德国Heidelberg 掩膜版光刻机VPG+ 200/400

海德堡Heidelberg 掩膜版光刻机VPG+ 200/400 

大尺寸掩膜版生产工具
平行化曝光制程技术
大型光学系统上的创新与突破

热销的VPG（Volume Pattern Generator）系列-全球安装已超过50台。自成立以来，随着技术的进步，VPG产能不断得到进一步提升。整体的高速光学调制器有了飞跃性表现-升级后的系列称之为：VPG+。

VPG+系统同步提供小面积和大面积曝光的设备。VPG+200和VPG+400是海德堡设备中最先进的中小型高速曝光系统，以大面积VPG平台所采用的运作原理，同步保留小面积光刻领域的高端技术。

速度更快：超高速曝光
VPG+系列具有海德堡所研发的高速光学调制器，在速度最大化下，曝光时间可以达到原始VPG的三倍！强化了曝光性能与数据传输路径。

功能和选项：配备性能
VPG+小面积系统采用波长355nm的高功率脉冲紫外激光光源。空气轴承平台能够分别容纳尺寸为200x200mm2或400x400mm2的基板。系统配备自动对准功能和集成计量系统。

应用：光罩制造和直接写入
VPG+ 200和VPG+ 400将高分辨率的图像结合优化速度，以达到最快光刻产能，成为光罩制作及其他直写应用的首选设备，特别是使用SU-8或IP 3600等i-line光刻胶的应用。该系统可用于各种要求微观结构的领域，典型应用包括MEMS、advanced packaging、3D integration、LED production、life science和compound semiconductors。

基板尺寸的400 x 400毫米2

降至0.75μm结构

地址网格减小到12.5 nm

多写模式

自动加载系统

多种数据输入格式(DXF, CIF, GDSII, Gerber, STL)

网络数据传输

计量校准系统

人工气候室

阶段地图校正

边缘检测器单元

色差校正