报告简介:
在制备新型生物芯片器件时,通常会涉及到光刻工艺。而在诸多光刻技术中,无掩膜光刻技术因其特的优势和特点,成为当前为流行高效的一种。与传统掩膜版技术相比,无掩膜曝光技术具有高分辨、高对准精度、更加简易操作等诸多优势,能够轻松实现微米、亚微米精度的光刻、套刻。配合各类标准微加工工艺,能够方便快捷地实现各类生物芯片器件的制备。在本报告中,将重点介绍无掩膜光刻技术新前沿进展,结合来自国内外以色列理工,IBM,复旦等科研单位在国际期刊发表的研究成果,探讨无掩膜光刻技术在生物芯片领域的应用。
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报告时间:
2021年12月15日 14:00(北京时间)
主讲人:
喻博闻 博士
喻博闻博士,毕业于澳大利亚昆士兰大学机械与矿业学院,博士期间研究方向为微纳机电器件中的界面问题,以及微纳尺度操纵和加工技术。于2021年4月加入Quantum Design中国子公司表面光谱部门,负责微纳加工相关产品在的应用开发、技术支持及市场拓展工作。
技术线上论坛:
https://qd-china.com/zh/n/2004111065734
[来源:QUANTUM量子科学仪器贸易(北京)有限公司]
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