电子枪种类: 钨灯丝
产地类别: 进口
二次电子图象分辨率: 5nm @30KV
放大倍数: 20x - 300,000x
加速电压: 200V-30KV
背散射电子图像分辨率: 8nm @ 30KV
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Cube-200型是EMCRAFTS第二代钨丝枪系列之小型台式扫描电镜。
Cube-200型台式扫描电镜是全数字化控制,专业级电子显微成像分析仪器,配置有三级电磁透镜,大变焦范围,长工作距离,多孔径光阑,轻松获得材料表面媲美大型扫描电镜的高分辨、大景深、高质量的微观形貌导航图;拓展简单易用台式电镜专用X射线能谱仪(EDS),能快速获得微米亚微米范围微小区域化学元素定性定量结果;在工作条件固定模式下,Cube-200也是一款高效率的成像检测设备。
硬件特征:
全数字控制,专业级电子显微成像仪器;
标配SE探测器,选配BSE探测器 ;
可选样品仓低真空环境功能,直接测试非导电样品;
可选内置一体化简单易用EDS;
XYZ三轴大行程自动样品台,可选RT轴自动控制(降低Z轴行程);
多重弹簧橡胶隔振减振系统;
主机设计紧凑,系统高度集成,良好散热及电磁兼容性能;
轻质合金外壳,数字加工成型,具有良好电磁屏蔽功能。
多样品工位计算机导航马达驱动样品台
轻质合金外壳,数字加工成型,做工精良,具有良好散热和电磁屏蔽功能。
完全内置电制冷能谱探测器,拓展简易EDS,无需专业培训即可获得良好效果
主机尺寸/重量:410X440X520mm 65kg
软件特征:
用户友好:包含多用户环境、一键成像、自动调节、灯丝寿命记录、远程诊断控制;
特殊样品:动态聚焦(DF)、倾斜补偿;
高效拍照:自动照相(Auto Imaging); 大图拼接:连续视野照片缝合;
信号探测:支持SE、BSE、STEM同时;
鼠标键盘操作,简易快捷。
性能指标:
型号 | Cube-200 专业入门级台式扫描电镜 | |
样品台 | XYZ三轴自动,RT手动 -Y: 45mm (自动) | |
电子枪 | 预对中钨灯丝,三极自动偏压,偏压与加速电压关联 | |
加速电压 | 200V-30KV ,数字化高压电源,连续可调 | |
探测器 | E-T型 SE detector, | |
物镜光阑 | 四孔位可变光阑,20~100μm | |
分辨率 | 5nm @30KV SE Image 8nm@30KV BSE Image | |
放大倍数 | 20x-300,000 x | |
样品室 | Se、Bse、EDS探测器接口, 4个其他接口 | |
样品尺寸 | Φ90mm x 45mm(H) | |
工作距离 | 0-48mm | |
扫描光栅运动 | 电位移 ±50μm, 电旋转 0-360° | |
视频显示模式 | 聚焦模式:320X240 像素 ,尺寸可变 TV模式:800x 600像素 慢扫描模式:用于TV及聚焦模式。 照相模式:800X600、960X720、1024x768、1600x1200、3200x2400像素 | |
高级扫描 | 动态聚焦,倾斜补偿 | |
图像格式 | JPG、TIFF、bmp、PNG | |
真空系统 | 全自动真空系统,真空高压连锁安全保护 -涡轮分子泵 -旋片式机械真空泵 -电动阀门系统:真空闸板阀、电磁阀等 -高真空优于7.5x10-3Pa (从大气到达高真空小于3分钟) -低真空模式 10-230Pa (选配) | |
自动功能 | 亮度/对比度, 聚焦, 电子枪对中、偏压、饱和,物镜光阑摇摆对中,自动照相存储 | |
软件系统 | 基于Win10,Virtuoso专用控制软件. 内嵌长度角度面积测量、图像编辑处理工具。完全鼠标键盘操作。 | |
主机尺寸/重量 | 410(W)x440(D)x 520(H)mm /65kg | |
电源 | 单相交流 220V 、50Hz、1KW | |
耗材附件 | 预对中灯丝,样品托,碳导电胶带,专用工具 |
Genesis-I 分析型扫描电镜(EmCrafts)
型号:Genesis-I 60万Veritas-300大样品仓扫描电镜【EMCRAFTS】
型号:Veritas-300 80万驰奔GENESIS-510全自动扫描电镜
型号:genesis-510 70万驰奔Cube-200台式扫描电镜
型号:CUBE-200 60万钨丝枪扫描电镜结构较为简单,价格较为经济,满足绝大多数材料研发基本需求。 我司专业供应系列钨丝枪扫描电镜,请按照如下应用指南选型。
电子显微成像: 电子显微镜中,对电子束进行折射的物质为电场或磁场,中心对称的磁场,其成像性质和高斯透镜几何光学一级近似,被称为磁透镜。磁透镜可以是永磁和电磁。地球沿着南北极贯穿,可以看做一个巨大的磁透镜,磁透镜焦距固定;电磁透镜通过改变线圈电流可改变透镜磁场强度,从而改变透镜焦距。
当前,最先进的钨灯丝扫描电镜极限分辨率为4nm左右,有效放大10万倍,结合实际使用中信噪比要求和操作效率,对于自然反差良好的一维或二维纳米材料,可有效表征50nm左右尺度结构,Genesis扫描电镜可以轻松获得良好的观测结果。
超疏水膜层构造粗糙微观结构工艺设置,离不开扫描电镜表征。本文扫描电镜观察磁控溅射法制备的膜层。驰奔扫描电镜是快速观测手段
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