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XPS在半导体材料及超薄薄膜行业的应用

会议时间: 2015-05-14 10:00

主讲老师: 葛青亲 | 资深应用专家

所在公司: 赛默飞世尔科技分子光谱

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报告介绍 主讲老师

报告介绍

X射线光电子能谱(XPS) 技术是一种重要的表面分析手段。该技术基于光电效应，采用X射线激发被测样品表面纳米尺度内的原子发射光电子，通过系统探测到所发射光电子的动能等信息，进而实现样品表面的元素种类及化合态的定性和定量的分析。在本次报告中，我们将重点介绍XPS和角分辨XPS技术，通过这些技术我们可以精准高效的表征超薄薄膜和半导体器件材料。分享的案例包括SiO2类栅极氧化层材料、氮氧化物高介电超薄薄膜的角分辨无损深度检测，以及有机半导体器件材料的团簇无损深度剖析等。

主讲老师

葛青亲

葛青亲

赛默飞世尔科技（中国）有限公司 资深应用专家

博士毕业于复旦大学物理系凝聚态物理专业。博士期间从事复杂量子材料的光电子能谱研究，拥有丰富的电子能谱系统操作、搭建和光电子能谱数据处理经验，并多次赴美国、日本、德国、意大利等同步辐射中心进行交流合作，在Nature Physics、Physical Review X等国际一流杂志发表论文10余篇。毕业后加入赛默飞世尔科技（中国）有限公司，现担任应用经理一职，负责XPS、EDS、EM等技术的行业性应用开发。

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主办单位: 赛默飞世尔科技分子光谱

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XPS在半导体材料及超薄薄膜行业的应用

05月14日 10:00

X射线光电子能谱(XPS) 技术是一种重要的表面分析手段。该技术基于光电效应，采用X射线激发被测样品...

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