典型用户

等离子增强化学气相沉淀设备（PECVD）

化学气相沉积（CVD）品牌：牛津型号：PlasmaPro 800Plus

仪器名称：

英文名称：

所属分类：

工艺试验仪器 > 电子工艺实验设备 > 半导体集成电路工艺实验设备

学科领域：

信息科学与系统科学物理学化学材料科学

主要技术指标：

RF射频源：高频13.56MHz 功率0-300W 低频50-460KHz 功率0-500W 样品尺寸：6英寸、4英寸、2英寸及碎片下电极可加热温度：室温-400℃可调反应气体：CF4/O2、N2、N2O、SiH4/N2、NH3 可生长材料包括：SiO2、SiNX薄膜、不含H的SiNX薄膜、SiNOx薄膜

主要功能：

主要应用于LED及电子器件钝化膜的生长：大批量、高质量SiO2、SiNX薄膜生长；NH3 Free （不含H的SiNX）薄膜生长。本设备采用高低频控制系统，可以大大降低薄膜应力。