nanoArch微纳3D打印机 P130 /S130产品详情
nanoArch P130 微纳3D打印机
nanoArch P130是可以实现高精度微尺度3D打印的设备系统，它采用的是面投影微立体光刻（PμLSE：Projection Micro Litho Stereo Exposure）技术。该技术使用高精密紫外光刻投影系统，将需打印图案投影到树脂槽液面，在液面固化树脂并快速微立体成型，从数字模型直接加工三维复杂的模型和样件，完成样品的制作。该技术具备成型效率高、打印精度高等突出优势，被认为是目前最有前景的微纳加工技术之一。
科研级3D打印系统
nanoArch P130是科研级3D打印系统，拥有2μm的超高打印精度和5μm的超低打印层厚，从而实现超高精度的样件制作，非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。
NanoArch P130/S130系统性能
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性能参数 | nano Arch P130产品规格 | nano Arch S130产品规格 |
光源： | UV-LED(405nm) | UV-LED(405nm) |
打印材料： | 光敏树脂 | 光敏树脂 |
光学精度： | 2μm | 2μm |
XY打印精度： | 2-10μm | 2-10μm |
打印层厚： | 5-20μm | 5-20μm
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打印样品尺寸： | 3.84mm(L)x2.16mm(W)x10mm(H) | 模式1：3.84mm(L)x2.16mm(W)x10mm(H) |
| 模式2：38.4mm(L)x21.6mm(W)x10mm(H) |
| 模式3：50mm(L)x50mm(W)x10mm(H) |
打印件格式： | STL | STL |
系统外形尺寸： | 1720(L)x650(W)x1820(H)mm3 | 1720(L)x650(W)x1820(H)mm3 |
重量： | 450kg | 450kg |
电气要求： | 200-240V,AC,50/60HZ,3KW | 200-240V,AC,50/60HZ,3KW |
注：样品高度典型2mm,最高10mm |
打印材料：
。通用型：丙烯酸类光敏树脂，如HDDA，PEGDA等
。个生化：高强度硬性树脂，纳米颗粒掺杂树脂，生物医用树脂等。
系统特性：
。高精度：XY打印精度高达2μm；
。低层厚：5μm-20μm的打印层厚；
。微尺度打印能力；
。光学监控系统，自动对焦功能；
。配置气浮平台，提高打印质量；
。优良的光源稳定性；
。配备完善的样品后处理组件，包括抽真空及紫外后固化。
