仪器信息网 3i讲堂阴极发光成像技术的发展及其在表征半导体材料研究中的应用

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825 2020-10-21

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阴极发光成像技术的发展及其在表征半导体材料研究中的应用

所属会议:首届半导体材料与器件研究与应用网络会议(iCSMD 2020)

阴极发光(CL)是一种多功能技术，用于研究具有深层亚波长分辨率的光学特性。阴极荧光光谱是一个强大的成像工具，用于探究和了解半导体的许多有趣关键属性，无论是块体还是微/纳米结构的形式。在本篇报告中，Sangeetha 将介绍用于在扫描电子显微镜中进行阴极发光成像的硬件和成像方法，并讨论其在半导体领域的最新应用成果。