Si+SiO2薄膜
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合肥科晶

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Si+SiO2薄膜

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中国大陆

  • 金牌
  • 第12年
  • 一般经销商
  • 营业执照已审核
核心参数

产品名称:

Si+SiO2薄膜

产品简介:


技术参数:

常规晶向:<100>, <111>,掺杂类型:N型掺杂 或者 P型掺杂制作方法:干法或湿法薄膜厚度:常规厚度300nmSiO2

 

常规尺寸:

dia4"x0.5mm;dia2"x0.5mm;单面氧化 或者 双面氧化

可按照客户要求加工氧化层厚度:50nm~1um

标准包装:

1000级超净室100级超净袋单片盒或25片插盒封装


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