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做多晶硅检测,按照国标方法使用硝酸:氢氟酸(1:2)溶解多晶硅,在160℃电热板上加热蒸干赶硅,多次加酸后赶硅,硅还是有残留,请问怎么解决能将硅赶完。
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好像版面不少多晶硅行业的同行,发一个多晶硅中B、P的检测方法,即将发布的国标,不过用的是低温红外法,希望能有用。[img]http://www.instrument.com.cn/bbs/images/affix.gif[/img][url=http://www.instrument.com.cn/bbs/download.asp?ID=147314]多晶硅B、P分析[/url][img]http://www.instrument.com.cn/bbs/images/affix.gif[/img][url=http://www.instrument.com.cn/bbs/download.asp?ID=147313]多晶硅B、P分析[/url]