视频号
抖音号
哔哩哔哩号
前沿资讯手机看
分享到微信朋友圈
打开微信，点击底部的“发现”，
使用“扫一扫”即可将网页分享到朋友圈。
2008年5月20号及23号，Veeco公司在北京、上海两地成功地举办了两场光学干涉表征技术研讨会。来着Veeco美国的技术科学家韩森博士及全球产品顾问Wanye Mozer先生全程参加了此次活动。他们针对：MEMS、精密机械加工、汽车、摩擦学、数据存储、半导体等领域做了详细的报告。在北京的研讨会上，我们还安排了NT9100仪器的展示及现场测试活动。
在整场活动中，客户直观地了解到了光学干涉技术及光学轮廓仪在他们领域中的应用，得到他们的赞许。
Veeco公司会持续地开展此类技术研讨会活动，感兴趣的客户请关注我们的网站。
北京研讨会现场
[来源：美国维易科精密仪器有限公司（veeco)]
岛津公司—清华大学化工系合作起步
布鲁克纳米表面与量测部门邀请您参加SEMICON CHINA 2024
2024.03.12
Nature Communications：AFM-IR研究铁电纳米晶极化所罗门环结构
2023.09.19
2023.09.13
Advanced Science: 基于高通量方法获取类金刚石耐磨性能的非晶合金
2023.09.01
品牌合作伙伴
版权与免责声明：
① 凡本网注明"来源：仪器信息网"的所有作品，版权均属于仪器信息网，未经本网授权不得转载、摘编或利用其它方式使用。已获本网授权的作品，应在授权范围内使用，并注明"来源：仪器信息网"。违者本网将追究相关法律责任。
② 本网凡注明"来源：xxx（非本网）"的作品，均转载自其它媒体，转载目的在于传递更多信息，并不代表本网赞同其观点和对其真实性负责，且不承担此类作品侵权行为的直接责任及连带责任。如其他媒体、网站或个人从本网下载使用，必须保留本网注明的"稿件来源"，并自负版权等法律责任。
③ 如涉及作品内容、版权等问题，请在作品发表之日起两周内与本网联系，否则视为默认仪器信息网有权转载。
谢谢您的赞赏，您的鼓励是我前进的动力~
打赏失败了~
评论成功+4积分
评论成功，积分获取达到限制
收藏成功
取消收藏成功
点赞成功
取消点赞成功
投票成功~
投票失败了~
