石英窗

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石英窗相关的厂商

  • 沭阳晶通石英科技有限公司,成立于2015年,创始团队成员拥有十数年石英行业从业经验,主要生产加工各种光学石英玻璃,同时兼营其他石英制品,产品包括:光学石英玻璃超薄片,载玻片盖玻片,石英片,石英管,实验室石英玻璃器皿类和其他石英玻璃深加工。公司同中科院生物物理研究所,中科大,国防科大等全国著名高校和科研单位保持长期合作关系。
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  • 东海县浩远石英制品有限公司是2010年4月创建的科技型民营企业,是一家集科研、生产、销售为一体的硅资源深加工企业。公司技术力量雄厚,产品规格齐全,质量稳定,在国内石英玻璃生产及新产品的研发领域独树一帜。 公司高度专注于石英玻璃及石英玻璃深加工的研发生产,原材料进口美国unimin高纯石英砂、挪威高纯石英砂、国产高纯石英砂,sio2纯度达99.92%-99.99%,主要产品有各种规格透明石英管、乳白石英管、低羟基石英管、无臭氧石英管、滤紫外石英管、石英棒、石英片、水晶条、石英视窗、石英隔热罩、扩散炉管、石英护套管、石英消解池、石英双层套管、石英缸、石英加热器、石英硫酸蒸发器、石英舟、石英坩埚、石英烧杯、石英三口烧瓶、石英试剂瓶、石英容量瓶等各种耐高温石英器皿。 东海县浩远石英制品有限公司拥有有经验的技术人才,的技术团队,先进的生产设备,准确的检测仪器和高等的配套服务,运用先进的管理模式,为客户生产各种规格的准确石英制品,并可以为客户来图来料加工。 竭诚欢迎海内外宾朋光临,谋求共同发展!
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  • 东海县丰宇石英制品有限公司坐落于东海县,专业石英管厂家,主营:大口径石英管、石英法兰、大口径(Φ80-280mm)及厚壁大口径(壁厚4-10mm)透明石英玻璃管, 大口径滤紫外、无臭氧、低羟基(OH2ppm)和光源用石英管、石英玻璃棒(1.8-60mm)、石英玻璃片、石英玻璃器皿、石英管切割、石英管加工、石英管批发、烧口、封口、磨砂、异形等加工。公司成立于2016年4月29日,占地70亩,拥有固定资产300万元,生产高品质石英制品近二十年,用于点光源,消毒杀菌,化工,通讯,加热灯行业。主营产品:大口径(Φ80-280mm)及厚壁大口径(壁厚4-10mm)透明石英玻璃管, 大口径滤紫外、无臭氧、低羟基(OH2ppm)和光源用石英管、石英玻璃棒(1.8-60mm)、石英玻璃片、石英玻璃器皿、石英管切割、烧口、封口、磨砂、异形等加工。为增强企业的市场竞争力,每年科研投入不少于100万。我公司开拓进取,科学创新,努力打造成为石英届的精英。
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石英窗相关的仪器

  • RAFSW熔融石英窗口片-JGS1,JGS2,JGS3,Corning7979,Corning7980等特点:石英窗口片具有良好的耐温特性,急速高低温具有良好的耐受性,低光谱损耗,紫外-红外宽光谱透过,,高精度,低膨胀系数等特点 ■紫外熔融石英JGS1光谱范围185-2500nm■光学熔融石英JGS2光谱范围200-2500nm ■全光谱熔融石英JGS3光谱范围260-3500nm■紫外透过率比K9透过率高 JGS1,JGS2,JGS3典型参考光谱曲线应用于:光源窗口,紫外探测窗口,航天航空,激光系统,科研实验窗口,检测器窗口等由于瑞研提供石英玻璃的具有各种优良特性,它是近代jian端技术中空间技术、原子能工业、自动化系统,以及半导体、冶金、化工、电光源、通讯、轻工、建材、电光源器、半导通信装置、激光器,光学仪器,实验室仪器、电学设备、医疗设备和耐高温耐腐蚀的化学仪器国防等工业中不可缺少的优良材料之一,应用十分广泛。石英窗口片物理性能石英玻璃片是用二氧化硅制造的特种工业技术玻璃,是一种非常优良的基础材料。石英玻璃片具有一系列优良的物理、化学性能,如:1、耐高温。石英玻璃的软化点温度约1730℃,可在1100℃下长时间使用,短时间zui高使用温度可达1450℃。2、耐腐蚀。除氢氟酸外,石英玻璃几乎不与其他酸类物质发生化学反应,其耐酸能力是陶瓷的30倍,不锈钢的150倍,尤其是在高温下的化学稳定性,是其他任何工程材料都无法比拟的。3、热稳定性好。适应玻璃的热膨胀系数极小,能承受剧烈的温度变化,将石英玻璃加热至1100℃左右,放入常温水中也不会炸裂。4、透光性能好。石英玻璃片在紫外线到红外线的整个光谱波段都有交好的透光性能,可见光透过率在93%以上,特别是在紫外线光谱区,zui大透过率可达80以上。5、石英玻璃的电绝缘性能好。石英玻璃的电阻值相当于普通玻璃的100倍,是极好的电绝缘材料,即使在常温下也具有良好的电性能。 石英玻璃片的光学性能有其独到之处,它既可以透过远紫外线,是所有透紫外材料zui优者,又可透过可见光可近红外光谱。由于石英玻璃耐高温,热膨胀系数极小,化学稳定性好,气泡、条纹、均匀性、双折射又可与一般光学玻璃媲美,所以它是在各种恶劣场合下工作具有高稳定度光学系数的必不可少的光学材料。 三种常见窗口片材料特性JGS1,JGS2,JGS3JGS1特性介绍:它是用高纯度氢氧熔化的光学石英玻璃,所以含有大量的羟基(2000ppm),具有优良的透紫外性能,特别是在短波紫外区,其透过性能远远地胜过所有其他玻璃,在185μm处的透过率可达90%,合成石英玻璃在2730nm处具有很强的吸收峰,无颗粒结构,是185-2500mμ波段范围内的优良光学材料。 JGS2特性介绍:石英原料和氢氧焰生产的石英玻璃,含有几十ppm的金属杂质。在2730nm处有吸收峰(羟基含量100-200ppm),有条纹和颗粒结构。它是透过220—2500μm波段范围内的良好材料。 JGS3特性介绍:用石英原料和真空电熔法生产的石英玻璃,含有几十ppm的金属杂质。有小气泡,颗粒结构和条纹,几乎不含(OH),具有较高的透红外性能,透过率高达85%以上,其应用波段范围260—3500μm的光学材料。 瑞研科技专业提供石英窗口片及镀膜服务可提供石英窗口片镀膜服务:抗反射膜,特定波长增透膜,宽波段增透膜,特定角度增透膜,激光波长增透膜755nm双面增透膜,1064nm增透膜,氟化镁增透膜,双面400-700nm增透膜,1064nm&532nm双波长增透膜,1654nm增透膜,700-1000nm增透膜,疏水膜层,防水膜层670nm增透膜,900-1000nm增透膜,640-840增透膜,405nm增透膜,400-900nm增透膜,400-1000nm增透膜,532nm增透膜,632.8nm增透膜,808nm增透膜,980nm增透膜,1064nm增透膜,1550nm增透膜,425-675nm增透膜;600-1050nm增透膜,370-675nm增透膜,650-1050nm增透膜,1050-1620nm增透膜,AR镀膜等 高精度定制服务:可提供高精度面型窗口片定制服务:1/10λ;1/20λ面型精度概念:面型精度采用精密抛光表面与理想平面的偏差量来表征。因为使用可以测量波面的干涉仪来测量,所以也称为反射面精度。面型精度的干涉条纹数的单位是λ。λ是干涉仪所用的氦氖激光器的波长632.8nm。表征面型精度有两个参数:PV和RMS值。PV值是 Peak to Valley (峰值与谷值的差值 ),RMS值是 Root Mean Square ( 均方根值 ),根据经验RMS值是PV值的1/3左右。因为像平面这类的简单形状,大多使用PV值来表示。例如:面型精度的PV值是1/4λ时,表示理想平面的zui大偏差值是158.2nm。 定制参数信息:光洁度:40-20;60-40;20-10等平行度:<3′;<2′;1-2′;<3″;≤5 arcsec;≤1 arcsec等厚度:0.5mm,1mm,1.3mm,1.5mm,2mm,2.5mm,3mm,4mm,5mm,8mm,10mm,20mm等波前畸变:λ/4@632.8nm;λ/8 @632.8nm;λ/10 @632.8nm;λ/20 @632.8nm平面窗口片楔角度,楔形定制,提供超大尺寸定制瑞研光学提供各种石英窗口片,包括JGS1,JGS2,JGS3,Suprasil 300,Corning 7940,Suprasil 1,Suprasil 2等定制高精密窗口片,瑞研光学可提供Zygo干涉仪校准紫外熔融石英窗口片紫外熔融石英从紫外到近红外波段(185-2100nm)都有很高的透过率,它是应用于紫外到近红外波长范围的理想选择。此外,与H-K9L(N-BK7)相比,紫外级熔融石英具有更好的均匀性和更低的热膨胀系数。瑞研光学提供未镀膜和镀膜的高精度窗口片,客户也可定制尺寸和镀膜。紫外熔融石英超薄窗口片超薄窗口片的厚度只有传统紫外熔融石英窗口片的1/10,此种窗口片属于易碎品,需小心处理。瑞研光学提供未镀膜和镀膜的高精度窗口片,客户也可定制尺寸和镀膜 基本参数尺寸公差:-0.2mm/+0厚度公差:±0.2mm棱边倒角:<0.25mm×45°通光孔径:90%光洁度:40-20表面精度:λ/4 @632.8nm平行度:<1′型号名称材料光谱范围厚度RAFSW1-1紫外石英窗口片JGS1185-2500nm1mmRAFSW1-2紫外石英窗口片JGS1185-2500nm2mmRAFSW1-3紫外石英窗口片JGS1185-2500nm3mmRAFSW1-5紫外石英窗口片JGS1185-2500nm5mmRAFSW1-10紫外石英窗口片JGS1185-2500nm10mmRAFSW2-1石英窗口片JGS2200-2500nm1mmRAFSW2-2石英窗口片JGS2200-2500nm2mmRAFSW2-3石英窗口片JGS2200-2500nm3mmRAFSW2-5石英窗口片JGS2200-2500nm5mmRAFSW2-10石英窗口片JGS2200-2500nm10mmRAFSW3-1全光谱石英窗口片JGS3260-3500nm1mmRAFSW3-2全光谱石英窗口片JGS3260-3500nm2mmRAFSW3-3全光谱石英窗口片JGS3260-3500nm3mmRAFSW3-5全光谱石英窗口片JGS3260-3500nm5mmRAFSW3-10全光谱石英窗口片JGS3260-3500nm10mm提供尺寸D10mm,D12.5mm,D25mm,25x25mm,D50mm,50x50mm等部分库存产品型号材料尺寸镀膜备注参数RAFSW1-D30-2JGS1D30X2mm无RAFSW1-D25.4-6JGS1D25.4X6mm无RAFSW7979-12.7-0.5Corning7979D12.7X0.5mm无RAFSW7979-30-2Corning7979D30X2mm无RAFSW1-D10-2-ARJGS1D10X2mm190-220nm增透RAFSW1-D20-2JGS1D20X2mm无RAFSW1-20-10-1JGS120x10mmx1mm无RAFSW1-D6-1JGS1D6x1mm无RAFSW1-D50.8-2JGS1D50.8X2mm无RAFSW1-D50.8-3JGS1D50.8X3mm无RAFSW1-D50.8-4JGS1D50.8X4mm无RAFSW1-D50.8-5JGS1D50.8X5mm无RAFSW1-D50.8-6JGS1D50.8X6mm无RAFSW3-D10-1-ARJGS3D10X1mm1500-2500nm增透RAFSW1-D6.95-7-ARJGS1D6.95mmx7mm900-1700nm增透RAFSW2-D30-2JGS2D30X2mm无RAFSW2-D20-2JGS2D20X2mm无RAFSW2-12-20-3JGS212x20x3mm无RAFSW2-D18-1.5JGS2D18X1.5mm无RAFSW2-D40-5JGS2D40X5mm无RAFSW2-D100-2.5JGS2D100X2.5mm无RAFSW1-D40-2-ARJGS1D40mmx2mm1064nm增透RAFSW1-D30-2-ARJGS1D30X2mm400-700nm增透RAFSW1-D12.7-3-ARJGS1D12.7x3mm532nm增透RAFSW1-80S-ARJGS280x80mmx1mm400-700nm增透 石英窗口片和K9窗口片;提供激光单波长增透;双波长增透;宽波段增透:166nm;193nm;284nm;351nm;355nm;532nm;632.8nm;745nm;670nm;780nm;792nm;808nm;980nm;1030nm;1064nm;1310nm;1535nm;1550nm;2060nm;350-650nm;420-670nm;650-1050nm;1050-1550nm增透指定波长透过率>99.8% 产品使用注意事项1,石英窗口片使用时须轻拿轻放,使用前需要清洗,一般用乙醇乙醚混合液,或者无水乙醇清洗,条件允许可采购瑞研销售的柯达进口专用清洗液清洗,操作时应戴手套,不允许用手直接触碰窗口片,尤其已经镀膜的窗口片。2,每种规格的石英窗口片都有一个zui高使用温度,使用时不应超过此温度3,如果石英窗口片已经在高温下工作,建议连续使用,这对窗口片使用寿命是有好处的,频繁处于高低温循环环境中,会虽短窗口片使用寿命。4.石英窗口片具有良好的热稳定性,可耐受急速温度变化,但是由于应力及机械尺寸的影响,热稳定性会下降。5.石英窗口片具有耐酸碱特性,但是使用时要避免多种化学酸碱物质混合接触石英窗口片。
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  • 石英毛细管开窗器 400-860-5168转0799
    TS-1石英毛细管开窗器 1. 石英毛细管检测窗口开窗,用于紫外可见或激光诱导荧光检测;2. 适用于各种内外径(外径≤1mm)的石英毛细管 3. 快速高效烧蚀表面聚酰亚胺涂层,完成2mm宽度毛细管窗口制作,时间只需5秒钟;4. 避免因窗口烧制过宽导致毛细管易在窗口处断裂;5. 精确完全去除毛细管外涂层,保证毛细管的良好透光性和检测高灵敏度;6. 不损伤毛细管内部石英玻璃的光学性能,保证毛细管的机械强度
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  • PVD,CVD 设备石英玻璃观察窗,变色试剂观察窗,透明玻璃观察窗,石英玻璃观察窗!KF-10,KF-16,KF-25,KF-40,KF-50,ISO-100,ISO-200 等,支持非标定做蓝宝石玻璃的,详情致电咨询: 莫先生。
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石英窗相关的资讯

  • 《石英晶体微天平-原理与应用》 一书出版
    由华南理工大学 张广照教授和中国科学技术大学刘光明教授合著的“石英晶体微天平-原理与应用”一书,近日由科学出版社出版。该书从石英晶体微天平的原理入手,深入浅出,详细介绍了使用石英晶体微天平在界面接枝高分子构象行为、高分子表面接枝动力学、聚电解质多层膜、磷脂膜、抗蛋白吸附以及纳米气泡表面清洁技术中的应用。本书在介绍石英晶体微天平基本原理的基础上,重点向读者展示了如何利用石英晶体微天平作为一项表征技术去研究界面上的一些重要科学成果。为了便于回答有关疑问,本书的应用例子均选自作者实验室的研究成果。
  • 如何免费获得DynaPro Titan 石英杯?
    试验过程中时刻保持DynaPro Titan 石英杯洁净,避免杂质干扰,并不是件容易的事情,Wyatt深知这是件非常困难的事情,也许您还在为手头上仅有的2个DynaPro Titan石英杯不够用而发愁。也许您还在为试验过程中需要一边测样,一边清洗石英杯造成不方便而烦恼。 那么,现在Wyatt 为答谢广大客户对本公司的长期支持,特推出买一赠一活动:凡在2009年9月20日至2009年12月31日期间,购买DynaPro Titan 石英杯的客户,将获得买一赠一的优惠。如需了解活动详情,欢迎来电垂询! 电话:010-82292806 Email:info@wyatt.com.cn
  • 高分子表征技术专题——石英晶体微天平在高分子研究中的应用
    2021年,《高分子学报》邀请到国内擅长各种现代表征方法的一流高分子学者领衔撰写从基本原理出发的高分子现代表征方法综述并上线了虚拟专辑。仪器信息网在获《高分子学报》副主编胡文兵老师授权后,也将上线同名专题并转载专题文章,帮助广大研究生和年轻学者了解、学习并提升高分子表征技术。在此,向胡文兵老师和组织及参与撰写的各位专家学者表示感谢。高分子表征技术专题前言孔子曰:“工欲善其事,必先利其器”。 我们要做好高分子的科学研究工作,掌握基本的表征方法必不可少。每一位学者在自己的学术成长历程中,都或多或少地有幸获得过学术界前辈在实验表征方法方面的宝贵指导!随着科学技术的高速发展,传统的高分子实验表征方法及其应用也取得了长足的进步。目前,中国的高分子学术论文数已经位居世界领先地位,但国内关于高分子现代表征方法方面的系统知识介绍较为缺乏。为此,《高分子学报》主编张希教授委托副主编王笃金研究员和胡文兵教授,组织系列从基本原理出发的高分子现代表征方法综述,邀请国内擅长各种现代表征方法的一流高分子学者领衔撰写。每篇综述涵盖基本原理、实验技巧和典型应用三个方面,旨在给广大研究生和年轻学者提供做好高分子表征工作所必须掌握的基础知识训练。我们的邀请获得了本领域专家学者的热情反馈和大力支持,借此机会特表感谢!从2021年第3期开始,以上文章将陆续在《高分子学报》发表,并在网站上发布虚拟专辑,以方便大家浏览阅读。期待这一系列的现代表征方法综述能成为高分子科学知识大厦的奠基石,支撑年轻高分子学者的茁壮成长!也期待未来有更多的学术界同行一起加入到这一工作中来。高分子表征技术的发展推动了我国高分子学科的持续进步,为提升我国高分子研究的国际地位作出了贡献. 借此虚拟专辑出版之际,让我们表达对高分子物理和表征学界的老一辈科学家的崇高敬意! 原文链接:http://www.gfzxb.org/article/doi/10.11777/j.issn1000-3304.2020.20248《高分子学报》高分子表征技术专题链接:http://www.gfzxb.org/article/doi/10.11777/j.issn1000-3304 石英晶体微天平在高分子研究中的应用袁海洋 1 ,马春风 2 ,刘光明 1 , 张广照 2 , , 1.中国科学技术大学化学物理系 合肥微尺度物质科学国家研究中心 安徽省教育厅表界面化学与能源催化重点实验室 合肥 2300262.华南理工大学材料科学与工程学院 广州 510640作者简介: 刘光明,男,1979年生. 2002年于安徽师范大学获得学士学位,2007年于中国科学技术大学获得博士学位. 2005~2006年,香港科技大学,研究助理;2008~2010年,澳大利亚国立大学,博士后;2010~2011年,中国科学技术大学,特任副教授;2011~2016年,中国科学技术大学,副教授;2016年至今,中国科学技术大学,教授. 获得2011年度中国分析测试协会科学技术奖(CAIA奖)(二等奖),2013年入选中国科学院青年创新促进会,并于2017年入选为中国科学院青年创新促进会优秀会员. 近年来的研究兴趣主要集中于高分子的离子效应方面 张广照,男,1966年生. 华南理工大学高分子科学与工程系教授. 1987年本科毕业于四川大学高分子材料系,1998年在复旦大学获博士学位. 先后在香港中文大学(1999~2001年)和美国麻省大学(2001~2002年)从事博士后研究. 2002~2010年任中国科学技术大学教授,2010至今在华南理工大学工作. 曾获国家杰出青年基金获得者(2007年),先后担任科技部重大研究计划项目首席科学家(2012年),国际海洋材料保护研究常设委员会(COIPM)委员(2017年),中国材料研究学会高分子材料与工程分会副主任,广东省化学会高分子化学专业委员会主任,《Macromolecules》(2012~2014年)、《ACS Macro Letters》(2012~2014年)、《Macromolecular Chemistry and Physics》、《Chinese Joural of Polymer Science》、《高分子材料科学与工程》编委或顾问编委. 研究方向为高分子溶液与界面物理化学,在大分子构象与相互作用、高分子表征方法学、杂化共聚反应、海洋防污材料方面做出了原创性工作 通讯作者: 刘光明, E-mail: gml@ustc.edu.cn 张广照, E-mail: msgzzhang@scut.edu.cn 摘要: 石英晶体微天平(QCM)作为一种强有力的表征工具已被广泛应用于高分子研究之中. 本文中,作者介绍了QCM的发展简史、基本原理以及实验样品制备方法. 在此基础上,介绍了如何基于带有耗散测量功能的石英晶体微天平(QCM-D)及相关联用技术研究界面接枝高分子构象行为、高分子的离子效应以及高分子海洋防污材料,展示了QCM-D技术在高分子研究中的广阔应用前景. QCM-D可同时检测界面高分子薄膜的质量变化和刚性变化,从而反映其结构变化. 与光谱型椭偏仪联用后,还可同步获取界面高分子薄膜的厚度变化等信息,可以有效解决相关高分子研究中的问题. 希望本文能够对如何利用QCM-D技术开展高分子研究起到一定的启示作用,使这一表征技术能够为高分子研究解决更多问题.关键词: 石英晶体微天平 / 高分子刷 / 聚电解质 / 离子效应 / 海洋防污材料 目录1. 发展简史2. 石英晶体微天平基本原理3. 石英晶体微天平实验样品制备3.1 在振子表面制备化学接枝高分子刷3.2 在振子表面制备物理涂覆高分子膜4. 石英晶体微天平在高分子研究中的应用4.1 界面接枝高分子构象行为4.2 高分子的离子效应4.2.1 高分子的离子特异性效应4.2.2 高分子的离子氢键效应4.2.3 高分子的离子亲/疏水效应4.3 高分子海洋防污材料5. 结语参考文献1. 发展简史1880年,Jacques Curie和Pierre Curie发现Rochelle盐晶体具有压电效应[1 ]. 1921年,Cady利用X切型石英晶体制造出世界上第一个石英晶体振荡器[2 ]. 但是,由于X切型石英晶体受温度影响太大,该切型石英晶体并未被广泛应用. 直到1934年,第一个AT切型石英晶体振荡器被制造出来[3 ],由于其在室温附近几乎不受温度影响,因而得到广泛应用. 1959年,Sauerbrey建立了有关石英晶体表面质量变化和频率变化的定量关系,即著名的Sauerbrey方程[4 ],该方程的建立为石英晶体微天平(QCM)技术的推广与应用奠定了坚实基础. 20世纪六七十年代QCM技术主要被应用于检测空气或真空中薄膜的厚度[5 ]. 1982年,Nomura和Okuhara实现了在液相中石英晶体振子的稳定振动,从而开辟了QCM技术在液相环境中的应用[6 ]. 1995年,Kasemo等开发了具有耗散因子测量功能的石英晶体微天平技术(QCM-D)[7 ],实现了对石英晶体振子表面薄膜的质量变化和结构变化进行同时监测. 近年来,随着科学技术的发展,出现了QCM-D与其他表征技术的联用. 如QCM-D与光谱型椭偏仪联用技术(QCM-D/SE)[8 ]、QCM-D与电化学联用技术[9 ]等,这些联用技术无疑极大地拓展了QCM-D的应用范围,丰富了表征过程中的信息获取量,加深了对相关科学问题的理解. 毋庸置疑,在过去的60年中,QCM技术已取得了长足进步,广泛应用于包括高分子表征在内的不同领域之中[10 ~14 ],为相关领域的发展作出了重要贡献.2. 石英晶体微天平基本原理对于石英晶体而言,其切形决定了石英晶体振子的振动模式. QCM所使用的AT切石英振子的法线方向与石英晶体z轴的夹角大约为55°[15 ],其振动是由绕z轴的切应力所产生的绕z轴的切应变激励而成的,为厚度剪切模式,即质点在x方向振动,波沿着y方向传播,该剪切波为横波(图1 )[15 ~17 ].图 1Figure 1. Schematic illustration of a quartz resonator working at the thickness-shear-mode, where the shear wave (red curve) oscillates in the horizontal (x) direction as indicated by the two blue double-sided arrows but propagates in the vertical (y) direction as indicated by the light blue double-sided arrows. The two gold lines represent the two electrodes covered on the two sides of the quartz crystal plate, and the dashed line represents the center line of the quartz crystal plate at the y direction. (Adapted with permission from Ref.[16 ] Copyright (2000) John Wiley & Sons, Inc).当石英振子表面薄膜厚度远小于石英振子厚度时,Sauerbrey建立了AT切石英压电振子在厚度方向上传播的剪切波频率变化(Δf)与石英压电振子表面均匀刚性薄膜单位面积质量变化(Δmf)间的关系,称为Sauerbrey方程[4 ]:其中,ρq为石英晶体的密度,hq为石英振子的厚度,f0为基频,n为泛频数,C = ρqhq/(nf0). Sauerbrey方程为QCM技术的应用奠定了基础. 值得指出的是,此方程一般情况下仅适用于真空或空气中的相关测量.当黏弹性薄膜吸附于石英振子表面时,振子的振动受到其表面吸附层的阻尼作用,因此需要定义一个参数耗散因子(D)来表征石英振子表面薄膜的刚性:其中,Q为品质因数,Es表示储存的能量,Ed表示每周期中消耗的能量. 较小的D值反映振子表面薄膜刚性较大,反之,较大的D值表明振子表面薄膜刚性较小.当QCM用于液相中的相关测量时,Kanazawa和Gordon于1985年建立了石英压电振子频率变化和牛顿流体性质间的关系,即Kanazawa-Gordon方程[18 ]:其中ηl代表液相黏度,ρl为液相密度. 1996年,Rodahl等建立了有关耗散因子变化与牛顿流体性质间关系的方程[19 ]:在液相中,石英振子表面黏弹性薄膜的复数剪切模量(G)可表示为[20 ]:G′代表薄膜的储存模量,G″代表薄膜的耗散模量,μf代表薄膜的弹性模量,ηf代表薄膜的剪切黏度,τf代表薄膜的特征驰豫时间. 因此,石英压电振子的频率变化和耗散因子变化可表示为[20 ]:其中ρf代表薄膜密度,hf代表薄膜厚度.石英压电振子的频率与耗散因子可以通过阻抗谱方法加以测量[16 ],也可以通过拟合振幅衰减曲线获得[7 ]. 以后者为例,当继电器断开后,由交变电压产生的驱动力会突然消失,石英压电振子的振幅在阻尼作用下会按照下面的方式逐渐衰减[21 ].其中t为时间,A(t)为t时刻的振幅,A0为t=0时的振幅,τ为衰减时间常数,φ为相位,C为常数. 注意此时输出频率(f)并非为石英振子的谐振频率,而是f0和参照频率(fr)之差[21 ]. 通过对石英压电振子振幅衰减曲线的拟合,可以得到f 和τ.耗散因子可以通过如下公式求得[7 ]:3. 石英晶体微天平实验样品制备在QCM-D表征高分子的研究过程中,需要在石英振子表面制备高分子膜,所制备高分子膜的质量对相关实验测量有重要影响. 下面以在石英振子表面制备化学接枝高分子刷和物理涂覆高分子膜为例,介绍相关高分子膜的制备:3.1 在振子表面制备化学接枝高分子刷高分子刷可以通过“grafting to”或“grafting from”方法接枝于石英振子表面. 一般情况下,前者的接枝密度较低,而后者的接枝密度相对较高. 对于金涂层的石英振子而言,巯基和金表面可以生成硫金键,在基于“grafting to”技术制备高分子刷时,可以将含有巯基末端的高分子溶液添加至自制的QCM反应器中. 在该自制的反应器中,石英振子正面接触溶液,利用橡胶圈对石英振子的背面加以密封. 在接枝反应充分完成后,取出振子,利用大量溶剂冲洗振子表面,随后使用氮气吹干振子,即可完成相关高分子刷的制备. 此外,也可以在QCM检测模块中完成利用“grafting to”策略制备高分子刷,此时可实时监测高分子接枝过程中的频率以及耗散因子变化[22 ,23 ].在利用“grafting from”策略在振子表面制备高分子刷时,可采用活性自由基聚合等方法加以实现. 以表面引发原子转移自由基聚合(SI-ATRP)制备高分子刷为例,首先利用自制的反应器将引发剂接枝于振子表面,然后将振子放置于相应的包括单体的溶液中,并通过SI-ATRP方法在振子表面引发单体聚合,制备高分子刷. 在采用SI-ATRP方法在振子表面制备高分子刷的过程中,除去溶液中溶解的氧气这一步骤非常关键,需要加以特别注意,否则可能会导致制备高分子刷失败. 在反应结束后,需要采取相应的程序进一步纯化振子表面制备的高分子刷. 类似于“grafting to”策略,利用“grafting from”策略在振子表面制备高分子刷也可以在QCM检测模块中完成[24 ~26 ].3.2 在振子表面制备物理涂覆高分子膜以旋涂法在振子表面制备高分子膜过程中,首先将振子放置于旋涂仪上,抽真空使振子固定,将高分子溶液滴在振子表面后,启动旋涂仪,高分子溶液将沿着振子的径向铺展开来. 伴随溶剂的挥发,可在振子表面制备一层物理涂覆的高分子薄膜[27 ,28 ]. 在利用旋涂法制备高分子膜时,溶剂的选择、高分子溶液的浓度以及环境的湿度等都会对振子表面的成膜情况产生影响,需要加以注意.4. 石英晶体微天平在高分子研究中的应用QCM在高分子薄膜研究中得到了广泛应用,已有一些国内外学者对相关方面的研究进展进行了总结. 例如,Du等总结了QCM在聚合物水凝胶薄膜等研究中的应用[29 ];He等总结了QCM在表面引发聚合反应动力学等研究方面的进展[30 ];Sun等总结了QCM在生物医用高分子材料中的应用[31 ];Marx总结了QCM在生物高分子薄膜等研究方面的进展[32 ]. 另一方面,在高分子研究中,QCM-D的测量结果不但与其振子表面的高分子薄膜密切相关,也与QCM-D检测模块中高分子溶液的非牛顿流体行为有关,例如,Munro和Frank研究了聚丙烯酰胺分子量及溶液浓度对其在QCM-D振子表面吸附的影响[33 ];为了阐明大分子溶液非牛顿流体行为对QCM-D振子表面与大分子间相互作用的影响,Choi等研究了QCM-D特征参数S2对聚乙二醇溶液浓度的依赖性[34 ];更多相关方面的研究可参阅有关文献,在此不作详细讨论. 本文将以作者的相关高分子研究工作为例,介绍QCM-D在界面接枝高分子构象行为、高分子的离子效应以及高分子海洋防污材料研究中的应用,进一步展示QCM-D在高分子研究中的广阔应用前景.4.1 界面接枝高分子构象行为众所周知,界面接枝高分子的构象行为对界面性质至关重要[35 ]. 然而,对界面接枝高分子的构象行为进行实时原位表征一直面临许多挑战. 研究界面接枝高分子的构象行为,首先需要理解高分子在界面接枝过程中的构象变化. 在低接枝密度下,由于链间距离大于链本身的尺寸,链间不发生交叠,此时,根据高分子链节与界面间相互作用的强弱,高分子会形成“煎饼”状构象(pancake)或“蘑菇”状构象(mushroom)[36 ]. 具体而言,如果高分子链节与固体表面间相互作用强时,接枝高分子会形成“煎饼”状构象;若高分子链节与固体表面间无明显相互作用时,接枝高分子则形成“蘑菇”状构象[36 ]. 随着接枝密度增加,当接枝高分子链间距离小于其本身尺寸时,由于链间排斥作用,接枝高分子链会形成“刷”(brush)状构象[36 ]. 因此,随着接枝密度增加,接枝高分子将展现出pancake-to-brush或mushroom-to-brush转变. 利用QCM-D研究相关高分子接枝过程中的构象变化,对于理解高分子刷的形成机理十分重要.图2(a) 为巯基末端聚(N-异丙基丙烯酰胺) (HS-PNIPAM)在金涂层石英振子表面接枝所引起的频率变化情况[23 ]. 很明显,接枝过程经历了3个不同的动力学阶段. 在区域Ι阶段,Δf 快速下降,表明HS-PNIPAM链快速接枝到振子表面. 在区域ΙΙ阶段,Δf 缓慢下降,说明已接枝高分子链阻碍HS-PNIPAM链的进一步接枝,因而接枝速率变慢. 在区域ΙΙΙ阶段,Δf 再次出现相对快速的下降,表明已接枝的HS-PNIPAM链进行构象调整,从而使得后续的HS-PNIPAM链能够继续进行接枝反应. 对于HS-PNIPAM接枝过程中的耗散因子变化情况而言(图2(b) )[23 ],在区域Ι阶段,ΔD快速上升;在区域ΙΙ阶段,ΔD缓慢增加;在区域ΙΙΙ阶段,ΔD相对快速增加. 显然,ΔD与Δf 变化的快慢趋势相一致,反映类似的HS-PNIPAM链在振子表面的接枝过程.图 2Figure 2. (a) Frequency shift (Δf) and (b) dissipation shift (ΔD) of the gold-coated quartz resonator immersed in a HS-PNIPAM solution as a function of time (c) ΔD versus −Δf relation for the grafting of HS-PNIPAM to the surface of the gold-coated quartz resonator (Adapted with permission from Ref.[23 ] Copyright (2005) American Chemical Society) (d) Schematic illustration of the pancake-to-brush transition for the grafting of HS-PNIPAM to the surface of the gold-coated quartz resonator (Adapted with permission from Ref.[37 ] Copyright (2015) Science Press).然而,HS-PNIPAM链在振子表面接枝过程中Δf 与ΔD间的关系只包含2个不同的过程(图2(c) )[23 ]. 在区域Ι和ΙΙ阶段,随着−Δf 的增加,ΔD缓慢增加,−Δf与ΔD间关系相似,表明在这两个阶段中接枝HS-PNIPAM链的构象接近,即,由于HS-PNIPAM链节与金表面间有较强的吸引作用,HS-PNIPAM链在区域I阶段形成“煎饼”状构象;随着接枝密度增加,其在区域II阶段转变成“蘑菇”状构象. 在区域ΙΙΙ阶段,ΔD随着−Δf 的增加快速增加,说明接枝HS-PNIPAM链变得越来越伸展,即形成了高分子刷构象. 图2(d) 展示了从区域I到区域III阶段,接枝HS-PNIPAM链的构象转变过程[37 ]. 同样,如果高分子链节与固体表面间无明显吸引作用时,随着接枝密度的增加,接枝高分子链将展现从无规“蘑菇”状构象到有序“蘑菇”状构象,再到“刷”状构象的转变[22 ].另一方面,PNIPAM为典型的热敏型高分子,其在水中具有最低临界溶解温度(LCST,约为32 °C). 在温度低于LCST时,溶液中自由的PNIPAM链呈无规线团状(coil),但当温度高于LCST时,PNIPAM链塌缩成小球状(globule),且coil到globule转变是不连续的. 与溶液中自由的PNIPAM链相比,由于空间受限效应,界面接枝PNIPAM链将展现出不同的热敏性构象行为. Zhang和Liu利用QCM-D研究了界面接枝PNIPAM随温度的变化情况[38 ,39 ]. 如上所述,PNIPAM链可以通过“grafting to”或“grafting from”策略接枝到振子表面,前者可以形成接枝密度较低的“蘑菇”状构象,而后者则可以形成接枝密度较高的“刷”状构象.图3(a) 为利用“grafting to”策略将PNIPAM链接枝到振子表面形成“蘑菇”状构象后,频率随温度的变化情况[38 ]. 在加热过程中,−Δf 随着温度增加逐渐降低,表明接枝PNIPAM链发生了去水化. 在降温过程中,−Δf 随着温度降低逐渐增加,表明接枝PNIPAM链的水化程度再次增加. 最终,−Δf 能够回到原点,说明降低温度可以使得接枝PNIPAM链从高温时的弱水化状态回到低温时的强水化状态. 图3(b) 为振子表面接枝PNIPAM链形成“蘑菇”状构象后,耗散因子随温度的变化情况[38 ]. 在升温过程中,ΔD随着温度增加而减小,表明升温导致接枝PNIPAM塌缩成更加致密刚性的薄膜. 在降温过程中,ΔD随着温度降低而增大,表明降温使得塌缩的PNIPAM逐渐溶胀成更加蓬松柔性的薄膜. 另一方面,在图3(c) 中,Δf与ΔD成线性关系,表明随着温度变化,接枝PNIPAM链的伸展/塌缩与其水化/去水化间的协同性强[40 ].图 3Figure 3. Temperature dependence of the shifts in frequency (Δf) (a) and dissipation (ΔD) (b) of the PNIPAM mushroom. (Reprinted with permission from Ref.[38 ] Copyright (2004) American Chemical Society) (c) ΔD versus −Δf relation of the PNIPAM mushroom (Reprinted with permission from Ref.[40 ] Copyright (2009) John Wiley & Sons, Inc.) Temperature dependence of the shifts in frequency (Δf) (d) and dissipation (ΔD) (e) of the PNIPAM brush (f) ΔD versus −Δf relation of the PNIPAM brush (Reprinted with permission from Ref.[39 ] Copyright (2005) American Chemical Society).利用“grafting from”策略将PNIPAM链接枝到振子表面形成“刷”状构象后,其频率和耗散因子随温度的变化情况示于图3(d) ~ 3(f) 中[39 ]. 在图3(d) 中,−Δf 随着温度增加而降低,表明PNIPAM刷在升温过程中发生了去水化;−Δf 随着温度降低而增加,表明PNIPAM刷的水化程度在降温过程中再次增加. 在图3(e) 中,ΔD随着升温而减小,表明加热使得PNIPAM刷塌缩成更加致密刚性的结构;在降温过程中,ΔD逐渐增加,表明降温使得塌缩的PNIPAM刷溶胀为更加蓬松柔性的结构. 与图3(b) 不同的是,在图3(e) 中,降温过程中的ΔD比升温过程中同一温度下的值要大,这是降温过程中在PNIPAM刷外围形成“尾”(tail)状结构造成的[39 ]. 另外,在图3(f) 中,Δf与ΔD的关系也与图3(c) 中的不同,PNIPAM刷在升温过程中展现出3个过程,从A到B,ΔD随着−Δf 的减小而降低,表明在此过程中PNIPAM刷的塌缩和去水化协同性较强;从B到C,ΔD随着−Δf 的减小而轻微地降低,表明在此过程中立体位阻效应使得PNIPAM刷在去水化的同时只有轻微塌缩发生,即PNIPAM刷的塌缩和去水化协同性较差;从C到D,ΔD随着−Δf 的减小而再次降低,表明在此过程中PNIPAM刷克服立体位阻,在去水化的同时伴随进一步塌缩. 在降温过程中,可以观察到2个过程,从D到E,ΔD随着−Δf的增加而显著增大,表明PNIPAM刷开始溶胀时在其外围形成了蓬松的“尾”状构象;从E到F,ΔD随着−Δf的增加而逐渐增大,表明降温导致PNIPAM刷的进一步水化和溶胀. 此外,QCM-D还可应用于表征界面接枝带电高分子的响应性构象行为,如pH响应性[41 ]、盐浓度响应性[42 ]等.4.2 高分子的离子效应高分子的离子效应是理解高分子物理化学基本原理的重要基础,并在生物、环境以及能源等领域中扮演着重要角色. 然而,经典德拜-休克尔理论中所运用的一些假设,例如,仅考虑离子的静电相互作用,忽略离子-溶剂间相互作用,以及认为正负离子间的静电吸引能小于其热运动能量等,使得该理论难以全面正确理解高分子体系中除离子强度效应以外的其他离子效应. 相比于一些传统的研究高分子溶液的表征技术(如激光光散射等),利用QCM-D研究界面高分子体系中的离子效应,可以有效避免如带电高分子相分离等不利因素,从而可以更加全面清晰地解析高分子的离子效应. 此外,将QCM-D与其他界面表征技术联用,可以从不同角度表征高分子的离子效应,加深对相关离子效应作用机理的理解. 在本节中,我们将以离子特异性效应、离子氢键效应以及离子亲/疏水效应为例,介绍如何基于QCM-D/SE联用技术研究高分子的离子效应.4.2.1 高分子的离子特异性效应由于离子普遍存在于不同体系之中,自1888年捷克科学家Hofmeister首次发现离子特异性效应以来[43 ],其已引起了包括高分子在内的不同领域科学家的广泛兴趣[44 ~50 ]. 为了阐明离子特异性效应的相关机理,Collins基于离子水化程度不同,提出了经验性的离子水化匹配模型,即阴阳离子水化程度相近时可以形成紧密离子对,反之,则难以形成紧密离子对[51 ]. 相对于离子水化匹配模型主要用于理解水溶液中带电体系的离子特异性效应,Ninham等提出的离子色散力理论则可以用于理解几乎所有体系的离子特异性效应,即离子尺寸不同,极化能力各异,导致特异性的离子色散相互作用[52 ].对于高分子体系而言,阐明离子特异性作用机理,是理解高分子体系离子特异性效应的关键所在. Kou等以阳离子型聚(甲基丙烯酰氧乙基三甲基氯化铵)(PMETAC)刷为模型体系,利用QCM-D/SE联用技术研究了强聚电解质刷的离子特异性效应(图4 )[53 ]. 在图4(a) 中,对于同一盐浓度而言,Δf 的变化呈现“V”型的阴离子序列SO42−HPO42−CH3COO−Cl−Br−NO3−I−SCN−,这与经典的Hofmeister离子序列不一致. 在“V”型序列的右边主要为“结构破坏型”阴离子,从CH3COO−变化至SCN−,Δf 依次增加,说明PMETAC刷的水化程度依次降低. 一方面,阳离子型季铵基团为弱水化基团[54 ~56 ];另一方面,从CH3COO−变化至SCN−,阴离子的水化程度依次降低[54 ~56 ]. 依据水化匹配模型[51 ],季铵基团与阴离子间的“离子对”相互作用强度从CH3COO−到SCN−依次增强,导致PMETAC刷的水化程度依次降低. 同样,基于离子色散力理论[52 ],也可以得到类似的结论. 因此,上述研究结果表明,对于“结构破坏型”阴离子而言,PMETAC刷的离子特异性效应由直接的“离子对”相互作用主导. 在“V”型序列的左边为“结构构造型”阴离子,从CH3COO−变化至SO42−,Δf 依次增加,同样说明PMETAC刷的水化程度依次降低. 然而,阴离子的水化程度从CH3COO−到SO42−依次增强. 显然,对于“结构构造型”阴离子而言,PMETAC刷的离子特异性效应无法基于水化匹配模型加以理解. 实际上,Δf 随离子种类的变化情况表明,对于“结构构造型”阴离子而言,PMETAC刷的离子特异性效应由阴离子对强聚电解质刷水化层中水分子的争夺作用主导. 类似地,ΔD (图4(b) )和湿态厚度(图4(c) )随离子种类的变化情况再次从不同角度说明了“结构破坏型”和“结构构造型”阴离子分别以不同方式与PMETAC刷进行特异性相互作用. PMETAC刷的离子特异性效应作用机理展示在图4(d) 中. 基于同样原理,QCM-D/SE联用技术还可应用于研究弱聚电解质刷[57 ]以及聚两性离子刷体系的离子特异性效应[58 ].图 4Figure 4. (a) Salt concentration dependence of (a) the frequency shift (Δf), (b) the dissipation shift (ΔD), (c) the wet thickness of the PMETAC brush in the presence of different types of anions with Na+ as the common cation. In parts (a), (b), and (c), salt concentration: 0.001 mol/L (open symbol), 0.01 mol/L (half up-filled symbol), 0.1 mol/L (half right-filled symbol), and 0.5 mol/L (filled symbol) (d) Schematic illustration of the specific interactions between the PMETAC brush and the different types of anions (Reprinted with permission from Ref.[53 ] Copyright (2015) American Chemical Society).4.2.2 高分子的离子氢键效应在带电高分子体系,当抗衡离子具有氢键供体或受体时,其既可以与高分子链上的电荷基团产生静电吸引作用,也可以与高分子链上的氢键受体或供体发生氢键相互作用,从而对带电高分子的性质产生重要影响,此种由带电高分子体系抗衡离子产生的氢键效应被定义为高分子的离子氢键效应[59 ]. 以强聚电解质刷为例,由于强聚电解质的电离度与pH无关,因此,传统观念上认为强聚电解刷无pH响应性. 但如果从离子氢键效应的角度出发,氢氧根离子(OH−)和水合氢离子(H3O+)不但可以通过“抗衡离子凝聚”吸附到接枝强聚电解质链上[60 ],同时也可以和接枝强聚电解质链发生氢键作用. 当溶液pH发生改变时,在保持溶液离子总浓度不变的情况下,OH−和H3O+的浓度会发生变化,导致抗衡离子与强聚电解质刷的氢键相互作用发生改变,从而使得强聚电解质刷产生pH响应性[61 ,62 ].如图5(a) 所示,PMETAC刷的Δf 随着pH的增大而增加,反之亦然. 同时,PMETAC刷的ΔD随着pH的增大而减小,反之亦然. 因此,PMETAC刷的水化程度和刚性对pH有明显的依赖性. 但是,图5(b) 表明PMETAC刷的表面电荷密度(σ)以及湿态厚度(dwet)与pH无关,因此,pH引起的PMETAC刷的水化程度和刚性变化并非由强聚电解质刷的电离度变化或塌缩/溶胀引起的. 事实上,PMETAC刷的pH响应性是由OH−产生的抗衡离子氢键效应导致的(图5(c) ). 具体而言,随着pH增大,更多的OH−离子通过“抗衡离子凝聚”方式吸附在接枝PMETAC链上,并与接枝链上的羰基产生氢键作用,从而削弱了PMETAC刷与其周围水分子间的作用,降低其水化程度,导致Δf 增加. 同时,随着pH增大,接枝链间的氢键作用使得PMETAC刷产生物理交联,即其结构变得更加刚性,导致ΔD减小. 与阳离子型PMETAC刷类似,H3O+产生的抗衡离子氢键效应使得阴离子型聚(3-(甲基丙烯酰氧基)丙磺酸钾)刷具有pH响应性[61 ].图 5Figure 5. (a) Shifts in frequency (Δf) and dissipation (ΔD) of the PMETAC brush as a function of pH (b) Changes in surface charge density (σ) and wet thickness (dwet) of the PMETAC brush as a function of pH (c) Schematic illustration of the pH response of the PMETAC brush induced by the hydrogen bond effect generated by the hydroxide counterions (Reprinted with permission from Ref.[61 ] Copyright (2016) American Association for the Advancement of Science).为了验证带电高分子体系中抗衡离子氢键效应具有普适性,Zhang等将研究体系拓展至弱聚电解质刷以及OH−和H3O+以外的其他种类离子[63 ]. 从图6(a) 可知,CH3SO3−无法和PMETAC发生氢键作用,但是HOCH2SO3−上的羟基却可以和PMETAC链上的羰基形成氢键. 类似地,在图6(b) 中,Na+无法与聚甲基丙烯酸钠(PMANa)发生氢键作用,但是胍离子(Gdm+)上的胺基却可以和PMANa链上的羰基形成氢键. 在图6(c) 中,随着CH3SO3−-HOCH2SO3−混合抗衡离子中HOCH2SO3−摩尔分数(x)的增加,Δf 逐渐增大而ΔD逐渐减小,表明HOCH2SO3−产生的离子氢键效应导致PMETAC刷发生去水化,且PMETAC刷的结构变得更加刚性. 在图6(d) 中,随着x的增加,PMETAC刷的dwet逐渐减小,表明HOCH2SO3−产生的离子氢键效应导致PMETAC刷逐渐塌缩.图 6Figure 6. (a) The HOCH2SO3− counter anions with the hydroxide group can form hydrogen bonds with PMETAC, whereas no hydrogen bonds can be formed between the CH3SO3− counter anions and PMETAC (b) The guanidinium+ counter cations with the amino groups can form hydrogen bonds with PMANa, whereas no hydrogen bonds can be formed between the Na+ counter cations and PMANa (c) Shifts in Δf (filled symbol) and ΔD (open symbol), and (d) shift in dwet of the PMETAC brush as a function of x of the counterion mixtures of CH3SO3− and HOCH2SO3− at a concentration of 0.05 mol/L with Na+ as the common cation (e) Shifts in Δf (filled symbol) and ΔD (open symbol), and (f) shift in dwet of the PMANa brush as a function of pH in the presence of 0.05 mol/L Na+ or guanidinium+ with Cl− as the common anion (Adapted with permission from Ref.[63 ] Copyright (2020) The Royal Society of Chemistry).与强聚电解质刷类似,抗衡离子氢键效应同样存在于弱聚电解质刷体系中. 图6(e) 和6(f) 中,在0.05 mol/L NaCl存在下,PMANa刷的Δf、ΔD以及dwet随pH的变化情况与传统弱聚电解质刷的pH响应性完全一致,即此时PMANa刷的pH响应性由接枝链的电离度随pH变化决定的. 然而,在0.05 mol/L GdmCl存在下,PMANa刷所表现出的pH响应性与0.05 mol/L NaCl存在下的情况截然不同. 当pH从2.0增加到4.5,PMANa刷的Δf 和ΔD分别增加和减小,同时,PMANa刷的dwet逐渐减小,表明PMANa刷的水化程度逐渐降低,其结构变得更加刚性,并伴随着塌缩发生. 显然,这与0.05 mol/L NaCl存在下在该pH区间中PMANa刷的变化情况完全相反. 然而,这可以基于离子氢键效应加以理解. 当pH从2.0增加至4.5时,接枝PMANa链的电离度增加,导致更多的Gdm+离子通过“抗衡离子凝聚”吸附于带负电荷的羧酸根基团上,从而在PMANa刷中形成更多的抗衡离子氢键,削弱了PMANa刷与周围水分子间的相互作用,使PMANa刷变得更加刚性,并导致其塌缩. 在pH 4.5至10.0区间中,0.05 mol/L GdmCl存在下PMANa刷的pH响应性与0.05 mol/L NaCl存在下的情况类似.4.2.3 高分子的离子亲/疏水效应当电荷基团与具有不同亲/疏水性质的有机基团相连接时,形成的有机离子具有不同的亲/疏水性质. 将这些离子引入聚电解质体系作为抗衡离子,可实现利用抗衡离子控制聚电解质的亲/疏水性质,从而调控其温敏性[64 ]. 然而,与聚电解质稀溶液相比,聚电解质刷内部环境较为拥挤. 因此,聚电解质刷的温敏性不但依赖于其抗衡离子的亲/疏水性,而且与抗衡离子的尺寸大小有关. 为了澄清抗衡离子的亲/疏水性质和尺寸大小与聚电解质刷温敏性间的关系,Cai等以聚苯乙烯磺酸钠(PSSNa)为基础,基于离子交换策略制备了具有不同抗衡离子的聚电解质刷(图7(a) ),并利用QCM-D/SE联用技术研究了不同聚电解质刷的温度响应性(图7(b) ~7(g) )[65 ].图 7Figure 7. (a) Schematic illustration of the preparation of PSSP444m brushes from the PSSNa brush through a counterion exchange strategy, where P444m+ represents the hydrophobic tetraalkylphosphonium counterion (b) Shift in frequency (Δf ), (c) shift in dissipation (ΔD) and (d) change in wet thickness (Δdwet) for both the PSSNa and the PSSP444m brushes as a function of temperature (e) Temperature dependence of ∆f of the PSSNa/P4448 brushes as a function of the molar fraction of the P4448+ counterion (x). (f) Temperature dependence of ∆D of the PSSNa/P4448 brushes as a function of the molar fraction of the P4448+ counterion (x). (g) Change in wet thickness (∆dwet) of the PSSNa/P4448 brushes as a function of the molar fraction of the P4448+ counterion (x). (Adapted with permission from Ref.[65 ] Copyright (2019) American Chemical Society).在图7(b) 和7(c) 中,随着温度增加,PSSNa刷的Δf和ΔD基本保持不变,表明PSSNa刷无明显温度响应性,这是PSSNa的强亲水性导致的. 当Na+被P4442+取代后,P4442+的疏水性仍不足以使PSSP4442刷表现出明显的温敏性. 当使用更加疏水的P4444+取代Na+时,PSSP4444刷仅表现出较弱的温敏性. 进一步增加抗衡离子的疏水性制备得到的PSSP4446刷表现出明显的温敏性,即随着温度增加,Δf 和ΔD分别明显地增加和减小,说明升温可以导致PSSP4446刷去水化以及变得更加刚性. 此外,PSSP4446刷的温敏性具有较好的可逆性. 然而,继续增加抗衡离子的疏水性,制备得到的PSSP4448刷再次失去温敏性,这是P4448+过度疏水造成的. 另一方面,在图7(d) 中,包括PSSP4446刷在内的所有聚电解质刷的Δdwet都没有明显的温度依赖性. 对于PSSP4446刷而言,其水化和刚性表现出明显的温度依赖性,但由于其抗衡离子尺寸较大,在聚电解质刷内部产生的位阻效应较大,阻碍了PSSP4446刷随温度升高而塌缩. 这不利于温敏型聚电解质刷的应用,如“纳米阀门”[66 ]. 考虑到大尺寸的P4448+抗衡离子可以将强疏水性引入强聚电解质刷,而小尺寸的Na+抗衡离子可以使强聚电解质刷内部产生一定的自由空间,Cai等利用Na+和P4448+混合抗衡离子制备PSSNa/P4448刷,并在P4448+摩尔分数(x)为 ~72%时,实现了强聚电解质刷水化、刚性以及湿态厚度明显的温度响应性(图7(e) ~7(g) )[65 ].4.3 高分子海洋防污材料海洋微生物、动植物在海洋设施表面的黏附、生长形成海洋生物污损,给海洋工业和海洋开发带来严重影响. 由于海洋环境的复杂性和污损生物的多样性,海洋防污是一个全球性的难题. 如何快速、高通量筛选防污材料对解决这一问题十分关键. QCM-D技术可被用于快速筛选和评价防污材料的降解、抗蛋白吸附、自更新性能以及服役与失效行为. Ma等制备了具有优异力学性能的含聚乙二醇(PEG)和两性离子聚合物侧链的聚氨酯材料,利用QCM-D检测其抗蛋白吸附能力,从而在较短的时间尺度内(数小时)快速评价污损生物在涂层表面的吸附和相互作用[67 ]. QCM-D检测表明,该材料虽然具有优异的室内抗污性能,但在实海中浸泡12周后失去防污能力. 原因是涂层表面吸附海泥等物质导致其表面性能发生根本性变化,从原来的抗污变为亲污.基于上述认识,Ma等提出了“动态表面防污”的概念,设计了在海洋环境下能够降解的聚甲基丙烯酸甲酯-聚碳酸乙烯酯(PMMA-PEOC)材料(图8(a) )[68 ]. QCM-D测试表明,随着时间增加,Δf 增大而ΔD不断减小,说明涂层的质量或厚度减小,即涂层在海水作用下不断降解(图8(b) ). 对于4种涂层,其降解均为线性,即涂层厚度随时间均匀下降. 另外,随着PEOC含量增加,Δf 和ΔD变化加快,即降解速率变大. 实海挂板实验表明(图8(c) ),该材料(未加任何防污剂)涂覆的挂板3个月内未有任何海洋生物黏附,即材料具有优异的防污性能. 显然,随着降解速率增加,防污性能提高. 这证明了动态表面防污概念的可行性,即涂料通过表面的不断更新,使海洋微生物无法着陆、黏附,从而达到防污的目的. 因此,QCM技术和海洋实验的评估周期虽然不同,但结论基本一致.图 8Figure 8. Structural formula of PMMA-co-PEOCA (a), time dependence of the shifts in frequency (Δf) and dissipation (ΔD) for the hydrolytic degradation of the coatings in artificial sea water at 25 °C (b), and images of panels coated with P(MMA-co-PEOCA63) in marine field test (c) (Reprinted with permission from Ref.[68 ] Copyright (2012) Springer Nature).Ma等制备了软段为乙交酯(GA)和己内酯(CL)共聚物的聚氨酯(图9(a) )[69 ],其力学性能优异. 利用QCM-D对其短时间降解行为的研究表明,随着时间增加,涂层的Δf 变大,说明涂层在酶的作用下发生降解(图9(b) ). 该材料的短期(几个小时内)降解是非线性的,且随着可降解链段的含量增大,降解速率变大,即涂层的表面更新速率变大. 另一方面,质量损失法也表明,该材料的降解在初期呈非线性,在更大时间尺度上(10天以上)降解是线性的. 2种方法都表明,适度引入GA可提高降解速率. 实际上2种评价方法所得的结果是一致的,只是观察其服役与失效的时间尺度不同. 实海挂板实验表明(图9(c) ),随着降解速率的提高,海洋微生物的黏附越来越少. 即随着降解速率的增加,防污性能提高. 当材料中加入适量有机防污剂(PCL-PU/DCOIT)后,效果达到最佳. 总之,实海实验结果与QCM-D的结果吻合.图 9Figure 9. Structural formula of P(CL-GA) polyurethane (a), time dependence of the frequency shift (Δf) for the enzymatic degradation of the coatings in artificial sea water at 25 °C (b), and images of panels coated with the polyurethane in marine field test (c) (Reprinted with permission from Ref.[69 ] Copyright (2013) The Royal Society of Chemistry).Xu等研制了主链降解-侧基水解型聚氨酯,即其主链含聚己内酯(PCL)而侧基中含有可水解的丙烯酸三异丙基硅烷酯(TIPSA)(图10(a) )[27 ]. QCM-D的研究结果表明,在短时间内(依照样品不同,从1 h到2天不等),涂层在海水中的降解近似线性,且随TIPSA含量增加降解速率增加(图10(b) ). 实海挂板实验表明(图10(c) ),以该材料涂覆的挂板,随着降解速率增加(由PU-S0至PU-S40),海洋生物黏附越来越少,即防污性能越来越好. 可见,QCM-D结果与实海实验结果一致. 以上几个研究表明,对于多数材料而言,通过QCM-D对防污材料在实验室进行初步筛选的结果,与较长时间(3个月)的质量损失测试和更长时间(1年以上)的海洋挂板实验结果基本一致,这为利用QCM-D快速筛选高分子海洋防污材料提供了依据.图 10Figure 10. Structural formula of polyurethane with degradable main chain and hydrolyzable side chains (a), time dependence of the frequency shift (Δf) for the enzymatic degradation of the coatings in artificial sea water at 25 °C (b), and images of panels coated with the polyurethane after 3 months of immersion in seawater (c) (Reprinted with permission from Ref.[27 ] Copyright (2014) American Chemical Society).5. 结语本文介绍了QCM的发展简史、基本原理、实验样品制备以及其在高分子研究中的应用. QCM技术经历了六十余年的发展,从最初仅应用于真空或空气中薄膜微观质量的测量,逐步发展到应用于溶液中的测量. 上世纪末,QCM-D被成功研制,进一步促进了QCM技术在相关领域中的应用. 进入新世纪后,QCM-D技术与其他表征技术的联用得到了较快的发展,这些联用表征技术极大地拓展了QCM-D的研究领域,丰富了表征信息,加深了对相关科学问题的认知. 对于高分子研究而言,毋庸置疑,QCM-D是一个非常有力的表征工具. 当然,QCM-D在高分子研究中的应用不仅仅局限于本文讨论的几个方面,作者希望本文能起到抛砖引玉的作用,使得这一表征技术能够为解决高分子领域中的问题发挥更大作用.参考文献[1]Curie J, Curie P. Bull Soc Min Fr, 1880, 3(4): 90−93[2]Cady W G. Proc IRE, 1922, 10(2): 83−114 doi: 10.1109/JRPROC.1922.219800 [3]Lack F R, Willard G W, Fair I E. 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Soft Matter, 2017, 13(1): 68−80 doi: 10.1039/C6SM01773H [57]Zhang J, Cai H T, Tang L, Liu G M. Langmuir, 2018, 34(41): 12419−12427 doi: 10.1021/acs.langmuir.8b02776 [58]Wang T, Wang X W, Long Y C, Liu G M, Zhang G Z. Langmuir, 2013, 29(22): 6588−6596 doi: 10.1021/la401069y [59]Yuan H Y, Liu G M. Soft Matter, 2020, 16(17): 4087−4104 doi: 10.1039/D0SM00199F [60]Manning G S. Acc Chem Res, 1979, 12(12): 443−449 doi: 10.1021/ar50144a004 [61]Wu B, Wang X W, Yang J, Hua Z, Tian K Z, Kou R, Zhang J, Ye S J, Luo Y, Craig V S J, Liu G M. Sci Adv, 2016, 2(8): e1600579 doi: 10.1126/sciadv.1600579 [62]Zhang J, Kou R, Liu G M. Langmuir, 2017, 33(27): 6838−6845 doi: 10.1021/acs.langmuir.7b01395 [63]Zhang J, Xu S Y, Jin H G, Liu G M. Chem Commun, 2020, 56(74): 10930−10933 doi: 10.1039/D0CC03763J [64]Kohno Y, Saita S, Men Y J, Yuan J Y, Ohno H. Polym Chem, 2015, 6(12): 2163−2178 doi: 10.1039/C4PY01665C [65]Cai H, Kou R, Liu G. Langmuir, 2019, 35(51): 16862−16868 doi: 10.1021/acs.langmuir.9b02982 [66]Adiga S P, Brenner D W. J Funct Biomater, 2012, 3(2): 239−256 doi: 10.3390/jfb3020239 [67]Ma C F, Hou Y, Liu S, Zhang G Z. Langmuir, 2009, 25(16): 9467−9472 doi: 10.1021/la900669p [68]Ma C F, Yang H J, Zhang G Z. Chinese J Polym Sci, 2012, 30(3): 337−342 doi: 10.1007/s10118-012-1158-7 [69]Ma C F, Xu L G, Xu W T, Zhang G Z. J Mater Chem B, 2013, 1(24): 3099−3106 doi: 10.1039/c3tb20454e

石英窗相关的方案

  • 微波消解石英砂
    石英砂是石英石经破碎加工而成的石英颗粒。石英石是一种非金属矿物质,是一种坚硬、耐磨、化学性能稳定的硅酸盐矿物,其主要矿物成分是SiO2。石英砂的颜色为乳白色、或无色半透明状。石英砂是重要的工业矿物原料,非化学危险品,广泛用于玻璃、铸造、陶瓷及防火材料、冶炼硅铁、冶金熔剂、冶金、建筑、化工、塑料、橡胶、磨料,滤料等工业。石英有较高的耐火性能,工业上将石英砂常分为:普通石英砂,精制石英砂,高纯石英砂,熔融石英砂及硅微粉等。选择微波消解对石英砂样品进行前处理,探索最适合的消解参数,该方法还有回收率高、空白低等特点,有利于后续对多种无机元素的快速准确测定。
  • 石英反应管的使用与维护
    石英玻璃以其耐高温和化学性质稳定的特性被广泛用作分析仪器的反应器,元素仪常规样品测定使用的氧化管、还原管、热解管、灰分管等,基本上都是石英玻璃制品。石英反应管的使用寿命,主要在于其材料品质,其次正确的使用与维护也很重要,本文就石英反应器的使用和维护提出一些意见和建议。
  • 微波消解法---石英砂
    石英砂又称硅砂,是由天然水晶、石英矿物加工而成或化学合成的二氧化硅材料。石英制品具有硬度大、膨胀系数低等特点,在耐高温性、耐腐蚀性、透光性、化学稳定性、电绝缘性等方面表现良好,广泛应用于铸造、建材、电光源、光纤、光伏、半导体等领域。其中石英坩埚是用来装放多晶硅原料或单晶回收料的石英器件,主要应用于光伏和半导体领域,可支持高温条件下连续拉晶,是生产单晶硅片拉晶环节中的关键部件。

石英窗相关的资料

石英窗相关的试剂

石英窗相关的论坛

  • 【原创大赛】石英透镜及石英窗的维护

    【原创大赛】石英透镜及石英窗的维护

    石英这个词相信大家在使用仪器过程中应该是再熟悉不过了,毕竟太多的仪器上面都有它们的身影,如原子吸收上使用的石英透镜、石英窗。这些石英材料的部件在仪器里都担负着重要的作用,所以学会对于这些部件的日常维护保养就尤为的重要。本文将向大家分享关于这些部件维护的心得和经验。1石英玻璃的优点石英玻璃顾名思义就是用石英制成。也许你会问当今科学飞速发展,各种的材料也是层出不穷,为何石英玻璃就能广泛的用在仪器上呢?它到底有什么过人之处呢?下面我就为大家列举一些石英玻璃的特点看了你就了然了。1.1、石英玻璃能够透过远紫外光谱,并且是是所有透紫外材料中最优者。1.2、石英玻璃不仅能够透过远紫外光谱也能够透过可见光和近红外光”,透光波长从185-3500nm。1.3、石英玻璃耐高温,热膨胀系数极小,化学热稳定性好,气泡、条纹、均匀性、双折射又可与一般光学玻璃媲美。所以凭借着上述的优点石英玻璃不被光谱仪器所青睐都难。2 石英玻璃在原吸上的应用2.1、提起石英玻璃在原吸上的使用大家一定会马上想去石墨炉上的石英窗,其实除了石英窗,原吸上的两个透镜也是使用石英玻璃制成的。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2012/10/201210171420_397245_1634661_3.jpg在火焰法状态下总共有两个石英透镜。在石墨炉状态下除了有两个石英透镜,还有两个石英窗。2.2石英透镜的作用 每一台的原吸都会有两个石英透镜起着聚焦光束的作用,第一透镜把空心阴极灯发出的光束准直,焦点位于燃烧器和石墨管的中央,第二透镜把将要进入单色器的光在入射狭缝中汇聚成一点。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2012/10/201210171421_397246_1634661_3.jpg2.3石英窗的作用 因为石墨炉原子化的时间很短,为了避免样品原子蒸汽的扩散和损失,尽可能的使原子蒸汽在石墨炉停留更长的时间从而提高灵敏度所以要将石墨炉原子化器设计成半封闭状态。石英窗在原子化器的作用是相当于一个“透明的窗”把原子蒸汽挡在石墨炉原子化器里但是光束能自由透过。同时石墨炉在原子化过程温度很高为了保护石墨管不在高温下氧化,所以需要石英窗把石墨管和空气隔离开并且冲入惰性气体。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2012/10/201210171421_397247_1634661_3.jpg3 石英透镜常见问题和日常维护。 从上面的介绍可以看出石英透镜和在仪器的分析中起了非常重要的作用,所以对于它们的维护就特别的重要。3.1石英透镜的安装位置 石英透镜作为光路系统中重要元器件,它的好坏对于光能量的传输有重大的影响。在仪器上一般都会有两个石英透镜(也有的仪器使用反射镜的),通常一个石英透镜是安装在空心阴极灯和原子化器之间可以称为(出射透镜或者叫第一透镜),另一透镜是安装在原子化器和单色器之间可以称为(出射透镜或者叫第一透镜)。下面为示意图http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2012/10/201210171422_397248_1634661_3.jpg这些透镜属于原吸的外光路系统,没有处在完全密封的环境下,所以容易受到外界干扰。常见的故障有以下这些。3.2石英透镜上沾染了灰尘和其它污渍 如果没有保证实验室的洁净度,实验室里面的灰尘较多的话难免会使透镜上面粘上灰尘,降低了仪器的灯能量使仪器的稳定性和检测限变差。如果碰到这个情况,可以使用洗耳球先吹去上面的灰尘,如果还有污渍无法除去的可以使用脱脂棉签沾上酒精和乙醚的混合物(单独的酒精也可以)小心的擦拭透镜。通常靠近原子化器的那两面的石英透镜直接和外界接触所以容易污染,不过处理起来也较为方便。如果另外两面的透镜污染了就需要拆开相应的外壳进行清理了。下图为操作示意图http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2012/10/201210171423_397249_1634661_3.jpg贴心小提示 平时仪器室一定要保持洁净度,要勤于打扫。如果仪器室靠近路边的一定要把门窗关好避免灰尘大量进入房间内。仪器没有使用时候要将其罩好,定期对透镜进行除尘维护。3.3石英透镜上形成冷凝水 在潮湿闷热的天气里,如果仪器里面没有空调或者除湿机透镜上就容易形成冷凝水。如果透镜上形成了冷凝水会阻挡光的透过,使仪器出现灯能量不足、负高压上升、仪器的稳定性和重现性降低。如果遇到这个情况的可以,可以使用电吹风把透镜吹干、也可以使用滤纸把水吸掉。需要注意的一点是使用电吹风吹干以后容易在透镜上形成水渍,最好再使用脱脂棉沾上酒精清洗一下。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2012/10/201210171424_397250_1634661_3.jpg贴心小提示 通常光学仪器室需要把温度控制在18℃~30℃(最佳20±2℃)同时温度变化率3℃/h;湿度可允许在20%~80%(最适合光学仪器的相对湿度范围是40%-70%)温度高于30℃时候湿度要小于70%。所以建议有条件的尽量给实验室安装带有除湿功能的空调,为仪器创造一个恒温的条件。在湿度较大的季节里要做好仪器的防潮工作,最好装配除湿机。[

  • 拆和装石英窗

    今天测胶囊中的Cr元素,做到一半,发现进样针没完全进入石墨管口,调准直进样很多次,还是不行,所以拆开石墨锥,把石墨管拿出来,用棉签清洗了石墨炉腔,谁知棉签的棉花掉在里面了,而且还在靠近左边石英窗,糟糕,无论用什么工具老是抠不出,最后只好拆开左边的石英窗,但是拆了很久,还是没拆出,最后只得打电话请教工程师,工程师说只要用力往外拔就行了,后来一试就拔出来了,也把里面的棉花给拿出来了,把拆下来的石英窗用95%乙醇擦洗后装上去,又遇到问题了,这次是装上去很麻烦,弄了好久,老装不上,后来把要装上的石英窗转了转(可能对上位了)再装,就可以了,哎,弄了半天,终于弄好了。希望我今天的这个事例可以帮到一些新手,呵呵,本人也是新手来的,有哪些写得不好,请包涵包涵!

  • 石英观测窗该如何清洁维护?

    ICPOES石英端窗存有灰尘,先借助洗耳球吹去石英端窗表面的浮尘,然后用脱脂棉沾上无水乙醇和乙醚的混合液(V/V=1∶1,下同)擦拭。擦拭时,从石英镜体中心向边缘做圆周运动,擦净后自然晾干;若石英端窗积有霉斑,将碳酸钙粉末加少量酒精调和成糊状物,借助脱脂棉沾取糊状物在霉斑处轻轻擦拭,直至霉斑除去后再用无水乙醇和乙醚的混合液擦拭干净,你平时如何清洁石英观测窗的,欢迎讨论?

石英窗相关的耗材

  • 薄熔融石英激光窗
    薄熔融石英激光窗TECHSPEC® 薄熔融石英激光窗• 厚度薄至1mm• 紫外或红外熔融石英基底• 低损耗宽带IBS减反射膜通用规格有效孔径 (%):90厚度 (mm):1.00 ±0.10平行度(弧秒):≤30表面质量:20-10传输波前,P-V (λ):≤λ/6TECHSPEC® 薄熔融石英激光窗的设计厚度为1mm,可用于UV或IR熔融石英基底。 这些薄窗在两个表面上均镀有离子束溅射(IBS)宽带减反射(BBAR)涂层,比传统镀膜的减反射窗具有更低的吸收损耗和散射。 TECHSPEC薄熔融石英激光窗户是需要高性能,小尺寸光学窗户的应用的理想选择。 可提供未涂覆的薄熔融石英激光窗口基板,以提供定制涂层的灵活性,以满足您的应用需求; 请与我们联系以获取更多信息。IR级熔融石英与UV级熔融石英的区别在于其OH-离子的含量降低,从而导致整个NIR光谱的透射率更高,并且UV光谱的透射率降低。产品信息Dia. (mm)涂层产品编码12.70BBAR (370-550nm)#11-74625.40BBAR (370-550nm)#11-74750.80BBAR (370-550nm)#11-74812.70BBAR (700-900nm)#11-74325.40BBAR (700-900nm)#11-74450.80BBAR (700-900nm)#11-74512.70BBAR (950-1150nm)#11-74025.40BBAR (950-1150nm)#11-74150.80BBAR (950-1150nm)#11-74212.70Uncoated#11-74925.40Uncoated#11-75050.80Uncoated#11-75112.70Uncoated#11-75225.40Uncoated#11-75350.80Uncoated#11-754
  • 石英窗片
    石英窗片光学上,晶体石英广泛用作波阻滞介质。 石英的双折射性质可用于四分之一波片和偏振片。 石英不应在高于490°C的温度下处理或使用,晶体石英也用于电子滤波器和谐振器。 石英是自然开采的,但更常见的是在大面积晶体中合成生产。石英是正双折射的。不要混淆本材料中的术语,因为“熔融石英”通常用于表示玻璃状非晶体形式,更好地称为二氧化硅。正常石英是α石英,正常RH旋转。 LH旋转可特殊订购。 请参阅我们的区分类型的指南。在温度 490℃时,水晶石英开始恢复到玻璃状态,该过程在530℃完成。 此时,由于不可能退火,可能会发生部件的断裂。详细参数:透射范围: 0.18~3.5μm( 40μm)折射率: No 1.54421 Ne 1.55333反射损耗: 8.8% at 0.6μm(2个表面)吸收系数: n / a吸收峰: n / adn / dT: -5.5×10-6 /°K(para)&-6.5×10-6 /°K(perp)@ 633nm(3)dn /dμ= 0: 1.3μm密度: 2.649g / cc熔点: 1710℃热导率: 10.37(para)6.2(perp)W m-1 K-1 at 323K热膨胀: 7.1(para)13.2(perp)×10-6 /℃硬度: Knoop 741 with 500g indenter比热容量: 710JKg-1K-1介电常数: 4.34(para)4.27(perp) at 30MHz杨氏模量(E): 97.2(para)76.5(perp)GPa剪切模量(G): 31.14GPa体积模量(K): 36.4GPa弹性系数: C11 = 87 C12 = 7 C44 = 58 C13 = 13 C14 =( - )18 C33 = 106(1)(2)表观弹性限制: 41MPa(5950psi)泊松比: n / a溶解性: 不溶于水分子量: 60.06类别/结构: 三角(hex)P3(2)21(RH)和P3(1)21(LH)折射率:No = Ordinary RayNe = Extraordinary RayμmNoNeμmNoNeμmNoNe0.1931.6611.6750.2131.6321.6450.2221.6221.6340.2261.6191.6300.2481.6021.6130.2571.5961.6070.2801.5851.5960.3081.5761.5860.3251.5711.5810.3511.5651.5750.4001.5581.5670.4581.5521.5610.4881.5501.5590.5151.5481.5570.5321.5471.5560.5901.5441.5530.6331.5431.5520.6701.5411.5510.6941.5411.5500.7551.5391.5480.7801.5391.5480.8001.5381.5470.8201.5381.5470.8601.5371.5470.9801.5351.5461.0641.5341.5431.3201.5311.5391.5501.5281.5362.0101.5211.529这些窗口都是z切或零度,其光轴垂直于窗口表面。石英表现出“偏手性”,通常这是右手的,但也可以作为左手的特殊要求。订购信息:石英圆形窗片订购型号:规格(D×L)(mm)方向偏手性材料等级QPZ10-210.0mm×2.0mmZ-cut右手IR polishedQPZ12-212.0mm×2.0mmZ-cut右手IR polishedQPZ13-213.0mm×2.0mmZ-cut右手IR polishedQPZ15-215.0mm×2.0mmZ-cut右手IR polishedQPZ20-0.520.0mm×0.5mmZ-cut右手IR polishedQPZ20-120.0mm×1.0mmZ-cut右手IR polishedQPZ20-220.0mm×2.0mmZ-cut右手IR polishedQPZ25-125.0mm×1.0mmZ-cut右手IR polishedQPZ25-225.0mm×2.0mmZ-cut右手IR polishedQPZ25-2.525.0mm×2.5mmZ-cut右手IR polishedQPZ25-2.625.0mm×2.6mmZ-cut右手IR polishedQPZ26-126.0mm×1.0mmZ-cut右手IR polishedQPZ32-332.0mm×3.0mmZ-cut右手IR polishedQPZ35-135.0mm×1.0mmZ-cut右手IR polishedQPZ35-1.535.0mm×1.5mmZ-cut右手IR polishedQPZ35-2.035.0mm×2.0mmZ-cut右手IR polishedQPZ40-240.0mm×2.0mmZ-cut右手IR polishedQPZ42-242.0mm×2.0mmZ-cut右手IR polishedQPZ50.8-550.8mm×5.0mmZ-cut右手IR polishedQPZ60-260.0mm×2.0mmZ-cut右手IR polishedQPZ80-380.0mm×3.0mmZ-cut右手IR polished
  • 侧视石英视窗
    GP000055側視石英視窗B0810377PerkinElmer
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