2016年全国电子显微学学术年会之特邀报告篇（一）

仪器信息网、中国电子显微镜学会、中国电镜网联合报导：2016年全国电子显微学学术年会于10月13-15日在天津东丽湖恒大酒店隆重召开。

大会现场

电子显微学的发展，能够帮助科学研究向着更加高端、复杂的方向挺进，而科研水平的进一步发展则对电子显微技术提出新的要求。本次会议在首日邀请了国内外电子显微领域顶尖的专家学者和仪器厂家代表作特邀报告，共同交流探讨电子显微学科近期所取得的新成就和未来的发展方向。

　　德国科学院院士、德国于利希研究中心的Knut Urban教授分享了皮米量级超高分辨率透射电镜技术及其在介电材料中的应用研究。Urban教授的主要研究方向之一为球差校正透射电子显微学研究(包括仪器的发展和软件控制)，2011年因对球差校正电子显微镜像差的研究贡献而荣获沃尔夫物理学奖(Wolf Prize in Physics)。这一研究使得科学家们能在皮米尺度下观察研究原子结构，对材料科学发展影响深远。近些年来，Urban教授通过将目前的球差校正透射电镜技术与专用的数字化评估程序(dedicated numerical evaluation procedures)相结合，克服了球差校正透射电镜技术在某些应用方面的缺陷，进一步拓展了球差校正透射电镜技术的应用领域。此外，他还介绍了皮米量级超高分辨率透射电镜技术应用于介电材料中缺陷和界面方面研究的最新成果。

德国科学院院士、德国于利希研究中心的Knut Urban教授

　　日本电子(捷欧路(北京)科贸有限公司)的OKUNISHI EIJI博士在报告里介绍了日本电子在透射电镜方面的最新技术和产品进展，给笔者留下较深刻印象的包括：

　　JEM-ARM300F，又称GAND ARM，是日本电子JEOL开发的300 kV原子分辨级透射电子显微镜，采用了日本电子自有的十二极像差校正器(dodecapole correctors)。作为JEM-ARM200F的增强型号，其分辨率提高到63pm(STEM分辨率)。

　　JEM-2200MCO FEGTEM是一款配有单色器，双像差校正的TEM / STEM仪器，分辨率达到亚埃级别(0.08nm)，其用于STEM成像的探针的尺寸也低至0.1nm水平。2200MCO配备了一个带有单色器的Schottky场发射枪以及像差校正器。该产品可在200kV和80kV加速电压下运行。

　　日本电子新一代冷冻电镜——CRYOARM，其使用200kV加速电压，可选用改进的冷场发射电子枪或Schottky 场发射枪，制冷剂采用液氮，温度可低至100K以下。

日本电子(捷欧路(北京)科贸有限公司)的OKUNISHI EIJI博士

　　国家自然科学基金委物理科学一处张守著处长报告的题目是“从基金项目看我国电子显微学的发展”。张处长简单总结了近五年来我国显微学的基金资助以及国家重大科研仪器研制的相关情况。随后他讲述了显微学发展的交叉性强、自身发展主线明确、既经典又新潮，既主流也辅助的特点，并介绍电子显微在申请基金、重大科学仪器、杰青等项目的注意事项。

国家自然科学基金委物理科学一处张守著处长

　　徕卡公司的应用专家吴长江报告介绍了徕卡电镜制样技术最新进展：徕卡超薄切片系统EM UC7/FC7装配的低角度和超声波震动钻石刀可以减小切片过程对材料结构影响;三离子束切割仪EM TIC3X采用非聚焦鞍型场离子枪抛光面积大，楔形效应不明显;高压冷冻仪EM ICE可在2100 Bar气压下，30 ms内实现样品冷冻固定，样品内的水不经过结晶直接冻成玻璃态，厚度可达200微米。

徕卡公司的应用专家吴长江

　　北京大学生命科学学院的孙育杰教授利用超高分辨率单分子荧光成像技术实现了对活细胞内细胞工厂(RNA聚合酶II复合物，Pol II Cluster)动态过程观测和定量分析。通过贝叶斯超分辨显微术(3B)观察到活体细胞核内Pol II聚合和解聚过程，以50 nm空间分辨率和4 s时间分辨率，测量了活细胞内转录工厂的数目和大小随时间及细胞环境的变化，揭示了转录工厂产生和消失的异质性，支持了转录工厂产生的“立即响应”式模型，证明了转录工厂在延长前期招募Pol II分子。孙教授认为超高分辨率显微技术会有三个发展趋势：从显“微”镜进入分辨率更高、更快和更深的显“纳”镜时代;不同超高分辨显微技术的模态融合，其中双光子荧光显微镜、电子显微镜和片层光技术很值得融合;发展和优化荧光探针技术。

北京大学生命科学学院的孙育杰教授

　　蔡司公司的Ruth Chalmers-Redman博士报告了公司应用于生命科学领域的二维和三维相关扫描电镜成像技术。相关成像技术可以实现不同显微镜系统获得图像间的比较分析，研究细胞、组织或材料的特殊结构或生物学现象。蔡司公司拥有多项三维成像有关技术和仪器，Ruth利用动画展示了它们进行三维成像的工作原理和流程。给笔者印象较深的技术有：第三代Gemini镜筒，保证在超低加速电压下获得小束斑和高信噪比;Atlas5可在以样品为中心的关联模式下，创建多尺度多模式的综合图片;蔡司成像系统界面ZEN提供适合不同硬件的模块选择，操作更便捷直观。

蔡司公司的Ruth Chalmers-Redman博士

　　比利时安特卫普大学教授Van Tendeloo博士报告综述了软材料领域的高级电镜研究进展。电镜技术已经从放大工具发展成为量子机制研究的通用工具，可以研究原子层面的结构、化学、电学和磁力信息。并且不再局限于二维成像，三维成像的研究逐渐常规化，应用局限也不再是透镜质量，而是取决于基础的物理原理。报告举例介绍了三维成像解决的材料科学问题，如锂电池用富锂层状材料中原子的排列。显然，高级电镜技术会把纳米材料研究带入到一个新高度，帮助我们更好地认识和优化现有材料以及设计具有某些特征的新材料。

比利时安特卫普大学教授Van Tendeloo博士

　　孟丽君博士报告了牛津仪器在能谱仪探测器方面的研究进展，改进后的硅漂移探测器X-Max Extreme能够在1 kV 到3 kV的低加速电压下采集数据，并且在非常短的工作距离进行元素分析。该探测器在FEG-SEM应用中，能够获得优于10 nm的元素表征;材料表面表征灵敏度高，适合对低至1 kV电压材料进行表征;对轻元素的灵敏度高，可探测到锂元素。另外孟博士还介绍了牛津公司所属的两个网站：电镜耗材在线商城和EBSD技术教育网。

牛津仪器孟丽君博士