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四氟化硅传感器是由四方光电自主研发的高性能气体传感器，产品基于非分光红外技术(NDIR)，能够精确测量半导体等应用中产生的SiF4、WF6、CF4、SF6、NF3、CO2等气体，兼容机台内常见预留尺寸、法兰和通讯协议，适合半导体行业化学沉积设备、原子层沉积设备腔室的清洁终点监测。
四氟化硅传感器产品特性
使用NDIR技术，多气体监测支持(SiF4、WF6、CF4、SF6、NF3、CO2等气体)
响应时间快，高灵敏度
无耗材
模拟/数字通信
模块化设计，便于集成
四氟化硅传感器技术参数
| 检测原理 | NDIR |
| 检测气体 | SiF4、WF6、CF4、SF6、NF3、CO2 |
| 量程 | 1~264ppm(0~200mTorr) |
| 重复性 | ±0.5% |
| 线性 | ±1%F.S. |
| 检测限 | 1ppm |
产品货期: 15天
整机质保期: 2年
培训服务: 安装调试现场免费培训
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