低温等离射仪

俄罗斯VNIIOFI真空低温黑体辐射源系列是由俄罗斯联邦技术控制和计量属的“全俄光学物理学测量研究所”研制的。目前，已经在全球多个国家计量院得到应用，而且已经得到用户的广泛赞誉。 真空低温黑体辐射源系列拥有很高的稳定性，而且型号众多，低温可低至80K，具体型号请寻约克公司。 低温黑体辐射源产品特点：★ 口径大：直径100mm★ 稳定性能高★ 发射率高：0.997★ 真空环境下温度可以达到-60°C型号BB100-V1温度范围-60°C～90 °C—真空环境(-50～90) °C—惰性气体或者干燥气体吹扫开口孔径100mm空腔直径120mm辐射腔材料铜沿空腔的温度梯度≤ ± 0.1 °C温度不稳定性≤ ± 0.05 °C温度控制通过外部恒温循环器有效发射率0.997(1.5～15μm)全部的温度传感器5支铂电阻（100Ω）温度测量基于KEITHLEY 2000 (或者 Agilent 34660) 数字表和多路放大器5支经过校准的PRT100温度传感器用于温度监控（2支沿腔体放置，3支放置在腔体的底部）。低温黑体辐射源型号BB80/350温度范围220—350K额外的设定点313K工作孔径350mm光谱范围2.5—15μm发射率0.96±0.02不确定度@280—300K±0.1K重复性@300K0.5K10分钟稳定性5K连续运行时间8小时工作环境在室内干燥的氮气气氛标准压力环境温度：0—30°C真空室P=10-5—10-8Torr环境温度：77K

SD-900M 型离子溅射仪外观亮丽做工精致。可用于不耐高温的样品，对不耐温的样品起到保护作用。不至于产生形变等（如：薄膜类样品，树脂类等等） 磁控溅射是物理气相沉积的一种。 一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点， 磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。因为是在低气压下进行高速溅射，必须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。 经工程师测试3分钟内的工作温度约为60度。可升级为手套箱专用手套箱版图需要镀膜的样品1、电子束敏感的样品:主要包括生物样品，塑料样品等。SEM中的电子束具有较高能量，在与样品的相互作用过程中，它以热的形式将部分能量传递给样品。如果样品是对电子束敏感的材料，那这种相互作用会破坏部分甚至整个样品结构。这种情况下，用一种非电子束敏感材料制备的表面镀层就可以起到保护层的作用，防止此类损伤；2、非导电的样品:由于样品不导电，其表 面带有“电子陷阱”， 这种表面上的电子积累 被称为“充电”。为了 消除荷电效应，可在样 品表面镀一层金属导电 层，镀层作为一个导电 通道，将充电电子从材 料表面转移走，消除荷 电效应。在扫描电镜成 像时，溅射材料增加信 噪比，从而获得更好的成像质量。3、新材料:非导电材料和半导体材料原理： 在磁控溅射中，由于运动电子在磁场中受到洛仑兹力，它们的运动轨迹会发生弯曲甚至产生螺旋运动，其运动路径变长，因而增加了与工作气体分子碰撞的次数，使等离子体密度增大，从而磁控溅射速率得到很大的提高，而且可以在较低的溅射电压和气压下工作，降低薄膜污染的倾向；另一方面也提高了入射到衬底表面的原子的能量，因而可以在很大程度上改善薄膜的质量。同时，经过多次碰撞而丧失能量的电子到达阳极时，已变成低能电子，从而不会使基片过热。参数：主机规格：300mm×360mm×380mm（W×D×H）靶（上部电极）：金：50mm×0.1mm（D×H）靶材：Au（标配）也可根据实际情况配备银靶、铂靶等样品室：硼硅酸盐玻璃160mm×120mm（D×H）样品台：可安装直径50mm和直径70mm的样品台，也可根据自身要求定制样品台靶材尺寸：Ф50mm 真空指示表： 最高真空度：≤ 4X10-2 mbar离子电流表： 最大电流：100mA定时器：数码 最长时间：0-999S微型真空气阀：可连接φ3mm软管可通入气体： 多种最高电压： -1600 DCV机械泵：标准配置2L/S（国产VRD-8）输入电压：220V(可做110V),50HZ溅射速录：40nm/min特点：1、经济、可靠、外观精美。2、成膜速率高。3、基片温度低。4、膜的粘附性好。5、可实现大面积镀膜。6、可调节溅射电流和真空室压强以控制镀膜的速率和颗粒的大小。7、SETPLASMA手动启动按钮可预先设置好压强和溅射电流避免对膜造成不必要的损伤。8、真空保护可避免真空过低造成设备短路。

漫反射光谱是检测粗糙材料表面变化的一种非常敏感的方法。它对于具有高表面积的粉末特别有效。这使得漫反射对于异质催化、气固相互作用、光化学反应和氧化机制的研究非常宝贵。此低温反应室非常适合在精心变化的温度和压力下进行此类研究。这些低温反应室允许在广泛的受控温度和压力下进行漫反射测量,并与 FT-IR 和 UV-Vis 漫反射光谱的祈祷万只龙头附件结合使用。特征设计用于从高真空(133 μPa 或 10-6 torr)到 133 kPa (1 ktorr) 和 -150°C 至 600°C(真空下)的低温。提供三个入口/出口口,用于疏散电池和引入气体。由耐化学腐蚀的316不锈钢制成。包括反应室低压加热盒。K型热电偶。样品包装工具和溢出托盘。带两个 KBr 窗口和一个玻璃观察窗口的圆顶(FTIR 配置)带两个 SiO2 窗口和一个玻璃观察窗的圆顶(UV-Vis-NIR 配置)MODEL NO.NAMECHC-CHA-3Praying Mantis™ Low Temperature Reaction Chambers (FTIR)CHC-VUV-3Praying Mantis™ Low Temperature Reaction Chambers (UV-Vis-NIR)美国Harrick Praying Mantis反应室 HVC高温反应室 CHC-CHA低温反应室 HVC-MRA-5拉曼高温反应室美国Harrick Praying Mantis反应室主要应用：在压力和温度控制范围内，允许漫反射测试，必须配套Praying Mantis漫反射附件美国Harrick Praying Mantis反应室两种模式可选：1、高温反应室(HVC)：操作压力从真空(133μPa或10-6torr)到133kPa(1 ktorr)，操作温度可高达910℃ (在真空条件下)。可选配高压穹顶加压至3.44MPa(25.8 ktorr)。2、低温反应室(CHC-CHA)：操作压力从真空(133μPa或10-6torr)到133kPa(1 ktorr)，操作温度从-150℃至600℃ (在真空条件下)。美国Harrick Praying Mantis反应室主要特点：左右两个进/出气口，中间一个抽真空口316不锈钢耐化学腐蚀低压加热筒K型热电偶穹顶含有两个透红外光窗片和一个石英观察窗片CHC-CHA低温反应室 HVC-MRA-5拉曼高温反应室 HVC高温反应室 低温反应室 高温反应室