仪信通
第
8
年
找不到产品？留下需求帮您找
一键询价最新产品
推荐耗材
推荐仪器
-
瑞士万通Multi Autolab/M204多通道电化学工作站型号： Multi Autolab/M204 -
德国FRITSCH P7 小型行星式球磨机/仪加强型型号： PULVERISETTE 7 premium line -
激光干涉仪型号： XL80 -
Hitachi日立CT15RE台式离心机型号： CT15RE -
Hitachi日立超速离心机CP70ME型号： CP70ME -
电热鼓风干燥箱型号： CS101-ABN -
Agilent 8890 气相色谱系统型号： 8890 GC -
T700/T600 系列紫外可见分光光度计型号： T700/T600 -
日立Primaide PLUS高效液相色谱仪型号： Primaide PLUS
获取电话
杜邦™Posistrip®
EKC800™系列
光刻胶剂
用于正光刻胶去除
产品描述
杜邦™Posistrip®光抗蚀剂是有机混合物
专门用于去除正光刻胶
微电子工业中使用的基板表面。
配制以满足广泛的工艺要求，
Posistrip®产品从轻度侵袭非碱性
从敏感金属中去除光刻胶的化学方法
层或衬底，如GaAs，非常腐蚀性碱性
去除极硬化光刻胶的化学方法。
这些水可冲洗配方允许用户完成
光刻胶去除过程中所含化学成分较少且较低
拥有成本(CoO)。这些产品金属离子含量低，
对敏感金属无腐蚀性，不含酚或
氯化溶剂。Posistrip®产品兼容
自动设备，便于从手动转换
潮湿的站点环境。
DuPont™Posistrip®EKC800™系列光刻胶
消毒剂包括:
Posistrip®EKC800™
设计用于去除已经历过的正光刻胶
具有正常热历史的标准加工。
Posistrip®EKC830™
设计用于有效去除所产生的正光刻胶
从粗糙的前期处理中难以去除。
Posistrip®EKC865™
专门用于防止敏感金属的攻击。
去除正光刻胶与正常热历史
化学试剂 EKC800™系列光抗蚀剂由 德国韦氏纳米系统有限公司为您提供，如想了解更多关于有机试剂 EKC800™系列光抗蚀剂的报价、规格、厂家等信息，欢迎来电或留言咨询。除供应EKC800™系列光抗蚀剂外， 德国韦氏纳米系统有限公司还可为您提供：
铜后蚀刻残留物去除剂、
刻蚀残留物去除剂、
晶圆级封装光刻胶去除剂
