看了无掩模光刻机/直写光刻机的用户又看了
应用领域广泛，如微纳器件加工，Si/GaAs 兼容工艺，研究用掩膜制造，纳米加工（例如单电子器件、量子器件制作等），高频电子器件中的混合光刻（Mix & Match），图形线宽和图形位移测量等。
技术参数：
加速电压：zui高 130keV
单段加速能力达到 130keV，尽量减少电子枪的长度超短电子枪长度，无微放电
电子束直径＜1.6nm
最小线宽＜7nm
双热控制，实现超稳定直写能力
保修期: 1年
是否可延长保修期: 是
现场技术咨询: 有
免费培训: 技术人员现场培训
免费仪器保养: 2个月1次
保内维修承诺: 软件免费重装，硬件维修
报修承诺: 24小时到达
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