核心参数
适用气体: CDA、XCDA
脱除杂质: H2O、TOC(as C7F8)、Bases(as NH3)、ACID(as SO2)、Refractory Compound
脱除深度: <0.01 ppb
使用流量: 2-2000 slpm
使用温度: 常温
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