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碳化硅化学气相沉淀（CVD）EPI 1000
EPI 1000热壁反应器是一种碳化硅化学气相沉淀（CVD）系统，可以生成尽可能*好的材料。这种反应器占地面积较小，是要求严格的研究工作和小规模生产的理想选择。
定制设计
Epiluvac工作人员拥有数十年的化学气相沉淀系统设计经验，可以满足各种特定的客户需求。实际上，对于我们的工作人员来说，定制设计和标准设计没有
区别。我们可以为超高真空（UHV）应用领域、端温度（2900 K）、复杂气体混合物或低成本实验室建造系统。
的系统均根据订单制造，不过均采用成熟的模块搭建。因此，可以满足客户的期望要求，包括较短的交货时间和高品质的产品。我们提供的每套产品均配置
齐全，服务周到，包括反应器模块、气体输送系统、过程控制、*系统、安装和调试。在运货前，每套系统均接受了的检测，安装服务还包括为客户提供有关
运行和维护的必要的培训。
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