典型用户

感应耦合等离子刻蚀设备

等离子体表面处理仪品牌：牛津型号：PlasmaPro System 133ICP380

仪器名称：

感应耦合等离子刻蚀设备

英文名称：

所属分类：

工艺试验仪器 > 电子工艺实验设备 > 半导体集成电路工艺实验设备

学科领域：

信息科学与系统科学物理学材料科学能源科学技术

主要技术指标：

ICP离子源：0-3000W RF射频源：0-600W 样品尺寸：6英寸、4英寸、2英寸及碎片基底刻蚀温度：-20℃-30℃可调刻蚀气体：BCl3、Cl2、SF6、Ar、O2、CHF3 可刻蚀材料包括：GaN、Al2O3、SiO2、Si3N4等

主要功能：

ICP刻蚀主要通过高频辉光放电反应，将反应气体解离为活性粒子，轰击刻蚀材料，同时与刻蚀材料进行反应来实现刻蚀。主要用于GaN、Al2O3、SiO2、Si3N4等材料的刻蚀。

典型用户

广东省半导体产业技术研究院

广东省科研单位

广东省半导体产业技术研究院拥有感应耦合等离子刻蚀设备、光刻机、金属电子束蒸发台、椭偏仪、高温MOCVD设备、磁控溅射设备、小型电子束蒸发台、光致发光荧光光谱仪、原子力显微镜、变温PL系统等科研仪器。

布鲁克

1383台仪器 78家供应商

理学

188台仪器 28家供应商

1台仪器 4家供应商

牛津

20台仪器 2家供应商

11台仪器 1家供应商

6台仪器 1家供应商

1台仪器 1家供应商

德国

0台仪器 1家供应商