纳米薄膜测厚仪

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纳米薄膜测厚仪相关的厂商

  • 布鲁克纳米表面仪器部——表面分析测试设备领先者布鲁克纳米表面仪器部是全球领先的分析仪器公司布鲁克下属的一个事业部,前身是美国维易科(Veeco)公司纳米测试仪器部。布鲁克公司作为全球领先的分析仪器公司之一,拥有自成立五十多年以来,始终针对当今的分析需求,开发最先进的技术和最全面的解决方案。布鲁克公司的产品和服务遍布全球一百多个国家和地区。在五十多年的高速发展过程中,布鲁克公司凭借自身的科研优势,以独有的先进技术、科学的管理和市场导向的产品推动了全球的科学发展。布鲁克纳米表面仪器部作为作为表面观测和测量技术的全球领导者,一直着眼于研发新的表面计量、检测方法和工具,致力于为客户解决各种技术难题,提供最完善的解决方案。布鲁克纳米表面仪器部的设备都是同领域领先的设备,包括:1)用于表面理化性能纳米尺度表征和操纵的原子力显微镜,2)用于表面三维形貌及粗糙度快速测量分析的三维非接触式光学轮廓仪,3)用于表面三维形貌和台阶高度测量的接触式探针表面轮廓仪,4)用于材料摩擦磨损、润滑测试及涂层结合力测试的摩擦磨损测试仪,5)用于研究化学机械抛光的化学机械抛光测试仪,6)用于表征纳米尺度表面的机械性能、摩擦磨损和薄膜结合力的纳米压痕仪,7)用于生命科学前沿研究的超高分辨快速荧光/双光子显微镜等。这些设备从不同维度构成了表面表征测试的多种应用方案,适用于从高校研究所到工业领域的材料、化学、生命科学、物理、LED、太阳能、触摸屏、半导体、通信以及数据存储等领域进行科学研究、产品开发、质量控制及失效分析的准确、高效分析测试的要求。这些产品和应用方案帮助我们的客户在各自的表面测量测试应用中解决面临的问题,提升技术和工艺水平,提高研发效率,从而实现最大限度的回报。布鲁克纳米表面仪器部在中国的业务是布鲁克公司全球业务的重要组成部分,很早就在北京、上海和广州陆续设有产品演示中心,在北京还单独设立的客户关怀中心和备件仓库,大大方便了客户从购买设备之前的考察到售后阶段的各种需求。不论是售前还是售后服务,都获得了广大用户的好评。
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  • 南京牧科纳米科技有限公司目前主要由10位具有海外留学经历和国内顶尖研究课题组多年研究经验的博士团队组成。牧科是国内唯一一家专门从事二维材料单晶CVD合成和二维半导体纳米片溶液及冷干粉末合成的(类石墨烯类材料)合成与研发的专业技术咨询和服务的纳米科技公司。公司现有产品主要包括:(1)各类人工合成二元、三元和四元二维单晶材料;单层机械剥离二元、三元和四元二维单晶材料,及定制类相关拓扑绝缘二维材料;(2)CVD法生长各类单层类石墨烯二维半导体材料MoS2,WS2,MoSe2,WSe2以合金CVD定制, CVD-BN薄膜定制,定做横向,纵向结构二维异质节(3) CVD生长二六族(Zn,Cd)+(S,Se,Te), 三五族(Ga,In)+(Sb,As,P) 纳米线以及异质节结构;(4)石墨烯单晶系列100um-2mm,5mm,1cm 大六边形单晶 (5)氧化石墨烯溶液、氧化石墨烯干粉,石墨烯干粉,石墨烯溶液,热还原石墨烯干粉,碳纳米管阵列衬底。(6)CdSe, CdSe/ZnS, CdSe/Cds,ZnSe-ZnS量子点/近红外PbS量子点/InP-ZnS量子点/水溶性发光量子点/上转换发光纳米粒子/LED用量子点 全光谱量子点溶液,(7)有机无机杂化钙钛矿单晶。尺寸可根据需要定制。(8)基团修饰氧化铁、四氧化三铁、三氧化二铁、聚苯乙烯磁性粒子、金纳米棒、三角纳米笼、银纳米颗粒生物制剂(8)实验用SIO2/SI,掺杂硅,本征硅衬底,镀金衬底,M面,C面,R面蓝宝石衬底,MgO、Zno、GGG晶体,TiO2等单晶衬底,激光切割等服务等亦可提供最先进相关测试服务(AFM,SEM,TEM ,XPS,Raman,BET,XRD,常温及变温PL,紫外-可见-近红外吸收/反射/透射光谱等常规测试服务)。如需获得更多的了解,欢迎您咨询QQ:2984216964 025-66171690 18052095282,或者A直接访问我们的公司网址是:http:www.mukenano.com
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  • 艾博纳微纳米科技(江苏)有限公司致力于科研器材的研发与生产,以国际顶尖科研单位力量为支点,凝聚社会力量共同谋求推动全“人类科学发展与进步”。艾博纳微纳米科技(江苏)有限公司创立于中国江苏,用户群体分布于世界各国以及国内大陆大部分地区。公司主营业务有物理科研器材、二维材料转移装置维材料微纳加工设备、微纳米光学系统包括远场以及近场全波段光学显微系统研发、微纳加工及表征业务、测试服务、高端国产原子力显微镜、耗材(包含氮化硼国产高质量生长等各种晶体、硅片、超干净蓝膜胶带等)、其他二维材料制备相关设备如等离子处理仪、显像设备等。所有经由我司售卖的产品均享受售后保障,用户可放心购买。
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纳米薄膜测厚仪相关的仪器

  • 中图仪器CP系列纳米台阶测厚仪高精度测量薄膜厚度是一款超精密接触式微观轮廓测量仪,其采用LVDC电容传感器,主要用于台阶高、膜层厚度、表面粗糙度等微观形貌参数的测量,具有的亚埃级分辨率和超微测力等特点。CP系列纳米台阶测厚仪高精度测量薄膜厚度应用场景适应性强,其对被测样品的反射率特性、材料种类及硬度等均无特殊要求,能够广泛应用于半导体、太阳能光伏、光学加工、LED、MEMS器件、微纳材料制备等各行业领域内的工业企业与高校院所等科研单位,其对表面微观形貌参数的准确表征,对于相关材料的评定、性能的分析与加工工艺的改善具有重要意义。测量过程测量时通过使用2μm半径的金刚石针尖在超精密位移台移动样品时扫描其表面,测针的垂直位移距离被转换为与特征尺寸相匹配的电信号并最终转换为数字点云信号,数据点云信号在分析软件中呈现并使用不同的分析工具来获取相应的台阶高或粗糙度等有关表面质量的数据。产品功能1.参数测量功能1)台阶高度:能够测量纳米到330μm甚至1000μm的台阶高度,可以准确测量蚀刻、溅射、SIMS、沉积、旋涂、CMP等工艺期间沉积或去除的材料;2)粗糙度与波纹度:能够测量样品的粗糙度和波纹度,分析软件通过计算扫描出的微观轮廓曲线,可获取粗糙度与波纹度相关的Ra、RMS、Rv、Rp、Rz等20余项参数;3)翘曲与形状:能够测量样品表面的2D形状或翘曲,如在半导体晶圆制造过程中,因多层沉积层结构中层间不匹配所产生的翘曲或形状变化,或者类似透镜在内的结构高度和曲率半径。2.数采与分析系统1)自定义测量模式:支持用户以自定义输入坐标位置或相对位移量的方式来设定扫描路径的测量模式;2)导航图智能测量模式:支持用户结合导航图、标定数据、即时图像以智能化生成移动命令方式来实现扫描的测量模式。3)SPC统计分析:支持对不同种类被测件进行多种指标参数的分析,针对批量样品的测量数据提供SPC图表以统计数据的变化趋势。3.光学导航功能配备了500W像素的彩色相机,可实时将探针扫描轨迹的形貌图像传输到软件中显示,进行即时的高精度定位测量。4.样品空间姿态调节功能配备了精密XY位移台、360°电动旋转平台和电动升降Z轴,可对样品的XYZ、角度等空间姿态进行调节,提高测量精度及效率。典型应用CP系列纳米台阶测厚仪高精度测量薄膜厚度集成了超低噪声信号采集、超精细运动控制、标定算法等核心技术,使得仪器具备超高的测量精度和测量重复性。仪器结构单拱龙门式设计,结构稳定性好,而且降低了周围环境中声音和震动噪音对测量信号的影响,提高了测量精度。性能特点1.亚埃级位移传感器具有亚埃级分辨率,结合单拱龙门式设计降低环境噪声干扰,确保仪器具有良好的测量精度及重复性;2.超微力恒力传感器1-50mg可调,以适应硬质或软质样品表面,采用超低惯量设计和微小电磁力控制,实现无接触损伤的接触式测量;3.超平扫描平台系统配有超高直线度导轨,杜绝运动中的细微抖动,真实地还原扫描轨迹的轮廓起伏和样件微观形貌。部分技术指标型号CP200测量技术探针式表面轮廓测量技术样品观察光学导航摄像头:500万像素高分辨率 彩色摄像机,FoV,2200*1700μm探针传感器超低惯量,LVDC传感器平台移动范围X/Y电动X/Y(150mm*150mm)(可手动校平)单次扫描长度55mm样品厚度50mm载物台晶圆尺寸150mm(6吋),200mm(8吋)台阶高度重复性5 &angst , 量程为330μm时/ 10 &angst , 量程为1mm时(测量1μm台阶高度,1δ)尺寸(L×W×H)mm640*626*534重量40kg仪器电源100-240 VAC,50/60 Hz,200W使用环境相对湿度:湿度 (无凝结)30-40% RH温度:16-25℃ (每小时温度变化小于2℃)地面振动:6.35μm/s(1-100Hz)音频噪音:≤80dB空气层流:≤0.508 m/s(向下流动)恳请注意:因市场发展和产品开发的需要,本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改,恕不另行通知,不便之处敬请谅解。
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  • 纳米薄膜热导率测试系统-TCN-2ω— 薄膜材料的热导率评价将变得为简便日本Advance Riko公司推出的纳米薄膜热导率测试系统是使用2ω方法测量纳米薄膜厚度方向热导率的商用系统。与其他方法相比,样品制备和测量为简单。纳米薄膜热导率测试系统特点:1. 在纳米尺度衡量薄膜的热导率开发出的监测周期加热过程中热反射带来的金属薄膜表面温度变化的方法,通过厚度方向上的一维热导模型计算出样品表面的温度变化,为简便的衡量厚度方向上热导率。(日本:5426115)2. 样品制备简单不需要光刻技术即可将金属薄膜(1.7mm×15mm×100nm)沉积在薄膜样品上。纳米薄膜热导率测试系统应用:1. 热设计用薄膜热导率评价的优先选择。low-k薄膜,有机薄膜,热电材料薄膜2. 可用于评价热电转换薄膜纳米薄膜热导率测试系统测量原理:当使用频率为f的电流周期加热金属薄膜时,热流的频率将为电流频率的2倍(2f)。如果样品由金属薄膜(0)-样品薄膜(1)-基体(s)组成(如图),可由一维热导模型计算出金属薄膜上表面的温度变化T(0)。假设热量全部传导到基体,则T(0)可由下式计算:(λ/Wm-1K-1,C/JK-1m-3,q/Wm-3,d/m,ω(=2πf)/s-1)式中实部(同相振幅)包含样品薄膜的信息。如热量全部传导到基体,则同相振幅正比于(2 ω)0.5,薄膜的热导率(λ1)可由下式给出:(m:斜率,n:截距)纳米薄膜热导率测试系统参数:1. 测试温度:室温2. 样品尺寸:长10~20mm,宽10mm 厚0.3~1mm(含基体)3. 基体材料:Si(推荐) Ge,Al2O3(高热导率)4. 样品制备:样品薄膜上需沉积金属薄膜(100nm) (推荐:金)5. 薄膜热导率测量范围:0.1~10W/mK6. 测试氛围:大气设备概念图样品准备纳米薄膜热导率测试系统测试数据:Si基底上的SiO2薄膜(20-100nm)测量结果d1 / nm 19.9 51.0 96.8 λ1/ W m-1 K-1 0.82 1.03 1.20 发表文章1. K. Mitarai et al. / J. Appl. Phys. 128, 015102 (2020) 2. M. Yoshiizumi et al. / Trans. Mat. Res. Soc. Japan 38[4] 555-559 (2013)
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  • 仪器介绍:广州标际所生产的高端测厚仪,测厚仪,薄膜测厚仪适用于包装薄膜,片材等的氧气透过率的检测。 高端测厚仪_测厚仪_薄膜测厚仪功能用途GH-D型数字测厚仪是一种集光、机、电、算为一体的高精度数字测厚仪,操作方便。测量结果为数字显示。并且可以连接计算机进行自动控制。主要用于对塑料薄膜,纸张等直接测量或比较测量。 高端测厚仪_测厚仪_薄膜测厚仪产品特点测量精确,运行可靠,测量分辨率高达0.1微米;支持手动、自动双重测量模式;可单点测试也可多点测试自动进样间距、测量点数可调;液晶显示,可微机打印测试结果;测量过程即时显示最大值、最小值、平均值及当前值 可连接计算机,专业软件支持(可选)。 高端测厚仪_测厚仪_薄膜测厚仪技术参数测量范围:0~5mm分 辨 率:0.1&mu m进样间距:0~1000mm测量点数:0~10点
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纳米薄膜测厚仪相关的资讯

  • 天津港东SGC-10型薄膜测厚仪新品发布
    SGC-10薄膜测厚仪,适用于介质,半导体,薄膜滤波器和液晶等薄膜和涂层的厚度测量。该薄膜测厚仪,由我公司与美国new-span公司合作研制,填补了国内多项空白。该产品采用new-span公司先进的薄膜测厚技术,基于白光干涉的原理来测定薄膜的厚度和光学常数(折射率n,消光系数k)。它通过分析薄膜表面的反射光和薄膜与基底界面的反射光相干形成的反射谱,用相应的软件来拟合运算,得到单层或多层膜系各层的厚度d,折射率n,消光系数k。该设备关键部件均为国外进口,也可根据客户需要整机进口。详细信息可直接登录我公司网站www.tjgd.com 。或者来电咨询 022-83711190 。
  • 苏州纳米所在大载流、高导电碳纳米管复合薄膜研究方面获进展
    导体材料是信息交互、电能传输和力、热、光、电、磁等能量转换的基础性材料,在航空航天、新能源汽车、电力线路等领域具有重要应用价值。随着大功率器件的发展,对轻量化、大载流、高导电性材料的需求越来越迫切。单根单壁碳纳米管(SWCNT)拥有极高的载流能力和电导率,载流能力比传统金属铜高出2~3个数量级,电导率更是银的1000倍以上。然而,当SWCNT组装成宏观薄膜的时候,由于碳管间电子/声子散射的影响,载流能力和电导率会显著降低,从而制约SWCNT薄膜在大功率器件领域的应用。 针对上述问题,中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所研究员康黎星等提出并研制了新型大载流、高导电碳纳米管复合薄膜材料。研究团队采用化学气相输运法将CuI均匀高效地填充到SWCNT管腔中,制备出CuI@SWCNT一维同轴异质结。SWCNT对CuI具有保护作用,保持了CuI的电化学活性,使其能够在恶劣的酸性环境和长期电化学循环下保持稳定性。研究通过电学测量发现,CuI@SWCNT薄膜相较于SWCNT薄膜具有更优的电导率和更强的载流能力,其载流能力提升4倍,达到2.04×107 A/cm2,电导率提升8倍,达31.67 kS/m。  SWCNT填充CuI后,SWCNT中电子流向CuI,导致SWCNT的费米能级降低;同时,CuI@SWCNT一维范德华异质结中SWCNT的结构未被破坏,载流子依然保持高效的传递速率,进而使得CuI@SWCNT薄膜具有更高的导电性和载流能力。CuI@SWCNT复合薄膜在未来高功率电子器件、大电流传输等应用中具有潜力。 相关研究成果以CuI Encapsulated within Single-Walled Carbon Nanotube Networks with High Current Carrying Capacity and Excellent Conductivity为题,发表在《先进功能材料》(Advanced Functional Materials)上。研究工作得到国家重点研发计划和国家自然科学基金等的支持。
  • 纳米薄膜材料制备技术新进展!——牛津大学也在用的薄膜沉积系统,有什么独特之处?
    一、纳米颗粒膜制备日前,由英国著名的薄膜沉积设备制造商Moorfield Nanotechnology公司生产的套纳米颗粒与磁控溅射综合系统在奥地利的莱奥本矿业大学Christian Mitterer教授课题组安装并交付使用。该设备由MiniLab125型磁控溅射系统与纳米颗粒溅射源共同组成,可以同时满足用户对普通薄膜和纳米颗粒膜制备的需求。集成了纳米颗粒源的MiniLab125磁控溅射系统 传统薄膜材料的研究专注于制备表面平整、质地致密、晶格缺陷少的薄膜,很多时候更是需要制备沿衬底外延生长的薄膜。然而随着研究的深入,不同的应用方向对薄膜的需求是截然不同。在表面催化、过滤等研究方向,需要超大比表面积的纳米薄膜。在这种情况下,纳米颗粒膜具有不可比拟的优势。而传统的磁控溅射在制备纯颗粒膜方面对于粒径尺寸,颗粒均匀性方面无法实现控制。气相沉积法、电弧放电法、水热合成法等在适用性、操作便捷性、与传统样品处理的兼容性等方面不友好。在此情况下,Moorfield Nanotechnology推出了与传统磁控溅射和真空设备兼容的纳米颗粒制备系统。不同条件制备的颗粒粒径分布(厂家测试数据)不同颗粒密度样品(厂家测试数据)纳米颗粒制备技术特点:▪ 纳米颗粒的大小1 nm-20 nm可调;▪ 多可达3重金属,可共沉积,可制备纯/合金颗粒;▪ 材料范围广泛,包括Au、Ag、Cu、Pt、Ir、Ni、Ti、Zr等▪ 拥有通过控制气氛制造复合纳米粒子的可能性(类似于反应溅射)▪ 的纳米颗粒层厚度控制,从亚单层到三维纳米孔▪ 纳米颗粒结构——结晶或非晶、形状可控纳米颗粒膜的应用方向:▪ 生命科学和纳米医学: 癌症治疗、药物传输、抗菌、抗病毒、生物膜▪ 石墨烯研究方向:电子器件、能源、复合材料、传感器▪ 光电研究:光伏研究、光子俘获、表面增强拉曼▪ 催化:燃料电池、光催化、电化学、水/空气净化▪ 传感器:生物传感器、光学传感器、电学传感器、电化学传感器 二、无机无铅光伏材料下一代太阳能电池的大部分研究都与铅-卤化物钙钛矿混合材料有关。然而,人们正不断努力寻找具有类似或更好特性的替代化合物,想要消除铅对环境的影响,而迄今为止,这种化合物一直难以获得。因此寻找具有适当带隙范围的无铅材料是很重要的,如果将它们结合起来,就可以利用太阳光谱的不同波长进行发电。这将是提高未来太阳能电池效率降低成本的关键。近期,牛津大学的光电与光伏器件研究组的Henry Snaith教授与Benjamin Putland博士研究了具有A2BB’X6双钙钛矿结构的新型无机无铅光伏材料。经过计算该材料具有2 eV的带隙,可用做光伏电池的层吸光材料与传统Si基光伏材料很好的结合,使光电转换效率达到30%。与有机钙钛矿材料相比,无机钙钛矿材料具有结构稳定使用寿命更长的优势。而这种新材料的制备存在一个问题,由于前驱体组分的不溶性和复杂的结晶过程容易导致非目标性的晶体生长,因此难以通过传统的水溶液法制备均匀的薄膜。Benjamin Putland博士采用真空蒸发使这些问题得以解决。使用Moorfield Nanotechnology的高质量金属\有机物热蒸发系统,通过真空蒸发三种不同的前驱体,研究人员成功沉积制备出了所需要的薄膜。真空蒸发具有较高的控制水平和可扩展性,使得材料的工业化制备成为可能。所制备的薄膜在150℃退火后,XRD图。所制备的薄膜在150℃退火后,表面SEM图 三、Moorfield 薄膜制备与加工系统简介Moorfield Nanotechnology是英国材料科学领域高性能仪器研发公司,成立二十多年来专注于高质量的薄膜生长与加工技术,拥有雄厚的技术实力,推出的多种高性能设备受到科研与工业领域的广泛好评。高精度薄膜制备与加工系统 – MiniLab旗舰系列和nanoPVD台式系列是英国Moorfield Nanotechnology公司经过多年技术积累与改进的结晶。产品的定位是配置灵活、模块化设计的PVD系统,可用于高质量的科学研究和中试生产。设备的功能和特点:▪ 蒸发设备:热蒸发(金属)、低温热蒸发(有机物)、电子束蒸发▪ 磁控溅射:直流&射频溅射、共溅射、反应溅射▪ 兼容性:可与手套箱集成、满足特殊样品制备▪ 其他功能设备:二维材料软刻蚀、样品热处理▪ 设备的控制:触屏编程式全自动控制

纳米薄膜测厚仪相关的方案

纳米薄膜测厚仪相关的资料

纳米薄膜测厚仪相关的论坛

  • 【原创】薄膜测厚仪

    【原创】薄膜测厚仪

    电容性薄膜测厚仪 http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2017/01/201701191656_646126_2244676_3.jpg 名称属性 测厚仪组成部分发射探头 1个接受探头 1个电脑控制转换器 1个工业触摸屏 1个操作柜 1台U型探头支架 1个技术指标检测厚度: 10um-20mm检测精度:土0.1um检测宽度:根据产品宽度循环测厚设定在线速度 max:60m\min作业环境海拔低于1500米,三相380v电。适用于POF、牛奶包装膜、彩印膜、大棚膜等各类薄膜产品。

  • 薄膜测厚仪的知识你知道吗?

    薄膜测厚仪的知识你知道吗?

    随着科技的发展,市场上出现了很多高科技的产品,随着各式各样的产品出现,对我们生活、工作中带来巨大的影响,下面小编要为大家普及薄膜测厚仪知识,希望能给您带来帮助!  薄膜测厚仪的应用范围很广,可以进行诸多产品的测量,所以,它被广泛应用于各个行业;在产品检测方面有着非常突出的应用,有时候可以超乎人们的想象,有些没有使用过它的工作者,从它的身上得到了非常多的好处。有了它,能够提高用户的检测效率,使得生产工作进一步加快,建议那些还没有尝试过的客户,可以去尝试一下,应该会得到很有效的帮助。 http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2016/04/201604051141_589010_3085714_3.jpg  薄膜测厚仪帮助实现高精度的测量,就算是非接触式的测量也可以,大家都知道,在某些行业进行精确测量是非常重要的一件事情,更好的产品由此而生,测量出了偏差,一切就都不行了。大成精密薄膜测厚仪作为专门检测产品厚度的设备,它在这方面的能力就非常强,可以实现高效的检测服务。  薄膜测厚仪的出现,大大提高了产品的生产效益,尤其是在自动化生产线上,如此高科技又好用的设备,如果你的车间还没有配备相关的设备,建议大家为提高生产为检测车间配备一台测厚仪,时代在前进,使用高效的设备,打造更好的产品,这才是保证不落后的方法。

  • 在线薄膜测厚仪,求购

    求购在线薄膜测厚仪,做压敏胶带用。现在有八条线,薄膜厚度25u,涂层厚度25u。大家有没有推荐的。

纳米薄膜测厚仪相关的耗材

  • 光学薄膜测厚仪配件
    教学型光学薄膜测厚仪配件是一款低价台式光学薄膜厚度测量仪,可测量薄膜厚度,薄膜的吸收率/透过率,薄膜反射率,荧光等,也可测量膜层的厚度,光学常量(折射率n和k)。光学薄膜测厚仪配件基于白光反射光谱技术,膜层的表面和底面反射的光VIS/NIR光谱,也是干涉型号被嵌入的光谱仪收集分析,结合多次反射原理,给出膜层的厚度和光学常数(n,k),到货即可使用,仅仅需要用户准备一台计算机提供USB接口即可,操作非常方便。光学薄膜测厚仪配件参数 可测膜厚: 100nm-30微米;波长范围: 300-1000nm 探测器:650像素Si CCD阵列,12bit A/D精度:1%斑点大小:0.5mm 光源:钨灯-汞灯(360-2000nm)所测样品大小:10-150mm, 计算机要求:Windows XP, vista, Win7均可,USB接口;尺寸:320x360x180mm 重量:9.2kg光学薄膜测厚仪配件应用用于薄膜吸收率,透过率和荧光测量,用于化学和生物薄膜测量,传感测量用于光电子薄膜结构测量 用于半导体制造用于聚合物薄膜测量 在线薄膜测量用于光学镀膜测量
  • 聚合物薄膜测厚仪配件
    聚合物薄膜测厚仪配件用于测量聚合物薄膜、有机薄膜、高分子薄膜和 光致抗蚀剂薄膜, 光刻胶膜,光刻薄膜,光阻膜在加热或制冷情况下薄膜厚度和光学常量(n, k)的变化。为了这种特色的测量,孚光精仪公司特意研发了专业的软件和算法,使得该聚合物薄膜测厚仪能够给出薄膜的物理化学指标:例如玻璃化转变温度 glass transition temperature (Tg),热分解温度,薄膜的厚度测量范围也高达10nm--100微米。聚合物薄膜测厚仪配件在传统薄膜测厚仪的基础上添加了加热/制冷的温度控制单元,使用白光反射光谱技术(WLRS),实时测量薄膜厚度和折射率,并通过专业软件记录下这些数据,能够快速实时给出薄膜厚度和薄膜光学常量等物理化学性能数据,并且能够控制薄膜加热和制冷的速度,是聚合物薄膜特性深入研究的理想工具。干膜测厚仪所使用的软件也适合薄膜的其他热性能研究,例如:薄膜的热消融/热剥蚀thermal ablation研究,薄膜光学性质随温度的变化,薄膜预烘烤Post Apply Bake,光刻过程后烘烤 Post Exposure Bake对薄膜厚度的损失等诸多研究。对于薄膜的厚度测量,这款聚合物薄膜测厚仪,薄膜热特性测厚仪要求薄膜衬底是透明的,背面是不反射的。它能够处理最高4层薄膜的膜堆layer stacks,给出两个参数:例如两个薄膜的厚度或一个薄膜的厚度和光学常量。这套聚合物薄膜测厚仪,薄膜热特性测厚仪已经成功应用于测量不同聚合物薄膜的热性能,光刻薄膜的热处理影响分析,Si晶圆wafer上的光致抗蚀剂薄膜分析等。聚合物薄膜测厚仪配件参数 可测膜厚: 5nm-150微米;波长范围:200-1100nm 精度:0.5%分辨率:0.02nm 测量点光斑大小:0.5mm可测样品大小:10-100mm计算机要求:Windows XP, vista, Win7均可,USB接口;尺寸:360x400x180mm重量:13.5kg 电力要求:110/230VAC聚合物薄膜测厚仪配件应用聚合物薄膜测量光致抗蚀剂薄膜测量化学和生物薄膜测量,传感测量光电子薄膜结构测量半导体薄膜厚度测量在线测量光学镀膜测量聚合物薄膜厚度测量polymer films测量测量有机薄膜厚度测量光致抗蚀剂薄膜测光刻胶膜测厚测量光刻薄膜厚度测量光阻薄膜测厚测量光阻膜厚度
  • 高精度膜厚仪|薄膜测厚仪A3-SR光学薄膜厚度测量(卤素灯)
    目标应用: 半导体薄膜(光刻胶) 玻璃减反膜测量 蓝宝石薄膜(光刻胶) ITO薄膜 太阳能薄膜玻璃 各种衬底上的各种膜厚 卷对卷柔性涂布 颜色测量 车灯镀膜厚度 其他需要测量膜厚的场合 阳极氧化厚度产品型号A3-SR-100 产品尺寸 W270*D217*(H90+H140)测试支架(配手动150X150毫米测量平台和硅片托盘)测试方式可见光,反射 波长范围380-1050纳米光源钨卤素灯(寿命10000小时) 光路和传感器光纤式(FILBER )+进口光谱仪 入射角0 度 (垂直入射) (0 DEGREE) 参考光样品硅片光斑大小LIGHT SPOTAbout 1 mm(标配,可以根据用户要求配置)样品大小SAMPLE SIZE150mm,配150X150毫米行程的工作台和6英寸硅片托盘 膜厚测量性能指标(THICKNESS SPECIFICATION):产品型号A3-SR-100厚度测量 1Thickness15 nm - 100 um 折射率 1(厚度要求)N 100nm and up准确性 2 Accuracy 2 nm 或0. 5%精度 3precision0.1 nm1表内为典型数值, 实际上材料和待测结构也会影响性能2 使用硅片上的二氧化硅测量,实际上材料和待测结构也会影响性能3 使用硅片上的二氧化硅(500纳米)测量30次得出的1阶标准均方差,每次测量小于1秒.
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