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昊量
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Aunion_Maskless_Photo_Lithography_PALET
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欧洲
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DMD无掩膜光刻机
产品负责人：
姓名：郭工(Barry)
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DMD无掩膜光刻机SMART PRINT UV是一种基于DMD投影技术的无掩模光刻设备，可兼容多种电阻和基片。SMART PRINT UV可以生产任何微米分辨率的二维形状，而不需要硬掩模。基于改进后的标准投影技术，投影出具有微米分辨率的图像，无掩膜光刻机SmartPrint无需任何进一步步骤，就能直接从数字掩模光刻出您要的图。无掩膜光刻机SmartPrint主要应用是微流体，生物技术和微电子等领域光刻表面微纳图案。
DMD无掩膜光刻机主要特性：
兼容i、h、g线光刻胶
SmartPrint-UV配备了385 nm LED源，以兼容标准i, h和g线光刻胶，如SU8或AZ®1500系列
适用于各种各样的基材
我们的物镜范围经过精心选择，具有较长的工作距离(高达3厘米)，使SP-UV成为一种非接触式技术，因此兼容非标准基材(非平的，灵活的，厚的)。
可调直写范围和分辨率——用户可获得四种不同的直写分辨率 直写分辨率1.5um
兼容任何尺寸的样品，最大5平方英寸 对齐方式直观——反馈相机与第二束590nm准直光源叠加使用
DMD无掩膜光刻机体积小，性价比高
DMD无掩膜光刻机应用领域：
DMD无掩膜光刻机指标参数：
整机质保期: 0年
培训服务: 安装调试现场免费培训
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型号：405nm diode laser 面议
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型号：MicroFAB 面议
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型号：LumiDLP 面议
DLP光学引擎
型号：DMD数字微镜 面议MicroFAB-3D双光子聚合3D纳米光刻机是一款超紧凑、超高分辨率交钥匙型3D打印机。双光子聚合3D纳米光刻机基于双光子聚合(TPP)激光直写技术，兼容多种高分子材料，包括生物材料。MicroFAB-3D 3D纳米光刻机帮助您以百纳米级的分辨率生产出前所未有的复杂的微部件，值得一提的是，MicroFAB-3D的最小特征尺寸可低至67nm宽，为微流体、微光学、细胞培养、微机器人或元材料领域开辟了新的前景。另外，MicroFAB-3D具有开放性和适应性，可以满足您的定制化需求。
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