日本JEOL电子束光刻机JBX-3200MV
日本JEOL电子束光刻机JBX-3200MV

¥200万 - 300万

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JBX-3200MV

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亚洲

  • 金牌
  • 第5年
  • 一般经销商
  • 营业执照已审核
核心参数
产品详情

日本JEOL电子束光刻机JBX-3200MV 

 

     10. JBX-3200MV.png

 

JBX-3200MV是用于制作28nm~22/20nm节点的掩模版/中间掩模版(mask/reticle)的可变矩形电子束光刻系统。 最先进的技术实现了高速、高精度和高可靠性。 是基于加速电压50 kV的可变矩形电子束和步进重复式的光刻系统?

 

产品规格:

拼接精度

≦±3.5 nm

套刻精度

≦±5 nm

 

产品特点:

· JBX-3200MV是用于制作28nm~22/20nm节点的掩模版/中间掩模版(mask/reticle)的可变矩形电子束光刻系统。

· 最先进的技术实现了高速、高精度和高可靠性。是基于加速电压50 kV的可变矩形电子束和步进重复式的光刻系统

· 利用步进重复式曝光的优点,结合曝光剂量调整功能及重叠曝光等功能,能支持下一代掩模版/中间掩模版(mask/reticle)图形制作所需要的多种补偿。

 


售后服务承诺

保修期: 1年

是否可延长保修期:

现场技术咨询:

免费培训: 免费安装及技术培训

免费仪器保养: 6个月一次。

保内维修承诺: 经确认质量问题,免费更换。

报修承诺: 24小时内到达现场并开始维修

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电子束刻蚀JBX-3200MV 的工作原理介绍

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日本JEOL电子束光刻机JBX-3200MV 信息由深圳市蓝星宇电子科技有限公司为您提供,如您想了解更多关于日本JEOL电子束光刻机JBX-3200MV 报价、型号、参数等信息,欢迎来电或留言咨询。
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