【Hitachi】日立双束系统FIB NB5000

新型离子和电子双束系统为材料研究提供了无与伦比的纳米分析能力。


日立公司久负盛名的高可靠性和高性能设计在新型双束系统（超高精密聚焦离子束FIB和高分辨场发射电镜FE-SEM）中得到了完美体现，它具有高效率的样品制备能力、高精度纳米微加工能力和高分辨图像观测能力。新的低损伤加工技术可以很好的满足感光材料和电子束曝光应用的需求；而新开发的微样品取样、样品装载和样品导航功能则进一步提高了分析效果*1。

特点：
超高精密聚焦离子束FIB
低铯FIB*2系统保证了不小于50nA的束流强度（40KV），和1µm的束斑尺寸。
保证了大面积的抛光、硬质材料的微加工和高效率的样品制备。
新开发的微样品取样技术*2
日立公司专利技术微样品取样技术保证了探针的平滑移动，同时新开发的通过探针生成的吸收电流图象技 术用来避免错误发生。
高分辨扫描电镜
日立公司专利技术的的电镜镜筒和探头*2保证了无论FIB是否工作均可以观测到高分辨点睛图像。
高精度的终点探测技术
SEM的高分辨图像保证了高精度的终点探测，利用实时的FIB图像实现的Section-View功能可以显示截面的轮廓图，在电子感光材料样品制备中有函大价值。
样品杆可适应TEM/STEM*1*2
侧插式样品杆可以适用于其它设备（日立公司NB5000和TEM/STEM）