温时没有导热介质蒸发出来，而且不需要加压的情况下就可以实现-80～190度、-70～220度、-88～170度、-55～250度、-30～300度连续控温。半导体晶片温度控制的原理和功能对使用人员来说有诸多优势： 因为只有膨胀腔体内的导热介质才和空气中的氧气接触（而且膨胀箱的温度在常温到60度之间），可以达到降低导热介质被氧化和吸收空气中水分的风险。　　半导体晶片温度控制中制冷原理上如上所示，用户在操作半导体晶片温度控制的时候，需要注意其制冷的原理，在了解之后更好的运行半导体晶片温度控制。