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如何用等离子设备 实现碳化硅深孔刻蚀？快来围观！

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会议时间: 2017-04-06 14:00

主讲老师: 黄承扬 | 黄承扬 |

所在公司: 牛津仪器（上海）有限公司

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报告介绍 主讲老师

报告介绍

高功率密度的氮化镓，具有高工作电压，且能够在高频高带宽下大功率输出，将引领射频功率器件新发展。碳化硅衬底氮化镓是射频器件的“高端”版本，SiC衬底可提供最高功率级别的氮化镓产品，确保在最苛刻的环境下使用。近日，牛津仪器等离子技术推出了使用PlasmaPro 100 Polaris刻蚀系统对碳化硅进行深孔刻蚀的工艺。

本次会议将对此碳化硅深孔刻蚀技术做详细介绍。期待您的参与！

主讲老师

黄承扬

黄承扬

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黄承扬（Young Huang）博士在国立清华大学研究光电技术并取得博士学位。他于2011年起加入牛津仪器从事台湾地区的海外市场营销。黃博士在LED芯片和光学电子化工序领域拥有超过10年的经验。作为现场和实验室应用经理，他负责开发新的应用供需，确保现场客户在应用中获得满意的体验。
黄承扬

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黄承扬（Young Huang）博士在国立清华大学研究光电技术并取得博士学位。他于2011年起加入牛津仪器从事台湾地区的海外市场营销。黃博士在LED芯片和光学电子化工序领域拥有超过10年的经验。作为现场和实验室应用经理，他负责开发新的应用供需，确保现场客户在应用中获得满意的体验。

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主办单位: 牛津仪器（上海）有限公司

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如何用等离子设备 实现碳化硅深孔刻蚀？快来围观！

04月06日 14:00

高功率密度的氮化镓，具有高工作电压，且能够在高频高带宽下大功率输出，将引领射频功率器件新发展。碳化硅...

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