工业型磁光克尔效应设备
工业型磁光克尔效应设备

面议

暂无评分

暂无样本

2

--

亚洲

  • 金牌
  • 第12年
  • 一般经销商
  • 营业执照已审核
该产品已下架
核心参数

“For Wafer” Perpendicular Magnetic Layer Evaluation System

“晶片”垂直磁层评估系统

优势

测量垂直磁层12英寸的晶圆

 

规格

主要功能

Kerr Loop Measurement and Mapping Measurement
(Polar Kerr Effect)

光源

Diode Laser

探测光斑

φ1mm (Typ.)

磁场

Max. ± 25Oe (2.5T)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

“For Wafer” In-Plane Magnetic Layer Evaluation System

“晶片”平面磁层评估系统

优势

测量平面磁层12英寸的晶圆

 

规格

主要功能

Kerr Loop Measurement and Mapping Measurement
(Longitudinal Kerr Effect)

光源

Diode Laser

探测光斑

φ1mm (Typ.)

磁场

Max. ± 2kOe (0.2T)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

“For Hard Disc” Perpendicular Magnetic Recording Layer
Evaluation System

“硬盘”垂直磁记录层评估系统

优势

测量垂直磁性介质的2.5英寸和3.5英寸的硬盘

规格

主要功能

Kerr Loop Measurement and Mapping Measurement
(Polar Kerr Effect)

光源

Diode Laser

探测光斑

φ1mm (Typ.)

磁场

Max. ± 25kOe (2.5T)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

“For Hard Disc” Soft Under Layer (SUL) Evaluation System

“硬盘”下软层评估系统

优势

测量软层下的2.5英寸和3.5英寸的硬盘

规格

主要功能

Kerr Loop Measurement and Mapping Measurement
(Longitudinal Kerr Effect)

光源

Diode Laser

探测光斑

φ1mm (Typ.)

磁场

Max. ± 3kOe (0.3T)

 

 

用户评论
暂无评论
工业型磁光克尔效应设备信息由上海沃埃得贸易有限公司为您提供,如您想了解更多关于工业型磁光克尔效应设备报价、型号、参数等信息,上海沃埃得客服电话:400-860-5168转2623,欢迎来电或留言咨询。
移动端

仪器信息网App

返回顶部
仪器对比

最多添加5台