溅射离子泵

（1）在较长时间抽真空后，日立E-1010离子溅射仪的泵中的油大量进入样品室，然后漏进仪器里面，求原因？（2）仪器里面的油无法全部清理干净，继续进行喷镀，会有危险吗？

（1）在较长时间抽真空后，E-1010离子溅射仪的泵中的油大量进入样品室，然后漏进仪器里面，求原因？（2）仪器里面的油无法全部清理干净，继续进行喷镀，会有危险吗？

有谁用过北京意力博通的ETD800小型离子溅射仪？这个好像是最新型号的溅射仪。北京意力博通有好几个型号的溅射仪。

小型离子溅射仪，电压可调，使用简单！

0.1mm厚的离子溅射Pt靶材能用多长时间？

各位大侠，我想购买离子溅射仪，不知什么型号的好用。兼顾SEM样品喷金以及镀制金电极。不知各位有何建议。网上找到的几个型号：中科仪的 SBC-12和同创业的JS-1600科晶的 spc-12有使用过的朋友们不吝赐教。谢谢！

有谁用过北京意力博通的 ETD-800型全自动离子溅射仪？这个好像是最新型号的溅射仪，还是全自动的。北京意力博通有好几个型号的溅射仪。

各位大神，能推荐一款比较好用的离子溅射 仪吗，用于钨灯丝扫描电镜中的。如果要采购离子溅射仪主要关注哪些要点呢。

扫描电镜使用离子溅射仪进行镀金处理，但不知道铂金还是黄金好，有没有懂的大神从各自的优缺点帮我分析下

我想买一台进口离子溅射仪，麻烦各位大虾能提供一些品牌和联系方式。谢谢！

今天发现我们的离子溅射仪的金靶掉了，其实也只是一圈很窄的地方都被烧没了，剩下了很多也不能用了打算买一个，人家说纯度5个9的金450元1克……感觉剩了很多就不能用了挺可惜的有没有什么方法可以让这个不总是这样消耗呢？

单位准备买个离子溅射仪，做场发射扫描电镜喷金用的，请大家推荐一下。

我们的离子溅射仪在每次换Pt靶材之后总是会出问题，会提示你由于真空度的原因或者chamber内contamination的原因不能进行discharge，为什么呢？各位有没有遇到过此类问题呀？检查真空度也达到了要求，内部也擦过很多了，貌似也擦干净了吧，还是不行。http://simg.instrument.com.cn/bbs/images/brow/emyc1010.gif

有谁知道日本的E-1030的离子溅射仪的仪器参数吗？比如喷金速率，溅射面积等等。谢谢大家！！

日立E-1010离子溅射仪使用的时候，电流很小。调到high，旋钮也是扭到最大，电流始终都在10左右。而且在喷的过程中，电流逐渐减小。怎么样可以让电流大起来？因为送样的人要求电流达到20……拜托各位大侠了！

真空镀膜机可以做Au-Pd、Au、Pt-Pd和Pt；离子溅射仪：环形电极，二极管放电模式。大概分别需要银子？！谢谢！

日立E-1030 离子溅射仪器 参数，急求，谢谢，还有沉积速率一般是多少？谢谢http://simg.instrument.com.cn/bbs/images/default/em09505.gif

如题，离子溅射仪（俗称镀金仪）是配套电镜最常用的制样设备，不过一直不懂为什么镀膜时候是紫色光？ 大侠们能否帮忙解答一下，给大家科普下，多多谢谢！

大家好我是萌新，之前我导下单了一台离子溅射仪让我镀银测消光，但是只有一开始效果还不错，后面都不是很行，我推测是银靶材表面氧化了。所以我用砂纸打磨后用酒精湿巾擦，效果还是一般，各位能分析一下是什么原因吗，或者告诉我镀银怎么处理氧化的问题，或者教教我砂纸打磨具体要打磨哪些部分，蟹蟹

用Ar等离子体溅射碳靶后，被溅射出来的碳主要以何种形式存在？是碳离子，碳原子还是碳分子？谢谢！

我们的喷金仪是SBC-12小型离子溅射仪　 型号:SBC-12　 现在金霸击穿了，想定购一个，从公司定购很慢的，现在急需，不知道大家都是从哪里购买金霸，提供一个电话看看别人家都是多少钱，最好上海有这样的公司就不至于耽误使用了

我在对硫化铋用氩离子处理表面的染污的碳时，发现有铋单质的峰出现，请问是为什么？是因为择优溅射引起的吗？氩离子应该带正电荷吧，为什么铋会被还原？

（一）溅射和辉光放电　　具有足够能量的带电粒子或中性粒子碰撞物体表面时，可把能量传递给表面的原子。只要表面原子获得的能量大于本身的电离能，就能摆脱周围原子的束缚而离开物体表面，这种现象称为溅射。 　　辉光放电是在真空度为几百帕(Pa)的真空中，在两个电极之间加上高压时产生的放电现象。 　　辉光放电现象的特性是：辉光的分布不均匀；电压降绝大部分落在克鲁克斯暗区；各区域随真空度和电流的改变而变化，也随着两极间距离的改变而变化。（二）阴极溅射当真空室内的真空度为13Pa时，在阴阳两电极间加上一定的电压，气体发生自激放电，从阴极发射出的原子或原子团可沉积在阳极或真空室的壁上。这种溅射称为阴极溅射。

透射电镜型号：JEM-2100（HR）LaB6使用年限：3年问题描述：实验完成后，烘烤冷阱液氮，离子泵按正常程序关闭；液氮烘烤结束后，离子泵正常启动；约10分钟后由于离子泵真空不断下降，离子泵自我保护（关闭），此后不再自动开启，需人为处理。工程师解释：离子泵老化。提出解决方案：1.更换离子泵；2.多做离子泵烘烤；3.液氮烘干后多做一次ACD；4.不加液氮；5.一直加着液氮（不做液氮烘烤）；6.烘烤液氮时将离子泵开关关闭，待第二天来时再打开开关。附加说明：1.离子泵正常工作时，加液氮的情况下，离子泵真空值在1*10-5Pa左右；2.整机烘烤后过一周又出现相同问题，之后又做了一次离子泵烘烤，没有效果。请教版内的专家、大侠，是否有更好的办法解决上述问题？或者有其他的原因导致离子泵出现该问题？

当前，制备非晶的方法主要有淬火法和气相沉积法。快冷法又分为铸膜法和甩带法，适合于制备大块非晶。气相沉积法分为真空蒸发法、化学气相沉积法、脉冲激光沉积法和磁控溅射法。~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~磁控溅射法制备非晶样品有其独特的有点，下面主要介绍下磁控溅射制备非晶样品的原理。电子在电场E的作用下，在飞向基板的过程中与氩气原子发生碰撞，使其电离出氩离子和一个新的电子，电子飞向基片，氩离子在电场作用下飞向阴极靶，并以高能量轰击靶的表面，使靶材发生溅射。在溅射的过程中，溅射离子，中性的靶原子或分子即可在基片上沉积形成膜。综上所述，磁控溅射的基本原理就是以磁场来改变原子的运动状态，并束缚和延长原子的运动轨迹，从而提高电子对工作气体的电离几率和有效地运用了电子的能量。这也体现了磁控溅射低温、高效的原理。常用的TEM样品以TEM载网为基片。TEM载网是直径为3nm，厚为20μm，网格间距为80μm，最底下一层铜或者钼，上面覆盖一层约为5nm厚的无定形碳作为支撑膜。利用磁控溅射法制备沉积的薄膜就沉积在这种TEM载网的无定形碳的支撑膜上，为了减少非弹性散射对衍射数据的影响，在实验过程中尽可能制备厚度比较小的薄膜厚度，约为15nm-20nm，这样制得的样品就可以直接在透射电子显微镜中进行直接的表征。

电镜室停电，结果电镜停了两周，回来开机时发现ip1，ip2的真空度还是负八次方，工程师说是离子泵未启动，结果敲击泵体，结果启动了，我不明白，敲击泵体怎么会引起泵启动？原理是什么？还有离子泵抽的真空度不准确是泵的原因还是潘宁规的原因？

诸位同仁有用过fei设备离子泵烘烤功能的么？曾在一台日立sem上看过，有几个像加热片的包在离子泵外，给它加热，还有连线接到设备某个接口上。但我看Fei透射的说明没见有这个功能呀。谁用过，能否指点一下。夏天了，真空抽得越来越困难，着急呀！

1、真空泵的工作压强应该满足真空设备的极限真空及工作压强要求。如：某真空干燥工艺要求10mmHg的工作真空度，选用的真空泵的极限真空度至少要2mmHg，最好能达到1mmHg。通常选择泵的极限真空度要高于真空设备工作真空度半个到一个数量级。 2、正确地选择真空泵的工作点。每种泵都有一定的工作压强范围，如：2BV系列水环真空泵工作压强范围760mmHg~25mmHg（绝压），在这样宽压强范围内，泵的抽速随压强而变化（详细变化情况参照泵的性能曲线），其稳定的工作压强范围为760~60mmHg。因而，泵的工作点应该选在这个范围之内较为适宜，而不能让它在25~30mmHg下长期工作。 3、真空泵在其工作压强下，应能排走真空设备工艺过程中产生的全部气体量。 4、正确地组合真空泵。由于真空泵有选择性抽气，因而，有时选用一种泵不能满足抽气要求，需要几种泵组合起来，互相补充才能满足抽气要求。如钛升华泵对氢有很高的抽速，但不能抽氦，而三极型溅射离子泵，（或二极型非对称阴极溅射离子泵）对氩有一定的抽速，两者组合起来，便会使真空装置得到较好的真空度。另外，有的真空泵不能在大气压下工作，需要预真空；有的真空泵出口压强低于大气压，需要前级泵，故都需要把泵组合起来使用。 5、真空设备对油污染的要求。若设备严格要求无油时，应该选各种无油泵，如：水环泵、分子筛吸附泵、溅射离子泵、低温泵等。如果要求不严格，可以选择有油泵，加上一些防油污染措施，如加冷阱、障板、挡油阱等，也能达到清洁真空要求。 6、了解被抽气体成分，气体中含不含可凝蒸气，有无颗粒灰尘，有无腐蚀性等。选择真空泵时，需要知道气体成分，针对被抽气体选择相应的泵。如果气体中含有蒸气、颗粒、及腐蚀性气体，应该考虑在泵的进气口管路上安装辅助设备，如冷凝器、除尘器等。 7、真空泵排出来的油蒸气对环境的影响如何。如果环境不允许有污染，可以选无油真空泵，或者把油蒸气排到室外。 8、真空泵工作时产生的振动对工艺过程及环境有无影响。若工艺过程不允许，应选择无振动的泵或者采取防振动措施。 9、真空泵的价格、运转及维修费用。