溅射离子泵

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溅射离子泵相关的厂商

  • 400-860-5168转3122
    保定兰格恒流泵有限公司,外资企业,成立于1997年。 专注于精密流体传输与处理设备的研制,自1998年国产第一款蠕动泵、2004年国产第一款实验室注射泵、2008年国产第一款工业注射泵,已获得专利15项、著作权9项。现已形成以蠕动泵为核心,包括:实验室注射泵、工业注射泵、微型齿轮泵、微型柱塞泵的5大类产品,并向成套设备、ODM方向快速发展,产品系列超过40个,产品型号超过300种。 通过严格贯彻ISO9001标准、不断提高产品质量,持续保有高新技术企业、著名商标、诚信企业等荣誉称号,多种产品通过CE认证并销往欧美日等发达国家。 经过17年的健康发展,我们将继续努力,保持国内技术水平最高、产品种类最全、产品质量最好、规模最大的优势,为广大用户提供最合适的产品服务。 公司理念 : 因专业而精彩:不断发展精密泵 因创新而进步:不断研发新产品 因体系而强大:保持国际一流企业
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  • 安徽安耐泵阀有限公司是一家集研发、生产、销售、服务于一体的化工泵阀制造企业。公司拥有雄厚的技术力量,实行严格的ISO9001质量管理,采用先进的生产工艺,完善的销售及售后服务,在不断满足国内市场需求的同时积极出口海外市场。主导产品:金属材质离心泵、磁力泵、管道泵,氟塑料材质离心泵、磁力泵、管道泵等,及液下泵、气动隔膜泵等。产品广泛适用于:石油化工、制酸制碱、有色金属冶炼、汽车制造的酸洗喷漆工艺、稀土分离、农药、染料、医药、造纸、电镀、无线电行业、化成箔行业;离子膜烧碱项目中的氯水、废水处理和加酸等工艺流程;可输送强腐蚀、易燃、易爆、有毒、易挥发等化学介质。安耐人将坚持秉承“诚信共赢,超越自我”的价值观,以“科技创造价值”的经营理念,以“安全输送流体”为服务宗旨,充分满足市场和客户需求。
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  • 深圳市利方达科技有限公司由留德博士钱锋创建于2002年,是集真空产品设计生产及开发的技工贸一体企业。我们的业务包括标准产品的生产、新品开发和生产、生产方案解决、国外知名产品的代理销售等。 公司集中了一批多年从事研发的专业技术人员和经验丰富的市场销售人员。他们曾经在外资企业、国内知名企业或国家重点研究机构工作多年,具备过硬的技术本领及丰富的市场经验。主要业务有: 1、 专业代理美国Essential Macleod 薄膜设计及分析软件。2、 专业销售美国安斯超科学公司(Angstrom sciences, Inc)的圆形磁控溅射阴极、矩形磁控溅射阴极、各种靶材、溅射阴极翻新。3、 专业代理美国原瓦里安(VARIAN)现Agilent公司的氦质谱捡漏仪,分子泵,扩散泵,离子泵以及真空阀门、法兰等 。4、 专业销售代理美国英福康(INFICON)公司的卤素检漏仪、氦检漏仪、真空计、真空分析器。5、 专业销售美国AE公司直流、射频及质量流量计。6、 美国泰利玛科公司(Telemark)的电子枪和光学膜厚控制仪等 7、 美国Extorr公司的四极质谱等产品。我们的业务专长于真空及镀膜设备领域的代理销售业务,致力于把世界上最先进的技术和设备引进中国.凭借多年的真空专业技术积累, 雄厚的技术力量和真诚的服务, 我们得到了业界的众口称赞,拥有了大量的客户群体,产品广泛用于真空,光学、电子、半导体、平板显示等相关领域.
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溅射离子泵相关的仪器

  • 超高真空系统:1、极限真空:单台分子泵极限真空-6Pa2、可PLC自动控制——按照客户要求,加工订制;——一对一专业出图设计;——可配套指定真空机组系统;——耐高温、耐腐蚀;——高质量、高精度;加工工艺,采用真空焊接技术拼装焊接;先进的真空捡漏设备,更加保证产品;我公司采用三维建模软件,按照实际比例建立三维模型,根据客户文字、语言草图等需求描述,专业设计出适合客户所需产品方案(在方案定稿之前所有设计不收取任何费用)。为了生产出最匹配客户需求的产品,需要告知我公司以下几个问题点:1、产品在使用过程中是否有温度产生,高温和低温分别是多少摄氏度,是否需要通水或液氮冷却等内外在因素。2、对产品材质是否有特殊要求,真空领域腔体常用材质为:碳钢、铝、304不锈钢、316不锈钢等3、产品的链接方式,抽真空的方式,抽真空所用的真空泵等4、腔体真空度的要求,腔体抽完真空以后是否需要冲入保护气体或其他气体。通常常见真空腔体技术性能:材质:304不锈钢或客户指定材质。腔体适用温度范围:-190℃~+1200℃密封方式:氟胶“O”型圈或金属无氧铜密封圈超高真空系统溅射离子泵与钛升华泵串联
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  • 磁控离子溅射仪 400-860-5168转6180
    GVC-2000P磁控离子溅射仪采用平面磁控溅射靶头进行靶材溅射,以确保工作过程样品不会发生热损伤;采用ARM作为处理器,全自主知识产权,扩展性好,可选配。一.GVC-2000P磁控离子溅射仪(镀金仪)主要特点1、一键操作,具备工作完成提示音;2、镀膜颗粒小,无热损伤;3、靶材更换非常简单;4、特殊密封结构,玻璃不易损坏;5、内置操作向导,无需培训即可熟练操作;二、GVC-2000P磁控离子溅射仪(镀金仪)技术参数外形尺寸420(L)×330(D)×335(H)溅射靶头平面磁控靶可用靶材Au、Pt、Ag、Cu等靶材尺寸φ57×0.12mm真空室高硅硼玻璃 ~φ200×130mm工作介质空气或氩气样品台φ125mm样品台转速4-20rpm可调真空泵旋片泵(可选配干泵)抽速1.1L/s真空测量皮拉尼式真空规管工作真空4-20Pa极限真空≤1Pa工作电流0-100mA连续可调显示屏7英寸 800×480 彩色触摸屏工作时间1-999s连续可调进气自动放气自动金颗粒尺寸(硅片喷金)电池隔膜10万倍(喷铂)三、GVC-2000P磁控离子溅射仪技术方案1、采用平面磁控溅射靶头进行靶材溅射,以确保工作过程样品不会发生热损伤;2、采用ARM作为处理器,全自主知识产权,扩展性好,可选配:(1)膜厚监控组件:可预设期望镀膜厚度,在工作过程中精确控制镀膜厚度;(2)样品台加热组件:可通过加热提高膜层的致密性以及与基地的结合力。3、7英寸触摸式液晶显示屏,分辨率为800×480,全数字显示。3.1)可设定:(1)溅射电流;(2)溅射时间;(3)靶材种类;(4)工作真空度;(5)工作气体;(6)屏幕亮度等参数;3.2)可显示:(1)溅射电流;(2)溅射剩余时间;(3)工作真空度;(4)靶材累计使用时间;(5)设备累计使用时间等参数。4、溅射电流:2-100mA连续可调,最小步长为1mA;5、溅射时长:1-999s连续可调,最小步长为1s 6.溅射真空:4-20Pa连续可调,最小步长为0.1Pa 7、溅射靶材:标配为高纯铂靶(纯度4N9),规格为φ57×0.12mm;也可使用金、银、铜、金钯合金等金属作为溅射靶材;8、真空室:采用高透光性的高硅硼玻璃,尺寸约为φ200×130mm;9、样品台:可自转的不锈钢样品台,直径为φ125mm,转速4-20rpm可调;10、靶材参数:系统提供金、铂、银、铜对于空气和氩气的工作参数,可直接使用。同时提供4种自定义靶材,用户可根据自己需求设定工作参数;11、预溅射:具有全自动控制的预溅射挡板,确保工作过程稳定可靠;12、一键操作:系统可自动完成抽气、充气、参数调整、预溅射、溅射镀膜等工作过程;溅射完成后,关闭真空泵,系统自动充气使真空室内外压力平衡;13、具备溅射电流和真空度双重互锁,安全可靠,任一条件触发,系统即可停止工作,防止因为误操作导致设备损坏;14、系统采用皮拉尼真空规作为真空测量元件;15、极限真空优于1Pa,真空泵抽速为1.1L/s;16、具备实时曲线显示溅射电流和真空度功能非常方便用户了解系统工作状态;17、采用独特的靶材更换结构,无需任何工具,即可实现快速更换靶材;18、仪器供电:AC220±10%V,额定功率500W、
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  • 小型离子溅射仪 400-860-5168转1013
    仪器简介: JS-600小型离子溅射仪采用二极(DC)直流溅射原理设计,操作简单方便,适用于扫描电子显微镜(SEM)样品制备,非导体材料实验电极的制作。 用户可以根据自己的需要自行选择不同的真空条件,溅射电流。大尺寸的真空腔体设计,满足大样品的溅射需求。标配一片金靶,纯度为99.999%,为获得高质量的金膜提供了良好的基础。技术参数:1.靶(上部电极):材料:金,直径:50mm,厚度:0.1mm 纯度:99.999%2、真空样品室:直径:160mm,高:110mm3.样品台(下部电极):溅射面积:直径:50mm4.工作真空: 2×10-1—10-1 mbar5.离子电流表:0-50mA6.计时器:根据溅射习惯设定单次溅射时间。7.溅射电压:-1600DVC8.飞越真空泵(VRD-4):1.1L/S9.工作室工作媒介气体:空气或氩气等多种气体10.针阀: 配有进气口,微量充气调节,可连接φ4*2.5mm软管。主要特点: 1.轻便、溅射面积大 2.靶材可按用户要求加工制作备注:JS-600小型离子溅射仪可适用的靶材:金、铂、银
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溅射离子泵相关的资讯

  • 安捷伦隆重推出新型离子泵控制器(可独立调节四台泵)
    安捷伦科技公司隆重推出可独立调节四台泵的新型离子泵控制器 2011 年9 月20 日,北京— 安捷伦科技公司(纽约证交所:A)隆重推出4UHV 离子泵控制器,本产品的灵活设计使其能够为最多4 台离子泵供电,并对各泵进行控制和独立监测,每个泵的抽速范围可达20 到500 升/秒。 安捷伦真空产品部副总裁兼总经理Giampaolo Levi 表示:“该控制器采用低电路噪音设计,原始设备制造商们无需针对重要应用使用静噪滤波器,可大幅节省成本。此外,我们新推出的这款控制器还与用于涡轮分子泵和前级泵的其他控制器共享通信协议,因此客户无需再进行繁琐的工程设置”。 安捷伦为各种工业和科研应用提供了全系列真空泵及真空系统,包括旋片泵、干式涡旋泵、扩散泵、涡轮分子泵、离子泵及涡轮分子泵机组,可建立从大气压降至10-12 mbar 的真空度。 4UHV 是安捷伦VacIon Plus 产品系列的最新成员,该系列包括完备的离子泵、控制器、各种选件和附件,专门用于建立超高真空(UHV)。应用领域包括高能物理、研发以及纳米技术(特别应用于扫描电子显微镜)。 要了解更多信息,请访问www.chem.agilent.com/en-US/Products/Instruments/vacuum/pumps。 关于安捷伦科技 安捷伦科技公司(纽约证交所:A)是全球领先的测量公司,同时也是通信、电子、生命科学和化学分析领域的技术领导者。公司的18500 名员工为100 多个国家的客户提供服务。在2010 财政年度,安捷伦的业务净收入为54 亿美元。要了解安捷伦科技的信息,请访问:www.agilent.com.cn。 编者注:更多有关安捷伦科技公司的技术、企业社会责任和行政新闻,请访问安捷伦新闻网站www.agilent.com/go/news。
  • WELCH实验室真空泵如何确保离子镀膜仪真空度的稳定性和工作效?
    WELCHLAB APPLICATION某客户致力于材料表面处理和真空薄膜仪器的研发,在竞争方面,直接对标国外知名产品。有别于其他同类产品的国产厂家,该客户产品定位高端,在国内市场有较好的口碑,其对配套的旋片真空泵(油泵)要求,无论是在真空度、噪音、外观、售后服务等,还是在品牌知名度方面,都有非常高的要求,为保证离子镀膜仪真空度的稳定性和工作效率,已标配选用了某原装进口品牌的旋片泵,且销售了数年时间,但此品牌的旋片泵价格高昂,货期不稳定,售后服务有着很大的提升空间。此时,我们针对性的向该客户介绍了Welch品牌CRVpro2旋片真空泵。CRVpro2外观设计美观,真空度高,泵体小巧,运行非常安静,泵体内部做PTFE防腐处理,能够明显提高其使用寿命,完全适合配套客户的离子镀膜仪设备。且因CRVpro2旋片真空泵性价比高,售后服务完善,能瞬间提升客户产品的受关注度和整体竞争力。当然,对于临阵换将,任何人都会有所犹豫,为打消客户疑虑,我们及时提供了一台全新的 CRVpro2旋片真空泵,进行现场测试。CRVpro2的安装非常简单,加注真空油、安装转接头、连接不锈钢波纹管,一气呵成。开机运行!在寂静的实验室里,CRVpro2安静的运行着。时间一秒一秒得飞逝,镀膜仪操作面板上的真空度数值飞速变化,结果仅仅用了不到3分钟,就达到了镀膜仪恒定工作压力以下,即1-2Pa。同时,由于Welch研发工程师对CRVpro2的排气端进行了优化设计,其排气口几乎无油雾排出,非常有利于实验室环境,该公司的测试人员对此结果非常满意。随即,设备配套顺理成章,双方打开双赢的合作局面̷̷CRVpro实验室旋片真空泵的优点:  1、泵体运行温度低,能有效减低泵被化学腐蚀风险。  2、油箱和泵体都有抗化学腐蚀涂层,能够保护泵不被化学物质侵蚀。  3、油箱容量大,能够稀释吸入真空油里的化学物质,降低了化学腐蚀的风险和油被污染的程度。  4、低噪音:运行特别安静,不干扰工作。  5、自润滑功能:确保所有运动部件浸润在新鲜的油里,平衡温度,减少油染,延长机械寿命。  6、防倒吸阀:防止在停机时油被倒吸进真空容器  7、气压载阀:减少化学蒸汽被夹带进入泵油;保护泵不被可凝性流体如水,乙酰腈等的影响。  8、cUL和CE认证:具有各国的安全认证,满足官方的3安全标准。  9、满足各种应用的外形尺寸:现代和紧凑的外形设计,满足各种应用场合的要求。  10、双电压电机:IP44 电机,可在115V 和240V之间切换,并可配置各种相应的电源插头,使CRVpro可使用。CRVpro实验室旋片真空泵的应用: 1、双排管 2、冷冻干燥 3、真空浓缩 4、采暖通风、空调 5、真空干燥箱 6、手套箱 7、质谱仪 8、工业应用关于威伊(Welch)威伊真空设备(上海)有限公司WELCH是提供优质耐用真空泵产品的专家。我们的丰富产品线涵盖了实验室和工业用真空泵,包括真空活塞泵,真空隔膜泵,真空旋片泵,螺旋泵,涡轮分子泵,液体输送泵等,还有各种真空测量仪,真空控制器,真空蒸馏装置,真空浓缩设备,真空抽吸设备等。关于英格索兰英格索兰(纽交所代码:IR),以企业家精神和主人翁意识为动力,致力于创造美好生活。我们通过旗下备受赞誉的40余个品牌,在工业、能源、医疗和特种多功能车领域提供关键和创新的产品与服务,涵盖空气压缩机、泵、鼓风机,以及流体管理、装载、动力工具和物料吊装系统以及知名的Club Car品牌多功能车。在极其复杂和严苛的工况下,亦能确保优越的性能。我们在世界各地的16,000多名员工将持之以恒地为客户提供可靠的专业知识,帮助客户提高生产力并提升效率,与客户建立终身连接。
  • 先导集团拟建半导体设备产业园,生产磁控溅射、离子蚀刻等设备
    据广州南沙发布消息,6月28日,广州市南沙区在明珠湾大桥桥面举办重大项目集中签约动工竣工(投产)暨明珠湾大桥通车活动。76个项目于当天集中签约、动工竣工(投产),涵盖新能源汽车、芯片等先进制造产业。在当天的签约仪式上,10个重点项目分两批进行现场签约,总投资额160亿元,达产产值796亿元,其中包括湾区半导体高端设备智造基地。据介绍,湾区半导体高端设备智造基地是先导集团拟在南沙投资建现代化的半导体设备产业园,项目建成后拥有生产各类镀膜沉积设备、磁控溅射设备、离子蚀刻设备及交钥匙工程的综合生产能力。先导集团目前已掌握核心专利和工艺技术,项目产品将拥有100%自主产权,满足半导体产业链国产化替代的需求。广州南沙发布消息指出,目前,南沙正积极促进第三代半导体与新能源汽车产业的融合创新,成立第三代半导体创新中心,形成以晶科电子、芯粤能、爱思威为代表,以联晶智能、芯聚能为龙头的从晶圆生产到芯片设计、封装及应用的第三代半导体全产业链,为将来三千亿级新能源汽车产业集群发展提供“芯”能量。

溅射离子泵相关的方案

溅射离子泵相关的资料

溅射离子泵相关的试剂

溅射离子泵相关的论坛

  • 关于E-1010离子溅射仪的问题

    (1)在较长时间抽真空后,日立E-1010离子溅射仪的泵中的油大量进入样品室,然后漏进仪器里面,求原因?(2)仪器里面的油无法全部清理干净,继续进行喷镀,会有危险吗?

  • 关于E-1010离子溅射仪

    (1)在较长时间抽真空后,E-1010离子溅射仪的泵中的油大量进入样品室,然后漏进仪器里面,求原因?(2)仪器里面的油无法全部清理干净,继续进行喷镀,会有危险吗?

  • ETD800离子溅射仪

    有谁用过北京意力博通的ETD800小型离子溅射仪?这个好像是最新型号的溅射仪。北京意力博通有好几个型号的溅射仪。

溅射离子泵相关的耗材

  • 真空泵油喷碳仪离子溅射仪真空泵专用/0.5L
    【产品详情】 Pfeiffer P3号油可有效改善真空泵性能,适用于离子溅射仪及喷碳仪设备所配备的真空泵,尤其是Agar所有型号的离子溅射仪及喷碳仪的真空泵。 【产品参数】技术参数Pfeiffer P320℃蒸汽压/mbar6.6×10-515℃的比重0.8725℃的粘度210 cs40℃的粘度94 cs流动点-15℃闪点264℃极限压力1×10-3 mbar产品详细价格及资料,请登录电镜耗材在线商城网站查看。
  • 铬靶靶溅射靶材Cr
    【技术参数】 产品名称规格适用离子溅射仪品牌铬靶直径57mm x 3.2mm 厚度 Agar Scientific所有型号Cressington 所有型号(308系列除外) 【产品详情】 离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材:铬靶 产品详细价格及资料,请登录电镜耗材在线商城网站查看。
  • 离子溅射标样,Si3N4膜,于1x3cm Si片上
    最精密的离子溅射标样,用于校准离子枪。提供SiO2、Si3N4、Ta2O5和NiCr-7薄膜
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