微米压痕仪
微米压痕仪

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NANOVEA

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S1000

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美洲

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核心参数

半导体技术(钝化层、镀金属、Bond Pads);存储材料(磁盘的保护层、磁盘基底上的磁性涂层、CD的保护层);光学组件(接触镜头、光纤、光学刮擦保护层);金属蒸镀层;防磨损涂层(TiN, TiC, DLC, 切割工具);药理学(药片、植入材料、生物组织);工程学(油漆涂料、橡胶、触摸屏、MEMS)等行业;
技术特点:
主要用于微纳米尺度薄膜材料的硬度与杨氏模量测试,测试结果通过力与压入深度的曲线计算得出,无需通过显微镜观察压痕面积。
?完全符合ISO14577、ASTME2546
?光学显微镜自动观察
?可硬度、刚度、弹性模量、断裂刚度、失效点、应力-应变、蠕变性能等力学数据。
?适时测量载荷大小
?采用独立的载荷加载系统与高分辨率的电容深度传感器
?快速的压电陶瓷驱动的载荷反馈系统
?双标准校正:熔融石英与蓝宝石
技术参数:
///最大加载载荷:40N
///载荷分辨率:0.75mN
///可实现的最小载荷:500mN
///位移分辨率:0.2nm
///可实现的自小位移:3nm
///可实现的最大位移:300μm
///样品最大尺寸:300mm

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