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用于XPS深度剖析的MAGCIS复合型离子源

会议时间: 2014-12-24 14:00

主讲老师: 葛青亲 | 资深应用专家

所在公司: 赛默飞世尔科技分子光谱

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报告介绍 主讲老师

报告介绍

 XPS是极其表面敏感的技术手段，而我们所要研究的很多“表面”问题并不都是在样品表面10nm以内。如触摸屏表面涂层、低辐射玻璃表面镀膜以及太阳能电池、OLED等层状器件材料的研究，我们不仅仅要了解材料表面微米尺度的元素分布信息，还要关心层结构之间的界面性质。这时我们就需要结合离子束溅射剖析手段，将XPS测试手段从表面分析拓展到体内微米尺度。材料科学的发展要求我们在XPS深度剖析时使用一个性能优越的溅射离子源，以实现无机材料的高效剖析以及有机材料的无损溅射。

在本次报告中，我们将和大家一起交流和分享赛默飞世尔科技有限公司的MAGCIS复合离子源的基本工作原理和实际应用案例。主要包括：高效XPS深度剖析在有机半导体器件、共混聚合物材料等领域的应用。

主讲老师

葛青亲

葛青亲

赛默飞世尔科技（中国）有限公司 资深应用专家

博士毕业于复旦大学物理系凝聚态物理专业。博士期间从事复杂量子材料的光电子能谱研究，拥有丰富的电子能谱系统操作、搭建和光电子能谱数据处理经验，并多次赴美国、日本、德国、意大利等同步辐射中心进行交流合作，在Nature Physics、Physical Review X等国际一流杂志发表论文10余篇。毕业后加入赛默飞世尔科技（中国）有限公司，现担任应用经理一职，负责XPS、EDS、EM等技术的行业性应用开发。

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主办单位: 赛默飞世尔科技分子光谱

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用于XPS深度剖析的MAGCIS复合型离子源

12月24日 14:00

 XPS是极其表面敏感的技术手段，而我们所要研究的很多“表面”问题...

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