某国产光刻胶产业化项目拟投资实施，购置仪器设备520 余台（套）

12月16日，富湖北鼎龙控股股份有限公司（以下简称“鼎龙股份”）发布公告，为助力推动半导体 KrF/ArF 光刻胶的国产替代进程，同时进一步丰富公司业务板块，加速实现公司进口替代“创新材料平台型企业”的战略发展目标，公司全资子公司鼎龙（潜江）新材料有限公司（以下简称“潜江新材料”）布局 KrF/ArF光刻胶。

鼎龙股份于 2023年12月22日召开第五届董事会第十四次会议，审议通过了《关于全资子公司实施增资扩股并与员工持股平台共同投资建设年产300吨 KrF/ArF 光刻胶产业化项目的议案》，同意公司对潜江新材料实施增资并以增资扩股方式引入两家员工持股平台及一家新进投资方共同投资建设年产 300 吨KrF/ArF 光刻胶产业化项目。

本次 KrF/ArF 光刻胶项目拟投资实施的主要内容

1、项目名称：年产300吨KrF/ArF光刻胶产业化项目

2、实施地点：湖北省潜江市江汉盐化工业园长飞大道 1 号

3、实施主体：鼎龙（潜江）新材料有限公司

4、资金来源：公司自有或自筹资金

5、建设内容及规模：新建主体生产厂房、动力中心、中控室、仓库、罐区等建筑面积 16,620.94 平方米，购置反应釜、混配釜、储液罐、离心机、质谱仪等仪器设备 520 余台（套），配套建设安全环保设施。项目投产后形成年产 300吨 KrF/ArF 光刻胶的生产能力。

6、项目投资估算：本项目预计总投资额为80,395.30万元，总投资计划包括：产业化工程建设投资、研发及检测设备购置及安装费用、铺底流动资金等，预计年产产能为300吨，最终项目投资总额及产业化规模以实际投资为准。本次投资审议有1.5亿元注册资本，后续投资资金的缺口将由潜江新材料自筹解决。

半导体光刻胶是由感光树脂、增感剂和溶剂三种主要成分组成的对光敏感的混合液体，半导体光刻胶按照光刻波长分为紫外光谱、g线（436nm)、i线（365nm)、KrF（248nm）、ArF（193nm）、EUV（13.5nm）。半导体光刻胶是半导体光刻工艺中的关键材料，光刻胶及其配套试剂在晶圆制造材料成本中占比超过10%，半导体光刻胶的分辨率、对比度、感光速度等技术指标和质量一致性，直接影响到集成电路的性能、良品率、可靠性以及生产效率，其技术壁垒极高，因此被誉为半导体材料“皇冠上的明珠”。

根据 TECHET 数据，2021 年全球半导体光刻胶市场中，合成橡胶（JSR）、东京应化（TOK）、信越、杜邦、住友化学、富士等企业占据的市场份额合计超过 90%，用于先进工艺的 KrF、ArF、EUV 光刻胶基本由该等外资厂商垄断。相比之下，中国光刻胶行业发展起步较晚，国产光刻胶主要用于平板显示、印刷电路板等领域，用于晶圆制造、先进封装的半导体光刻胶严重依赖进口。近年来，经过国内半导体光刻胶厂商的不懈努力，国内厂商已实现 g/i 线光刻胶的量产，但在更为先进的 KrF、ArF、EUV 光刻胶领域尚未实现大规模量产。在国际市场技术封锁、国内半导体产业加速发展的大背景下，KrF、ArF 光刻胶因其覆盖了从 0.25µm 到 7nm 的主要半导体先进制造工艺，是现阶段迫切需要实现国产化技术突破的半导体关键材料。因此，尽快实现高端光刻胶材料的国产化、产业化具有十分重要的战略意义和经济价值。

经过多年快速发展，鼎龙股份已在半导体材料业务方面取得了显著成绩，积累了深厚的市场资源和客户基础。其中：半导体 CMP 制程工艺材料国产供应渗透程度稳步加深、半导体显示材料进入加速放量阶段、半导体先进封装材料产品开发、验证及量产导入工作按计划快速推进，半导体材料业务的快速发展带动了公司的业绩增长。为实现业务的可持续发展和利润的可持续增长，公司在保持现有业务稳健成长的同时，积极布局高端光刻胶赛道，努力打造新的盈利增长点。

该项目的实施，将进一步丰富鼎龙股份的业务板块、步入高端光刻胶关键赛道，有利于公司进一步优化半导体材料业务的产品结构、扩大市场份额、新增利润增长点。