X射线光电子能谱(XPS) 技术是一种重要的表面分析手段。该技术基于光电效应，采用X射线激发被测样品表面纳米尺度内的原子发射光电子，通过系统探测到所发射光电子的动能等信息，进而实现样品表面的元素种类及化合态的定性和定量的分析。XPS的分析范围广泛，可对从Li到U范围内的元素进行研究，因而不仅被广泛地应用于化学分析、材料开发应用研究、物理理论探讨等学术领域，还被广泛地应用于机械加工、印刷电路技术、镀膜材料工艺控制、纳米功能材料开发等工业领域。 本次《XPS实验技术和图谱分析基础》网络讲堂主要涉及一下几个方面： XPS实验技术基础简介 XPS样品制备和影响图谱质量的相关因素探讨 Thermo Avantage软件中图谱的一般处理功能介绍 复杂XPS图谱介绍 XPS图谱谱峰拟合方法介绍 单峰拟合 双峰拟合 非线性最小二乘拟合