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IMC 2014聚焦电镜仪器与技术

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分享: 2014/08/29 15:48:59
导读: 第18届国际显微学会议报告包括四个方面的主题:仪器及技术、材料科学、生命科学、交叉学科。其中仪器及技术专场下设了电子光学和光学元件、高分辨率TEM和STEM、扫描电镜等17个分会场。

  仪器信息网讯 2014年9月7日-12日,第18届国际显微学会议将在捷克共和国首都布拉格举行。该会议每4年举办一次,此次会议报告包括四个方面的主题:仪器及技术、材料科学、生命科学、交叉学科。其中仪器及技术专场下设了电子光学和光学元件、高分辨率TEM和STEM、超高分辨率光学显微镜和纳米显微成像、扫描电子显微镜等17个分会场。

  分会场1:电子光学和光学元件

  电子源和电子光学元件对显微镜的性能起着关键作用。该研讨会将关注所有类型的电子源,如脉冲源或光电发射源,以及高亮度枪、单色器、像差校正器、能量过滤器、基于新检测原理的检测器,分束器和偏转器,信号转换器等。

  分会场2:高分辨率TEM和STEM

  该研讨会涵盖像差校正、抑制漂移和不稳定性、镜筒屏蔽、离域问题、原子分辨率点缺陷、原子位置的测量、辐照损伤的证明与抑制、低剂量成像、成像模式的结合、STEM多通道检测等。

  分会场3:超高分辨率光学显微镜和纳米显微成像

  该研讨会聚焦于光学显微镜的前沿方法进展。包括PSF工程技术,4PI显微镜,受激发射损耗显微镜(STED)、随机光学重建显微镜(STORM)、光敏定位显微镜(PALM)等,以及采用类似原理的显微镜,如结构照明显微镜,近场光学显微镜,TIRF等。

  分会场4:扫描电子显微镜

  该研讨会将主要关注提升分辨率的方法,进行低能量甚至非常低的能量下的操作,多通道检测,以及包括FIB技术的数据采集、处理和可视化。另外,研讨会还涵盖能量/角度敏感探测器、传输模式、表面处理和原位处理,近场发射扫描电子显微镜等。

  分会场5:分析电子显微镜

  该研讨会将探讨通过分析技术,包括电子能量损失谱(EELS)、高分辨率元素分布、以及近边精细结构谱,可以使得TEM、STEM、SEM的背散射电子像、二次电子像、透射电子像以及前向散射电子像得到显著增强。

  分会场6:环境电镜

  该研讨会将探讨环境扫描电镜、环境透射电镜的各个方面,如加热、冷却、气体处理、电子束诱导沉积、刻蚀、蒸发的动力学现象、冷凝、熔化和凝固、气体中带电粒子束的行为、电子检测等,以及样品湿度控制及相关话题。

  分会场7:原位及冷冻显微技术

  该研讨会将关注在高温、强电场和强磁场条件下的原位实验,原位纳米压痕和变形,在电子、激光及其他辐照条件下观察动态现象,以及相关的仪器。另外,TEM,STEM和SEM在低温及超低温度下,冷冻阶段所涉及的各方面问题,如表面凝结,原位低温压裂和切割,局部温度的测量等也将被关注。

  分会场8:超快显微技术

  该研讨会将专门关注利用时间分辨显微技术,飞行时间技术观察动态现象,飞秒激光的应用、光发射电子显微镜(PEEM)和低能电子显微术(LEEM)中的同步加速器、4D成像、用于像差校正的时间分辨成像,基于电子计数和超快采集的二维图像技术等。

  分会场9:电子衍射技术

  该研讨会将关注会聚束电子衍射(CBED)、纳米束衍射(NBD)、旋进电子衍射(PED)和时间分辨电子衍射方法及应用,以及EBSD的所有相关内容。

  分会场10:电子断层成像

  该研讨会关注先进技术包括:断层成像的新图像模式、用于定量和准确度重建的新算法、以及破坏性和非破坏性成像技术。

  分会场11:电子全息成像及lens-less成像

  除了传统的电子显微镜成像方法,研讨会还将关注离轴和在线全息技术,原子分辨率级的全息术,相位移和微弱信号的测量,洛伦兹电镜和相差显微镜。其他还将关注相位恢复和图像重构算法的进展、全息技术的应用、X-ray spectro-holography、低能电子点源显微镜、少透镜光学显微镜、数字全息显微镜和光学相干断层扫描。

  分会场12:表面显微技术

  该研讨会的核心主题是基于阴极物镜的超高压表面电镜技术和仪器。这包括LEEM,镜式电子显微镜、各种模式的PEEM(UV-PEEM,激光PEEM,同步加速器辐射XPEEM),具有磁性或化学敏感性的电镜,以及其他场发射电镜等,重点关注高空间分辨率和光谱分辨率。

  分会场13:聚焦离子束显微镜及技术

  该研讨会探讨的内容将包括离子源(镓,氙等),离子光学器件,二次离子质谱法(SIMS),注气系统(GIS),三维聚焦离子束断层扫描和化学分析,微加工和样品制备,生物材料的聚焦离子束分析,离子/固体相互作用,以及新的应用和仪器。

  分会场14:扫描探针显微镜和近场显微镜

  该研讨会将探讨扫描探针仪器和方法,STM、SFM、MFM和SPM的应用,使用SPM作为操纵纳米结构或加工的工具,近场电子显微技术和近场光学显微技术的结合等。

  分会场15:X射线、中子和其他显微技术

  该研讨会将探讨X射线光学、X射线显微学和成像、相位衬度成像、光谱成像、傅里叶变换全息方法、中子束等。

  分会场16:电镜理论和模拟

  基于计算机的分析和模拟工具是该研讨会的主题,将包括用于电子光学的CAD的各个方面,如物理原理、算法、计算机模拟软件、扫描电镜成像过程的完整模拟,以及透射电镜图像模拟。

  分会场17:原子探针和非传统的微量分析任务

  该研讨会将探讨微量分析的非传统解决方案以及新型微量分析工具。另外将探讨原子探针层析技术的原理、仪器及实验操作。(编译:秦丽娟)

[来源:仪器信息网] 未经授权不得转载

标签: 电镜
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作者:秦丽娟

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