典型用户

磁控溅射设备

物理气相沉积(PVD) 品牌:SK 型号:PVD75Proline

仪器名称:
磁控溅射设备

英文名称:

所属分类:
工艺试验仪器 > 加工工艺实验设备 > 热处理加工工艺实验设备

学科领域:
材料科学

主要技术指标:
在40分钟内系统真空能从大气抽到5×10-6Torr;四台溅射靶枪,其中一个靶枪支持强磁性材料;功率不小于600W的RF电源,功率不小于2kw的脉冲直流电源;支持三路工作气体(氩气、氮气、氧气);带有350℃加热功能;支持溅射金属及合金薄膜、氧化物及化合物介质薄膜。

主要功能:
在真空条件下利用Ar离子轰击靶表面使靶材发生溅射,中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜,适合基片最大尺寸不大于6英寸直径。

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广东省半导体产业技术研究院拥有感应耦合等离子刻蚀设备、光刻机、金属电子束蒸发台、椭偏仪、高温MOCVD设备、磁控溅射设备、小型电子束蒸发台、光致发光荧光光谱仪、原子力显微镜、变温PL系统等科研仪器。

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