一文速览「半导体行业」所用仪器，附相关仪器热度榜单

序号

半导体行业仪器设备

设备用途

1

氧化炉

提供半导体材料氧化所需的氧化气氛

2

物理气相沉积PVD

通过物理方法将靶原子(或分子)沉积在基板上以形成薄膜

3

化学气相沉积CVD

在衬底表面，通过化学反应生成薄膜

4

光刻机

将掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到基板(硅片)上

5

涂胶显影设备

与光刻机配合，完成曝光前光刻胶涂覆和曝光后图形的显影

6

等离子体刻蚀设备

干法刻蚀，通过产生高速粒子流，对材料表面进行加工

7

化学机械抛光机CMP

通过机械研磨和化学液体溶解腐蚀的共同作用，对样品进行抛光

8

晶圆减薄机

通过抛光，降低晶片的厚度

9

聚焦离子束FIB

在IC芯片特定位置作截面断层，以便观测材料的截面结构与材质，定点分析芯片结构缺陷

10

扫描电镜SEM

材料表面形貌、断口形貌、界面形貌等显微结构分析，借助EDS还可进行微区元素含量分析

11

透射电镜TEM

可观察样品的形貌、成分和物相分布，分析材料的晶体结构、缺陷结构和原子结构以及观测微量相的分布等

12

原子力显微镜AFM

对样品进行高质量的形貌扫描和力学、电学特性测量，如杨氏模量、微区导电性能、表面电势等

13

成像型椭偏仪

测量分析薄膜的厚度、折射率、介电常数等

14

X射线衍射仪

薄膜反射率测量，薄膜掠入射分析，小角散射， 二维衍射，织构应力，外延层单晶薄膜的高分辨率测试

15

金相显微镜

晶圆表面微纳图形检查

16

紫外可见分光光度计

测量样品的反射率与透射率

17

台阶仪

薄膜材料厚度(2D)测量和表面形貌测量(3D)

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仪器名称

1

Apreo 2超高分辨场发射扫描电镜top1

2

国仪量子场发射扫描电镜SEM5000top2

3

惠然科技高适配高性能热场发射扫描电镜—整机“风”系列top3

4

TESCAN VEGA 钨灯丝扫描电镜

5

高通量（场发射）扫描电子显微镜NavigatorSEM-100

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仪器名称

1

Spectra S/TEM 扫描透射电子显微镜top1

2

冷场发射12极子球差校正透射电镜top2

3

自动进样场发射透射电镜top3

4

低电压台式透射电子显微镜-LVEM5

5

冷场发射球差校正透射电镜

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仪器名称

1

牛津仪器Asylum Research原子力显微镜MFP-3Dtop1

2

牛津仪器原子力显微镜 Cypher VRS1250top2

3

Park NX10 帕克原子力显微镜top3

4

Park FX40原子力显微镜

5

Park NX20 原子力显微镜

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仪器名称

1

布鲁克X射线衍射仪 D8 ADVANCEtop1

2

马尔文帕纳科X射线衍射仪Empyreantop2

3

浪声台式XRD X射线衍射仪top3

4

日本理学XRD X 射线多晶衍射仪 SmartLab

5

马尔文帕纳科台式X射线衍射仪Aeris

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仪器名称

1

奥林巴斯 金相显微镜 正置金相显微镜 BX53Mtop1

2

正置金相显微镜 徕科光学科研级正置金相显微镜LK-53Mtop2

3

德国徕卡手动正置金相显微镜 DM2700Mtop3

4

Linkam THMS600 冷热台

5

研究级倒置万能显微镜Axio Observer 3m

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仪器名称

1

上海元析紫外可见分光光度计Q-6top1

2

T700/T600 系列紫外可见分光光度计top2

3

上海仪电分析-L9 紫外可见分光光度计（UV-VIS）top3

4

LAMBDA 1050+紫外-可见-近红外分光光度计

5

1901系列紫外可见分光光度计