太谱测量

光谱角分布测量系统■ 全波段光谱透过率测量，反射角分布测量■ 全波段光谱反射率测量，反射角分布测量■ 波长范围:200nm-IR■ 不同的光谱范围可能需要不同的光学光路设计结构■ 双层平台独立旋转，重复定位精度0.005度，分辨率0.00125度；■ 样品置于上层旋台，探测器置于下层旋台，样品和探测器可以任意角度工作；■ 台面上放置一个五维调整镜座，可将样品调整到旋台的旋转中心并且垂直于台面■ 功能扩展：测量光栅衍射效率

PMEye-3000光致发光光谱成像（PL-Mapping）测量系统是卓立汉光最新研制的，用于LED外延片、半导体晶片、太阳能电池材料等，在生产线上的质量控制和实验室中的产品研发检测。该系统对样品的PL谱进行Mapping二维扫描成像，扫描结果以3D方式进行显示，使检测结果更易于分析和比较。该系统的软件窗口界面友好，操作简单，只需简单培训就能使用。测试原理：PL（光致发光）是一种辐射复合效应。在一定波长光源的激发下，电子吸收激发光子的能量，向高能级跃迁而处于激发态。激发态是不稳定的状态，会以辐射复合的形式发射光子向低能级跃迁，这种被发射的光称为荧光。荧光光谱代表了半导体材料内部，一定的电子能级跃迁的机制，也反映了材料的性能及其缺陷。PL是一种用于提供半导体材料的电学、光学特性信息的光谱技术，可以研究带隙、发光波长、结晶度和晶体结构以及缺陷信息等等。应用领域举例：LED外延片，太阳能电池材料，半导体晶片，半导体薄膜材料等检测与研究。 主要特点：◆ PLMapping测量◆ 多种激光器可选◆ Mapping扫描速度：180点/秒◆ 空间分辨率：50um◆ 光谱分辨率：0.1nm@1200g/mm◆ Mapping结果以3D方式显示◆ 最大8吋的样品测量◆ 样品精确定位◆ 样品真空吸附◆ 可做低温测量◆ 膜厚测量一体化设计，操作符合人体工学PMEye3000 PL Mapping测量系统采用立式一体化设计，关键尺寸根据人体工学理论设计，不管是样品的操作高度和电脑使用高度，都特别适合于人员操作。主机与操作平台高度集成，方便于在实验室和检测车间里摆放。仪器侧面设计有可收放平台，可摆放液晶显示器和鼠标键盘。仪器底部装有滚轮，方便于仪器在不同场地之间的搬动。模块化设计PMEye-3000 PL Mapping测量系统全面采用模块化设计思想，可根据用户的样品特点来选择规格配置，让用户有更多的选择余地。激发光源、样品台、光谱仪、探测器、数据采集设备都实现了模块化设计。操作简便、全电脑控制PMEye-3000 PL Mapping测量系统，采用整机设计，用户只需要根据需要放置检测样品，无需进行复杂的光路调整，操作简便；所有控制操作均通过计算机来控制实现。全新的样品台设计，采用真空吸附方式对样品进行固定，避免了用传统方式固定样品而造成的损坏；可对常规尺寸的LED外延片样品进行精确定位，提高测量重复精度。两种测量方式,用途更广泛系统采用直流和交流两种测量模式，直流模式用于常规检测，交流模式用于微弱荧光检测。监控激发光源,校正测量结果一般的PL测量系统只是测量荧光的波长和强度，而没有对激发光源进行监控，而激发光源的不稳定性将会对PL测量结果造成影响。PMEye-3000 PL Mapping测量系统增加对激光强度的监控，并根据监控结果来对PL测量进行校正。这样就可以消除激发光源的不稳定带来的测量误差。激光器选配灵活PMEye-3000 PL Mapping测量系统有多种高稳定性的激光器可选，系统最多可内置2个激光器和一个外接激光器，标配为1个405nm波长高稳定激光器。用户可以根据测量对象选配不同的激光器，使PL检测更加精准。可选配的激光器波长有： 405nm，442nm，532nm、785nm、808nm等，外置选配激光器波长为：325nm。自动Mapping功能PMEye-3000 PL Mapping测量系统配置200× 200mm的二维电控位移台，最大可测量8英寸的样品。用户可以根据不同的样品规格来设置扫描区域、扫描步长、扫描速度等，扫描速度可高达每秒180个点，空间分辨率可达50um。扫描结果以3D方式显示，以不同的颜色来表示不同的荧光强度。 软件功能丰富,操作简便我们具有多年的测量系统操作软件开发经验，,熟悉试验测量需求和用户的操作习惯，从而使开发的这套PMEye-3000操作软件功能强大且操作简便。MEye-3000操作软件提供单点PL光谱测量及显示，单波长的X-Y Mapping测量，给定光谱范围的X-Y Mapping测量及根据测量数据进行峰值波长、峰值强度、半高宽、给定波长范围的荧光强度计算并以Mapping显示，Mapping结果以3D方式显示。同时具有多种数据处理方式来对所测量的数据进行处理。低温样品室附件该附件可实现样品在低温状态下的荧光检测。有些样品在不同的温度条件下，将呈现不同的荧光效果，这时就需要对样品进行低温制冷。如图所示，从图中我们可以发现在室温时，GaN薄膜的发光波长几乎涵盖整个可见光范围，且强度的最高峰出现在580nm附近，但整体而言其强度并不强；随着温度的降低，发光强度开始慢慢的增加，直到110K时，我们可以发现在350nm附近似乎有一个小峰开始出现，且当温度越降越低，这个小峰强度的增加也越显著，一直到最低温25K时，基本上就只有一个荧光峰。GaN薄膜的禁带宽度在室温时为3.40Ev,换算成波长为365nm，而我们利用PL系统所测的GaN薄膜在25K时在356.6nm附近有一个峰值，因此如果我们将GaN薄膜的禁带宽度随温度变化情况也考虑进去，则可以发现在理论上25K时GaN的禁带宽度为3.48eV，即特征波长为357.1nm，非常靠近实验所得的356.6nm，因此我们可以推断这个发光现象应该就是GaN薄膜的自发辐射。

组合式荧光光谱测量系统-OmniFluo系列荧光光谱测量系统介绍系统组成：在许多应用领域如材料学、生物学（叶绿素和类胡萝卜素）、生物医学（恶性病的荧光诊断）和环境应用中都需要用到荧光检测技术。荧光检测通常需要高灵敏度光谱仪，在大多数应用中荧光能量仅为激发光能量的0.1%，波长要长于激发光，而且是散射光。在荧光测量系统中，一定要避免激发光进入到光谱仪中。荧光实验光学布局中的一个重点是如何避免激发光进入光谱仪, 以下几种方法提供给各位参考:1. 选择TLS或TLSE系列可调单色光源作为荧光激发源，因其具有良好的单色性，杂散光低，能够较少的影响荧光的检测；2. 在光路上使用垂直90°配置，避免激发光直射或镜面反射至荧光光谱仪，可大幅降低激发光对荧光的干扰。可调单色光源+样品室＋荧光光谱仪＋数据采集及处理系统＋软件＋计算机系统优点：可同时做激发谱及发射谱,对于未知激发谱之材料可提供更有效分析工具。OmniFluo系列组合式荧光光谱测量系统OmniFluo 系列荧光光谱测量系统采用模块化的组合方式集成而成，通过不同配件的选择，不仅可以实现荧光光谱测量，还能够实现功能的多样化，如PL、拉曼、透射反射吸收、探测器定标等光谱测量；系统采用一体化的光学调校，可以完全固定在一块精密光学平板上，只需要在初次安装时进行调校，实际应用过程中只需要对样品进行简单调整，确保在仪器使用中始终保持高效率的操作。OmniFluo-113型光子计数级稳态荧光光谱系统主要技术参数:● 激发光源：TLSE1805i-X150可调单色光源，采用150W氙灯● 激发光功率：0.3mW（@500nm，单色）● 激发光谱范围：250-1500nm（可选200-1500nm）● 激发光谱带宽：0.15-10nm（连续可调@1200g/mm光栅）● 荧光光谱仪光谱范围：200-2500nm● 荧光光谱带宽：0.1-8nm（连续可调@1200g/mm光栅）● 波长准确度：±0.25nm（Ex），±0.2nm（Em）● 波长重复性：±0.1nm（Ex，Em）● 光探测器：光子计数级光电倍增管，200-850nm● 数据采集器：DCS200PC单光子计数器，计数率：100Mcps● 系统灵敏度：纯水拉曼峰信噪比：1,000:1（RMS@带宽5nm，积分时间1s）● 超大样品室设计，便于操作，并可选配多种滤光片附件及偏振附件● 提供荧光量子产率测量附件● 可选配闭循环超低温制冷机，最低温度可达2K● 系统扩展性：采用模块化设计，可扩展至近红外波段光谱测量● 可选配锁相放大器，特别适合红外波段测量时提升系统信噪比● 软件提供灵活的实验运行步骤自定义功能，可随时储存和提取图谱，并能够进行复杂的光谱处理及光谱数据间的四则运算