美国PIE等离子清洗仪

美国PIE Scientific LLC公司出品的SEMI-KLEEN 等离子清洗仪, 采用低压清洗技术，可清洗各种类型电子或者离子显微镜，深紫外光刻机，电子光刻系统等真空仪器。

本仪器由一个LCD触摸屏控制器和一个远程射频（RF）等离子源组成，远程等离子源通过一个KF40真空法兰连接到待清洗真空室，有转接法兰提供。主要用于清洗各种扫描电镜(SEM)，透射电镜(TEM)，聚焦离子系统(FIB)，离子显微镜(HIM)等真空系统中碳氢及其他污染。同时清洗真空腔体和样品。(详情请咨询PIE中国代理南京覃思科技有限公司)

一. 特有功能

1. 优越的等离子技术，可以在小于0.1毫托的气压下点火并且保持稳定的等离子体。非常低工作气压比其他同类产品低10到100倍。低气压清洗速度非常快，非常均匀，对电子枪和分子泵非常安全；
2. 即时等离子起辉技术。不用像在其他同类产品上那样担心等离子是不是成功起辉；
3. 带气压计的自动气体流量控制；
4. 实时测量等离子强度，用户可以根据这个实时反馈来优化清洗配方；
5. 自动射频匹配实时保证非常优化射频耦合，即使用户调节清洗配方；
6. 专有保护的双层颗粒过滤器设计保证我们的产品满足Intel，台积电，三星等半导体用户的严格颗粒污染要求；
7. 带LCD触摸屏的直观操作界面；
8. 微电脑控制器带可修改的智能清洗计划，设好就自动清洗您的系统；
9. 支持清洗配方，一键开始，自动射频匹配，自动控制气体流量；
10. 微电脑控制器可记录所有信息状态，便于系统维护。

二. 技术指标

1. 等离子源真空接口：NW/KF40 法兰; 提供转接法兰；
2. 标配等离子强度传感器；
3. 等离子源非常低点火起辉气压：<0.1毫托；
4. 等离子源非常高工作气压：>1.0 托；
5. 漏气率：<0.005sccm；
6. 射频输出：0~100瓦，连续可调节；
7. 具有射频自动匹配功能

8. 电源和功率：110V/220V, 50/60 Hz, 200 瓦