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石英裂解管被吹鼓包,需要什么条件,温度多少,气压多少?
1.裂解器 裂解器是完成裂解反应的装置,它可控制样品裂解的温度和时间,因此,裂解器的性能对结果的影响是不言而喻的。我们将在下一节详细介绍裂解器的性能指标,这里仅就裂解器的选择作一简单讨论。 目前商品化的四类裂解器为热教(带)裂解器、居里点裂解器、管式炉(包括微型炉)裂解器和激光裂解器。这些裂解器各有其优缺点(见下一节),选择裂解器首先要根据研究的目的和样品的性质,其次是实验室现有条件。当涉及到样品的降解机理时,必须考虑加热元件对样品的催化作用。热丝(带)裂解器和微型炉裂解器的样品负载元件多由铂制成,居里点裂解器则由铁、镍、钻的合金材料制成。裂解室(裂解时样品负载元件置于其中)多由内衬玻璃或石英的不锈钢制成。样品在这些加热的金属表而可能受到催化作用,或发生二次反应,从而造成分析结果的误差。尤其当研究生物大分子的裂解,或者是其他能产生强极性、热不稳定裂解产物的样品时,更应考虑这一点。这时就应选择那些有玻璃和石英内衬的裂解器,或者用石英样品管将样品与金属隔开。2.裂解温度 裂解温度一般是指裂解器的设定温度,而裂解时样品实际达到的温度常被称为平衡温度,后者低于或等于前者。合适的裂解温度应当使样品的裂解过程以初级反应为主。温度过高,样品裂解的初级反应加剧,二次反应大为增加。温度过低,样品裂解不完全。对于大多数样品,合适的裂解温度在400-800℃之间。如合成高分子样品多采用600℃左右的裂解温度,微生物和生物大分子样品多采用500-1000℃,而药物分析的裂解温度则为350-600℃。当然,实际选择时还应考虑具体的样品性质、形态、样品量以及裂解时间、升温速率等因素。3.裂解时间和升温速率 裂解时间是指样品开始升温到裂解完成所用时间。原则上讲,裂解时间越短,二次反应越少,对分析越有利。但必须保证在此时间内样品达到设定裂解温度且裂解基本完全。对于升温速率可调的裂解器,升温速率慢时,裂解时间应相应长一些。同样,裂解温度越高,裂解时间也应越长。一般情况下,采用最高升温速率(如20℃/ms) ,裂解时间为10s左右。对于采用程序升温裂解的研究则另当别论。有些裂解器,如管式炉裂解器,其升温速率是不可调的,这时可依据裂解器的 TRT (从加热开始到达设定温度所需的时间)来设定裂解时间。原则当然是裂解时间要大于TRT。总之,最终裂解条件的确定要通过实验来优化。4.裂解室温度(即样品的初始温度) 对于管式炉裂解器(连续式裂解器)这一温度常常等于室温,而对于热教和居里点裂解器(脉冲式裂解器),该温度是可以控制的。图所示为上述两类裂解器的温度——时间曲线,可见二者是很不同的。图a中设定裂解室温度为250℃,裂解温度600℃。样品进入裂解室(时间为0)后,其温度先由室温升至250℃,裂解时快速升温至600℃,裂解结束后降温至250℃;图b中裂解温度同样为600℃,但裂解开始前样品处于室温,裂解时样品才进入裂解室,快速升温至600℃,此后,直到将样品取出裂解室,样品温度一直维持在600℃。[img=,690,319]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2017/11/201711160756_01_2384346_3.png!w690x319.jpg[/img] 裂解室温度太低,会使裂解产生的高沸点产物冷凝在内壁而失去有用的信息。反之,裂解室温度太高,可能使样品在裂解前就发生挥发或部分裂解,还可能使高沸点产物进入色谱柱后冷凝(如果色谱柱温度不是很高)。使用连续式裂解器就不存在这个问题。另一方面,如果样品在裂解前必须除去挥发性成分,如溶剂,那么,使用脉冲式裂解器是有利的,而且很容易实现多阶裂解,即同一个样品可在不同的温度下裂解,以研究每次裂解后残留的样品情况。5.裂解器的清洗 前面我们己提到样品负载元件的材料性质可能对裂解有催化作用。同样品的污染一样,负载元件的污染也三角影响实验重现性的重要因素。任何类型的裂解器,在每次裂解之后,样品负载元件的表面状态都会有所改变。这是因为碳化物、氮化物或/和金属氧化物残渣会在上述表面形成,而这些活性残留物常常会对其后的裂解起催化作用。所以,为了获得重现的裂解结果,样品负载元件表面应尽可能保持干净,起码应当除去前次裂解的残留物。 清洗样品负载元件的方法主要有三种:一是用溶剂清洗,例如用丙酮、乙醇、甚至某些酸浸泡、清洗,然后烘干。二是用工具清洗,如用小刀刮去表面残留物。二是高温灼烧,例如在裂解器的最高温度下灼烧,或者将样品负载元件置于酒精灯或酒精喷灯上灼烧,以除去污染物。以上三种方法可以视具体情况而结合使用。此外,裂解室内壁也应注意清除污染物。
本人最近刚开始做Py-GC-MS, 昨天做了一个沉积物腐殖质的样品,称取1mg左右,装入石英管,610度热裂解20秒,分流比是20,GC-MS检测出很多峰来。之后用一干净的石英管做了一个空白,结果发现能检测出很多物质,大多为长链烷烃,还有一些芳香类化合物。断开热裂解装置后,GC-MS的空白同样出现类似的物质,将GC-MS老化后发现空白好了很多。连上热裂解再用干净石英管做空白后又出现了很多之前出过的杂质峰。将热裂解装置的interface升温至300度,然后吹扫5分钟左右,再用干净石英管走空白,结果出现的杂质峰比前面的还要多,峰面积还要大。请问高手,这种情况要怎么处理?在此先谢啦!