其它参数
M&RRIE去胶机产品介绍如下:
产品概述
M&RRIE去胶机是一款高性能的反应离子刻蚀(RIE)设备,专为微电子、半导体、光电等领域设计,用于去除材料表面的光刻胶、氧化物、金属薄膜等残留物。该设备以其高效、稳定、精准的去除效果受到业界广泛好评。
核心特点
1. 高效去胶:采用先进的RIE刻蚀技术,能够在短时间内高效去除材料表面的残留物,提高生产效率。
2. 稳定可靠:设备结构紧凑,设计合理,运行稳定可靠,能够保证长时间连续工作的稳定性。
3. 精准控制:通过精确控制刻蚀气体的流量、压力、功率等参数,实现去胶过程的精准控制,保证去胶效果的一致性。
4. 兼容性强:支持多种材料、多种尺寸的晶圆处理,兼容性强,满足不同用户的需求。
应用领域
M&RRIE去胶机广泛应用于微电子、半导体、光电等领域,包括但不限于:
* 去除光刻后的HDMS和BARC层
* 刻蚀高分子聚合物,如聚酰亚胺、PDMS、石墨烯等
* 湿法蚀刻前的晶圆清洗、表面预处理
* 表面改性(润湿性和附着力的改善)
* 故障分析中的选择性层蚀刻
售后服务
我们提供全面的售后服务支持,包括设备安装、调试、培训、维修等。同时,我们拥有专业的技术团队和完善的售后体系,能够为用户提供及时、专业的技术支持和解决方案。
总之,M&RRIE去胶机以其高效、稳定、精准的去胶效果和广泛的应用领域,成为微电子、半导体、光电等领域用户的理想选择。
M&R去胶机RIE 去胶机的工作原理介绍
去胶机RIE 去胶机的使用方法?
M&RRIE 去胶机多少钱一台?
去胶机RIE 去胶机可以检测什么?
去胶机RIE 去胶机使用的注意事项?
M&RRIE 去胶机的说明书有吗?
M&R去胶机RIE 去胶机的操作规程有吗?
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企业名称
北京瑞科中仪科技有限公司
企业信息已认证
企业类型
有限责任公司(自然人投资或控股)
信用代码
91110108575212805M
成立日期
2011-05-13
注册资本
500万元人民币
经营范围
技术开发、技术推广、技术服务;计算机技术培训;经济贸易咨询;会议服务;承办展览展示活动;机械设备修理;货物进出口、技术进出口、代理进出口;销售机械设备、仪器仪表、五金交电、电子产品、计算机、软件及辅助设备、化工产品(不含危险化学品及一类易制毒化学品)、医疗器械Ⅰ、Ⅱ类、日用品;销售第三类医疗器械。(企业依法自主选择经营项目,开展经营活动;依法须经批准的项目,经相关部门批准后依批准的内容开展经营活动;不得从事本市产业政策禁止和限制类项目的经营活动。)
北京瑞科中仪科技有限公司
公司地址
北京市昌平区北清路1号院珠江摩尔3号楼2单元16层
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