典型用户

光刻机

光刻机品牌：AB 型号：ABM/6/350

仪器名称：

光刻机

英文名称：

所属分类：

工艺试验仪器 > 电子工艺实验设备 > 半导体集成电路工艺实验设备

学科领域：

信息科学与系统科学物理学化学材料科学

主要技术指标：

350 瓦近紫外光源； 365nm波长输出光强:18-20 mW/cm2；曝光有效范围：6英寸直径的圆形；曝光光强均匀性曝光中心点2英寸直径范围内光强度误差<±1%><>

主要功能：

紫外光刻机用于半导体光刻工艺制程、光波导、光栅、微机电MEMS、LD、二极管芯片、发光二极体（LED）芯片制造、显示面板LCD、光电器件、纳米压印和电子封装等领域，是进行纳米器件组装和材料表面构筑的重要工具。光刻机是微电子器件及集成光学器件关键的工艺设备,研究人员通过光刻工艺将已设计好的各种细微图形显像到芯片的光刻胶上,在经过其它半导体工艺如刻蚀、扩散等,最终在芯片表面形成需要的图形结构,这样经过几次甚至十几次反复的光刻及其它工艺,才能形成具有特殊功能的微电子、光电子器件