英国NanoBeam nB5 电子束光刻机

英国nanobeam nB5 电子束光刻机

nB5圆形束电子束光刻系统，兼具世界最高水平的产出量和定位精度，最大能容纳300mmφ的晶圆片和6英寸的掩模版，适合纳米压印、光子器件、通信设备等多个领域的研发及生产。

产品规格：

产品特点：

· JBX-9500FS是一款100kV圆形束电子束光刻系统，兼具世界最高水平的产出量和定位精度，最大能容纳300mmφ的晶圆片和6英寸的掩模版，适合纳米压印、光子器件、通信设备等多个领域的研发及生产。

· 此外，由于具有100MHz的最快扫描速度，场尺寸在1000μm×1000μm时的套刻精度达到±11nm、场拼接精度为±10nm、写场内位置精度达±9nm，是兼具世界最高水准产出率和位置精度的100kV圆形束光刻系统。

· 由于采用的位置偏转DAC为20位，扫描DAC为14位，能获得0.25nm的扫描步距，分辨率更高，描画数据增长1nm，可以更忠实地再现描画数据。

· 最快达到100ＭＨｚ的高速化扫描速度，保证了大电流描画时的扫描步距很短，因而能提高对精度要求极高的图形描画的产出量。

· 由激光束控制（LBC）的0.15nm（λ/4096）的最小定位单位及高分辨率，达到了世界最高水准的位置精度。

· 本公司独自的自动校正功能(自动补偿功能)，实现了可信赖的长时间稳定地描画。自动补偿可以根据时间（任意的）、场和图形进行分别设定，非常适合于周末及休假等无人值守等情况下的长时间描画。

· 该系统最大能容纳300mmφ的晶圆片和6英寸的光掩模版，适合于纳米压印、光子器件、通信设备等各种领域的研发及生产。采用材料卡匣传送系统（选配），最多可装载10个卡匣。

· 利用微间距控制程序（场尺寸微调程序）可以制作DFB激光器等的啁啾光栅。

  Centre for Advanced Photonics and Electronics at Cambridge University, UK
  -  Thales, France
  -  Nanjing Electronic Devices Institute, China
      -  Five systems have been installed and the sixth system will be installed in 2013
  -  Hebei Semiconductor Research Institute, China
      -  Three systems have been installed
  -  Institut d'Optique Graduate School, France
  -  Beijing University, China
      -  Second system to be installed in 2013
  -  INHA University, Korea
  -  UNIST University, Korea
  -  Hanyang University, Korea
  -  Exeter University, UK
  -  IEF, University of Paris, France
  -  Columbia University, USA
  -  The Institute of Microelectronics of the Chinese Academy of Sciences (IMECA), China 
      -  Second system to be installed in 2013