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KMPR为负性光刻胶，用作DRIE蚀刻掩膜实现高深宽比的图案，它还被广泛用作MEMS与生物器件的电镀模具。因为KMPR减少了Cross-link密度，在Hard baked之前，KMPR比SU-8更容易剥离。KMPR负性光刻胶可在任何(PGMEA),或(TMAH)的显影剂中得到显影。
KMPR 1000系列的特性
1）临时或永久的应用程序
2）膜厚：2-75 um
3）兼容标准水性显影剂
4）高宽比成像和垂直侧壁，深宽比：>5:1
5）单一旋途可达100微米
6）减少开裂
7）优异的金属粘附性
8）优异的电镀膜液稳定性
相关溶液：
显影液：SU-8 Developer
去胶液：Remover PG
增附剂：OmniCoat
一般储存温度：
-10°C
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