关注
已关注
已认证
粉丝量 0
400-860-5168转0727
仪器信息网认证电话，请放心拨打
核心参数
仪器种类： 分子泵
产品类型： 无油泵
产地类别： 进口
抽气速率： 685l/s
最大真空度： < 5X10-10
外部尺寸： -
重量： 17.4kg
电机功率： -
上海伯东德国普发涡轮分子泵 Pfeiffer HiPace 700. 涡轮分子泵 HiPace 700 对氮气抽速可达到 685 l/s, 紧凑设计, 低能耗的同时保证分子泵最高抽吸能力.
涡轮分子泵 HiPace 700 占地面积小, 任意位置安装. 适用于工业环境-保护等级 IP 54, 通过半导体 S2, UL / CSA 认证. 通过分子泵控制器监控运算数据, 集成风冷.
涡轮分子泵 HiPace 700 可选分子泵控制器 TC 400/TCP 350, 多种密封方式和配件供选择, 上海伯东可协助客户选型并提供完善的售后维修服务.
涡轮分子泵 HiPace 700 特性
稳健性工业设计和经过实践证明的高可靠性分子泵轴承系统
结构紧凑, 满足更小的安装空间要求
分子泵高气流量和高抽速
基本款任意角度安装
防护等级 IP 54, 符合工业环境要求
可应用于腐蚀性气体工艺
分子泵通过 SEMI S2 和 UL 认证
涡轮分子泵 HiPace 700 技术参数
型号 | HiPace 700 TC 400 | HiPace 700 TC 400 | HiPace 700 TC 400 |
分子泵示意图 |  |
|
|
Ar 压缩比 | >1X1011 | >1X1011 | >1X1011 |
H2 压缩比 | 4X105 | 4X105 | 4X105 |
He 压缩比 | 3X107 | 3X107 | 3X107 |
N2 压缩比 | >1X1011 | >1X1011 | >1X1011 |
最大预抽真空, N2 hPa | 11 | 11 | 11 |
Ar全转速时气体流量hPa l/s | 3.5 | 3.5 | 3.5 |
H2 全转速时气体流量hPa l/s | >14 | >14 | >14 |
He全转速时气体流量hPa l/s | 20 | 20 | 20 |
N2 全转速时气体流量hPa l/s | 6.5 | 6.5 | 6.5 |
操作电压 V DC | 48 | 48 | 48 |
最大电流 A | 8.4 | 8.4 | 8.4 |
允许最大磁场 mT | 6 | 6 | 6 |
Ar抽速l/s | 665 | 665 | 665 |
H2 抽速l/s | 555 | 555 | 555 |
He 抽速 l/s | 655 | 655 | 655 |
N2 抽速l/s | 685 | 685 | 685 |
转速 ± 2 % rpm | 49200 | 49200 | 49200 |
启动时间 min | 2 | 2 | 2 |
极限真空 hPa | < 1X10-7 | < 5X10-10 | < 1X10-7 |
重量 kg | 11.5 | 17.4 | 12.1 |
若您需要进一步的了解涡轮分子泵详细信息, 请联络上海伯东罗先生
现部分品牌诚招合作代理商, 有意向者欢迎联络上海伯东罗先生
上海伯东版权所有, 翻拷必究！
普发真空真空泵HiPace 700的工作原理介绍
真空泵HiPace 700的使用方法?
普发真空HiPace 700多少钱一台?
真空泵HiPace 700可以检测什么？
真空泵HiPace 700使用的注意事项？
普发真空HiPace 700的说明书有吗？
普发真空真空泵HiPace 700的操作规程有吗？
普发真空真空泵HiPace 700报价含票含运吗？
普发真空HiPace 700有现货吗？
更多
更多
更多
上海伯东普发涡轮分子泵组脉冲激光沉积系统应用
脉冲激光沉积（Pulsed Laser Deposition, PLD），是一种利用激光对物体进行轰击，然后将轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上, 得到沉淀或者薄膜的一种手段. PLD 系统由多个真空腔体组成，整个系统需要超高真空且不能引入任何杂质，对环境的清洁度要求较高，必须配备无油干泵和分子泵抽真空。由于各个辅助腔体体积较小, 因此特别适合使用 pfeiffer Hicube 系列分子泵组. 伯东公司销售维修的 Pfeiffer 分子泵组因其结构紧凑体积小，清洁无油（前级泵配备干泵）、抽速快、极限真空度高达10-11mbar等优点一经上市好评如潮。
其他
2015/01/09
上海伯东德国普发Pfeiffer 涡轮分子泵成功应用于磁控溅射
上海伯东代理德国普发 Pfeiffer 涡轮分子泵 Hipace 700 成功应用于宁波某研究所磁控溅射（Megnetron Sputtering）系统.宁波某研究所磁控溅射（Megnetron Sputtering）系统用于光刻胶片上溅金属铬,铜,钛.其中材料生长腔工作真空度要求 < E-7 hPa,能做到4英寸片,3靶位,可实现编程镀膜.材料生长腔对涡轮分子泵的要求较高,老师在考量了德国普发 Pfeiffer Hipace 700 涡轮分子泵和爱德华 Edwards STP603 分子泵后,因为对分子泵的压缩比要求较高,最终选择了德国普发 Pfeiffer 分子泵
其他
2015/01/08
企业名称
伯东企业（上海）有限公司
企业信息已认证
企业类型
信用代码
310115400032917
成立日期
1995-12-01
注册资本
800
经营范围
伯东企业（上海）有限公司
公司地址
上海市浦东新区新金桥路1888号36号楼7楼702室
客服电话
公司名称： 伯东企业（上海）有限公司
公司地址： 上海市浦东新区新金桥路1888号36号楼7楼702室 联系人： 罗小姐 邮编： 200131 联系电话： 400-860-5168转0727
仪器信息网APP
展位手机站