磁控溅射设备
物理气相沉积(PVD)
品牌:SK
型号:PVD75Proline
仪器名称:
磁控溅射设备
英文名称:
所属分类:
工艺试验仪器 > 加工工艺实验设备 > 热处理加工工艺实验设备
学科领域:
材料科学
主要技术指标:
在40分钟内系统真空能从大气抽到5×10-6Torr;四台溅射靶枪,其中一个靶枪支持强磁性材料;功率不小于600W的RF电源,功率不小于2kw的脉冲直流电源;支持三路工作气体(氩气、氮气、氧气);带有350℃加热功能;支持溅射金属及合金薄膜、氧化物及化合物介质薄膜。
主要功能:
在真空条件下利用Ar离子轰击靶表面使靶材发生溅射,中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜,适合基片最大尺寸不大于6英寸直径。