看了有掩模光刻机的用户又看了
SMEE 200系列光刻机 —— TFT曝光
SSB200系列投影光刻机采用投影光刻机平台技术，用于AM-OLED和LCD显示屏TFT电路制造，可应用于2.5代～6代的TFT显示屏量产线。该系列设备具备高分辨率、高套刻精度等特性，支持6英寸掩模，显著降低用户使用成本。
产品特征
● 高精度，分辨率可达1.5μm
● 支持小Mask，可用6英寸掩模实现12英寸屏幕制造
● 具备智能化校准及诊断功能，方便设备参数校调及用户周期性维护
主要技术参数
型号 | 分辨率 | 套装精度 | 基板尺寸 |
SSB225/10 | 2μm L/S | 0.6μm | 370mm×470mm 500mm×500mm |
SSB225/220 | 1.5μm L/S | 0.5μm | 370mm×470mm 500mm×500mm |
SSB245/10 | 2μm L/S | 0.6μm | 730mm×920mm |
SSB245/20 | 1.5μm L/S | 0.5μm | 730mm×920mm |
SSB260/10T | 2μm L/S | 0.6μm | 1300mm×1500mm 1500mm×1850mm |
SSB260/20T | 1.5μm L/S | 0.5μm | 1300mm×1500mm 1500mm×1850mm |
保修期: 1年
是否可延长保修期: 是
现场技术咨询: 有
免费培训: 不限人次免费安装培训
免费仪器保养: 可根据客户使用程度制定仪器保养计划。
保内维修承诺: 非人为损坏，免费保修。
报修承诺: 24小时内进行响应，48小时内出解决方案。
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有掩模光刻机 200系列的使用方法?
-- 200系列多少钱一台?
有掩模光刻机 200系列可以检测什么？
有掩模光刻机 200系列使用的注意事项？
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-- 200系列有现货吗？
