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原子气相沉积系统

物理气相沉积(PVD) 品牌:/ 型号:/

仪器名称:
原子气相沉积系统

英文名称:

所属分类:
工艺试验仪器 > 电子工艺实验设备 > 电路板制造工艺实验设备

学科领域:
信息与系统科学相关工程与技术

主要技术指标:
原子层沉积(ALD)是一种适合于产品创新和创新的技术。它可以提供现有技术无法经济高效或者根本无法实现的薄膜和材料特性。原子层沉积(ALD)作为一种薄膜制备技术可以提供:以真正的纳米尺度精确控制薄膜厚度;无针孔薄膜,例如高质量的阻挡层和表面钝化;在大批量大面积的基底材料和复杂的三维物体表面制备高保形薄膜,包括疏松多孔的基体材料和粉末;新工程材料和结构,比如纳米涂层;高重复性和可扩展的工艺。

主要功能:
主要功能:精确性和可重复性:一个循环的薄膜生长厚度是由工艺决定的,但通常是1Å (0.1nm)。超薄,密实和平整:原子层沉积(ALD)可以沉积厚度小于1纳米的薄膜。在某些工业应用中薄膜厚度仅为0.8纳米。高产能:表面控制生长特性使通过提高批量和增加基底面积进而扩大产能成为可能。等离子体增强型ALD:在原子层沉积过程中加入等离子体可以实现某些金属,低温氧化物和氮化物的薄膜制备。

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