产地类别: 国产
减薄角度: 0-20度
最大样品尺寸: 50(L)×10(W)×35(H)mm
看了离子减薄仪的用户又看了
裕隆时代向用户提供性能优越的ArFab100氩离子抛光仪,为电镜、电子探针、原子力显微镜样品进行无损截面制备。
适用范围:新能源材料、非常规能源、半导体、芯片、制药等行业。
大尺寸切抛合一的纳米加工系统
性能优势
一套系统兼具离子平面抛光和离子切割功能,操作简捷
动态离子切割技术,实现样品的往复平移和旋转,最大切割长度达10mm,有效减少投影/遮挡效应
超大平面抛光装载尺寸25x25mm(直径X高度),为原位试验等大尺寸样品试验提供可能
能量0.5-10KV连续可调,既可满足低能区减少非晶层,又可兼顾高能区,大幅提高制样效率
10英寸彩色触屏,全中文图像用户界面,方便快捷的参数设置,可远程控制
样品适用性
无论软硬,多孔或致密,脆性或韧性,热敏感,或非均质多相复合型材料,都可获得高质量无损切割界面
切割模式采用独创的微型多轴动态离子切割台,样品切割长度可达10mm
应用案例
离子平面抛光后的页岩截面,揭示样品表面纳米级孔隙,左图为无机孔,右图为有机孔。SEM图像,石油地质。
离子切割后的手机柔性屏幕内部结构和材料特征。半导体领域
离子切割后的电池材料截面,揭示其内部结构。左图为电池阳极几篇,右图为电池隔膜。SEM图像,能源材料领域
左图:离子切割后芯片内部结构,右图:离子平面抛光后芯片内部结构。SEM图像,半导体芯片领域。
平面抛光后LED焊盘结构。SEM图像,半导体光电领域
低电压平面抛光后的合成材料EBSD结构。EBSD图像,新材料领域。
技术参数
离子枪 | |
离子枪 | 配备两支独立离子枪,可选单枪或双枪模式 |
加速电压 | 0.5-10KV连续可调 |
工作束流 | 0.5-7mA连续可调 |
抛光速率 | 200um/h(10KV,硅样品) |
样品台 | |
抛光样品尺寸 | 25X25mm(直径x高)样品台 |
切割样品尺寸 | 50x10x35mm(长x宽x高) |
旋转速度 | 10-3600/S |
抛光角度 | 0-200连续可调 |
真空系统 | |
真空系统 | 两级真空,无油涡旋干泵,支持80L/S涡轮分子泵 |
工作真空 | 9X10-5 mbar |
极限真空 | 5X10-7 mbar |
真空规 | 全量程(常压到高真空)冷阴极真空规 |
用户界面 | 10英寸触屏,中文操作界面,简洁方便,可远程控制 |
电源要求 | 90-264VAC,600W |
保修期: 1年
是否可延长保修期: 是
现场技术咨询: 有
免费培训: 有
免费仪器保养: 1年
保内维修承诺: 1年
报修承诺: 1年
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