看了无掩模光刻机/直写光刻机的用户又看了
电子束光刻系统
应用领域广泛，如微纳器件加工，Si/GaAs 兼容工艺，研究用掩膜制造，纳米加工（例如单电子器件、量子器件制作等），高频电子器件中的混合光刻（Mix & Match），图形线宽和图形位移测量等。
20nm(mean+2σ)，拼接精度 20nm(mean+2σ)。
技术参数： 1.最小线宽：小10nm（8nm available)
2.加速电压：5-50kV
3. 电 子 束 直 径 ： 小 于 2nm
4.套刻精度：20nm(mean+2σ)
5.拼接精度：20nm(mean+2σ)
6.加工晶圆尺寸：4-8 英寸(standard)，12 英寸(option)
7.描电镜分辨率：小于 2nm
保修期: 1年
是否可延长保修期: 是
现场技术咨询: 有
免费培训: 技术人员现场培训
免费仪器保养: 2个月1次
保内维修承诺: 软件免费重装，硬件维修
报修承诺: 24小时到达
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