ETD-2000离子溅射仪

仪器简介：

ETD-2000型离子溅射仪，采用真空自动控制和真空保护电路，使操作和应用更加安全可靠。为扩大应用领域，可同时手动调整溅射仪的电离电流或手动调整其真空微调针阀，改变电离室的压强，获得最佳的喷镀效果。独特的真空橡胶压边密封结构，保证长期使用不会使钟罩边缘出现毛边而影响真空室中的真空度，陶瓷密封高压插头经久耐用。

技术参数：

技术规格:
1. 仪器整体尺寸：长：300mm; 宽：360mm; 高：400mm
2. 靶（上部电极）：材料：金，直径：50mm，厚度：0.10mm (大约)
3. 真空室：直径：160mm，高：120mm
4. 样品台（下部电极）：溅射面积：直径：50mm，可以根据需要上下调节。
5. 最高真空度：≤10-2 Torr
6. 最长定时时间：900S
7. 最高电压： 0-1600V（标配） /0-3000V（选配）
8. 机械泵：2升/每秒，AC 220V

可选配:
冷台 小型冷水机 三靶溅射头(在进行特殊涂层的应用时，不需要打开真空即可进行三层沉积溅镀)。

主要特点：

本仪器主要适用于扫描电子显微镜样品镀膜导电膜(金膜),仪器操作简单方

便,是配合中小型扫描电子显微镜制样必备的仪器。

主要特点

轻便、溅射面积大

靶材可按用户要求加工制作