沈阳科晶参加全国高聚物分子与结构表征学术研讨会
全国高聚物分子与结构表征学术研讨会是由中国化学会高分子学科委员会主办的国内高分子届的盛会。会议每两年举办一次,本届会议由华中科技大学、武汉大学共同承办,于2018年10月17-19号在湖北武汉举行。
沈阳科晶有幸应邀参加此次会议并作为此次会议的赞助商,沈阳科晶一直致力于为各类材料研究事业提供优质服务,不仅有材料处理的切割、研磨、抛光设备,还有金属材料的熔炼、镀膜设备,高分子材料的薄膜生长设备等,产品种类繁多,产品质量优良。此次参会我们携带的设备有SYJ-150低速金刚石切割机、STX-202A小型金刚石线切割机、GPC-50A精确磨抛控制仪、UNIPOL-802精密研磨抛光机、PTL-MM02程控提拉涂膜机、VTC-200PV真空旋转涂膜机、VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪、MSK-NFES-3C台式静电纺丝机、SYJ-D2000金刚石带锯切割机、PCE-6小型等离子清洗机。
此次参会,沈阳科晶派出专业技术团队为大家进行讲解,会议一开始沈阳科晶的设备展位就异常火爆,科晶的设备得到了各位专家、老师和学生的热切关注,我公司技术人员对老师和同学们所关注的设备进行了详细介绍,并对大家提出的问题一一进行了解答。大家纷纷惊叹于我公司技术人员的专业!同时对我们的设备提出了自己的意见,我们也认真聆听各位老师的意见和建议,努力对我们的设备做出更多的改进,从而满足不同材料人员的要求。
世界在进步,科学在进步,沈阳科晶也一直在努力跟上科计前进的脚步,做为科晶人,我们也在不断扩充自己的专业知识,才能跟上科学技术发展的速度。不断的开拓进取是我们一直的奋斗方向,努力让沈阳科晶品牌享誉整个材料界是我们一直的奋斗目标!
[来源:沈阳科晶自动化设备有限公司]
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